作业/运输
- B01 一般的物理或化学的方法或装置;
- B02 破碎、磨粉或粉碎;谷物碾磨的预处理
- B03 用液体或用风力摇床或风力跳汰机分离固体物料;从固体物料或流体中分离固体物料的磁或静电分离;高压电场分离〔5〕;
- B04 用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机;
- B05 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
- B06 一般机械振动的发生或传递;
- B07 将固体从固体中分离;分选;
- B08 清洁;
- B09 固体废物的处理;被污染土壤的再生〔3,6〕;
- B21 基本上无切削的金属机械加工;金属冲压;
- B22 铸造;粉末冶金;
- B23 机床;其他类目中不包括的金属加工;
- B24 磨削;抛光;
- B25 手动工具;轻便机动工具;手动器械的手柄;车间设备;机械手;
- B26 手动切割工具;切割;切断;
- B27 木材或类似材料的加工或保存;一般钉钉机或钉U形钉机;
- B28 加工水泥、黏土或石料;
- B29 塑料的加工;一般处于塑性状态物质的加工;
- B30 压力机;
- B31 纸品或纸板或类似纸的方式加工的材料制品制作;纸或纸板或类似纸的方式加工的材料的加工;
- B32 层状产品;
- B33 附加制造技术〔2015.01〕;
- B41 印刷;排版机;打字机;模印机〔4〕;
- B42 装订;图册;文件夹;特种印刷品;
- B43 书写或绘图器具;办公用品;
- B44 装饰艺术;
- B60 一般车辆;
- B61 铁路;
- B62 无轨陆用车辆;
- B63 船舶或其他水上船只;与船有关的设备;
- B64 飞行器;航空;宇宙航行;
- B65 输送;包装;贮存;搬运薄的或细丝状材料;
- B66 卷扬;提升;牵引;
- B67 开启或封闭瓶子、罐或类似的容器;液体的贮运;
- B68 鞍具;家具罩面;
- B81 微观结构技术〔7〕;
- B82 纳米技术〔7〕;
- B99 检索本部其他类目中不包括的技术主题〔8〕;
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最新专利
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MEMS电容结构 公开日期:2024-03-22 公开号:CN220642592U 申请号:CN202322316439.2MEMS电容结构
- 申请号:CN202322316439.2
- 公开号:CN220642592U
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:麦斯塔微电子(深圳)有限公司
本实用新型提供一种MEMS电容结构,包括同心设置的第一电极和第二电极,第一电极包括第一电极锚定部以及交汇于第一电极锚定部的至少一组第一极板;第二电极包括位于第一电极外围的第二电极锚定部以及自第二电极锚定部延伸向第一电极锚定部的至少一组第二极板,每组第二极板包括沿径向排布的多个第二梳齿部,第一极板与第二极板围绕第一电极锚定部设置成使第一梳齿部与第二梳齿部插齿排列,第一梳齿部或第二梳齿部上设置有凸出部,位于第一连接部或第二连接部两侧的凸出部具有相反的凸出方向以将温度引起的电容容值变化相互抵消。本实用新型不仅可降低外部应力/冲击的影响,而且可有效降低电容容值的温度敏感性。- 发布时间:2024-03-25 08:20:07
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一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN115894090A 申请号:CN202211439213.5一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法
- 申请号:CN202211439213.5
- 公开号:CN115894090A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
本发明公开了一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法,包括:制备待加工脆硬材料样品;对硬脆材料样品表面进行辐照改性,对硬脆材料样品表面进行扫描,对目标改性区域进行活化;在无掩模情况下,利用离子刻蚀技术对活化区域进行精准去除,获得亚波长增透结构;超声清洗,洁净空气吹干。本发明使用飞秒激光对硬脆材料表面进行精确辐照,使材料内部的结晶态发生转变,赋予材料表面一定的活性,在无掩模情况下利用离子刻蚀技术对改性区域进行精准去除,在硬脆材料表面获得亚波长增透结构,不但消除了飞秒激光加工过程中碎屑飞溅的影响,同时解决了离子刻蚀手段在面临超高硬度、低化学活性晶体材料时普遍存在的刻蚀效率低下的问题。- 发布时间:2024-03-25 08:03:38
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MEMS装置及其制造方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117735475A 申请号:CN202311036614.0MEMS装置及其制造方法
- 申请号:CN202311036614.0
- 公开号:CN117735475A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:罗姆股份有限公司
本发明涉及一种MEMS装置及其制造方法。本发明提供一种既确保了隔离接头的绝缘性,又防止了隔离接头与空腔底部的接触的MEMS装置。本发明的具备活动部的MEMS装置包含:衬底;凹部,设置在衬底上;活动部,中空地支持在凹部内;以及隔离接头,插入到活动部的规定位置,在其两侧将活动部电绝缘;且凹部的底部与活动部的最短距离小于凹部的底部与隔离接头的距离。与隔离接头相邻的活动部的深度小于隔离接头的深度。活动部包含具有深度的部分,所述深度比隔离接头的深度深。- 发布时间:2024-03-25 07:45:38
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一种MEMS芯片封装结构及制作方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117735477A 申请号:CN202311786248.0一种MEMS芯片封装结构及制作方法
- 申请号:CN202311786248.0
- 公开号:CN117735477A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:苏州园芯微电子技术有限公司
本发明提供了一种MEMS芯片封装结构及制作方法,芯片封装结构包括:相对设置的器件层和衬底层;器件层的第一表面上设置有第一金属体;衬底层的第二表面上设置有第二金属体,在衬底层的厚度方向上第一金属体和第二金属体投影交叠;器件层和衬底层通过第一金属体和第二金属体键合;在第一表面上于第一金属体的四周分别设置至少一个第一挡坝结构,和/或,在第二表面上于第二金属体的四周分别设置至少一个第二挡坝结构,在第一表面和/或第二表面上设置至少一个凹槽,第一挡坝结构和/或第二挡坝结构与同一表面上的凹槽相配合防止键合产生的金属合金外溢。本发明改善了金属共晶键合时外溢的液相合金的溢流路径,避免外溢至芯片功能区。- 发布时间:2024-03-25 07:54:30
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一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN112158794A 申请号:CN202010921867.6一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法
- 申请号:CN202010921867.6
- 公开号:CN112158794A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:杭州探真纳米科技有限公司
一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法,属于微纳机械传感器技术领域。包括以下步骤:1)选用SOI晶片作为原料;2)掩模旋涂完成后,利用光刻机进行曝光,曝光完成后在室温下将样品于专用显影剂下显影,然后将样品坚膜;3)分四步进行反应离子刻蚀。上述一种采用等离子体刻蚀制备原子力显微镜探针阶梯型基底的方法,利用刻蚀图形的不同大小得到不同刻蚀深度,从而通过等离子体刻蚀制造阶梯型结构,实现了等离子体刻蚀的三阶梯AFM探针基底,并且可通过调节曝光图形矩形阵列的边长调控阶梯深度;具有此种阶梯型基底的AFM探针不会阻挡反射激光的光路。- 发布时间:2023-05-24 13:14:30
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一种微颗粒的组装方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN110395689A 申请号:CN201910592268.1一种微颗粒的组装方法
- 申请号:CN201910592268.1
- 公开号:CN110395689A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:金华职业技术学院
本发明涉及新材料研发领域,一种微颗粒的组装方法,微纳颗粒沉积装置包括注射泵、输液管、盖玻片、保护层、微流体层、悬浮液桥、衬底、位移台和显微镜,微流体层包括微孔径、微通道组、主通道和进液口,采用微流体结构并基于毛细管作用,采用特殊设计的微流体结构和可移动的衬底来进行微粒自组装,采用微孔径与可移动衬底,通过形成悬浮液桥来进行微粒自组装,并采用特殊的微流体结构来供给悬浮液,能够在组装过程中连续补充组成成分可调节的悬浮液,操作过程简便,成本较低。- 发布时间:2024-03-25 08:01:57
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一种小间隙金属纳米腔结构、制备方法及设备 公开日期:2024-03-19 公开号:CN113200512A 申请号:CN202110219788.5一种小间隙金属纳米腔结构、制备方法及设备
- 申请号:CN202110219788.5
- 公开号:CN113200512A
- 公开日期:2024-03-19
- 申请人:西湖大学
本发明公开了一种小间隙金属纳米腔结构的制造方法,包括:对粘附在衬底上的金属纳米结构对进行激光照射,使得金属纳米结构熔化,形成球体或半球体结构对,然后固化,最终得到所述小间隙金属纳米腔结构。本发明同时公开了一种由上述方法得到的小间隙金属纳米腔结构。同时公开了能够实施上述方法的设备。本发明利用纳秒脉冲激光将金属纳米结构加热至熔点,使金属纳米结构发生高温熔化。激光脉冲过后,重新固化的金纳米材料逐渐从长方体或椭圆柱演变成为稳定的球体或半球体结构,促使相邻金属纳米结构之间的缝隙被压缩。- 发布时间:2023-06-16 07:23:40
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一种进行微纳米图案化的方法和装置 公开日期:2024-03-19 公开号:CN117720063A 申请号:CN202311729998.4一种进行微纳米图案化的方法和装置
- 申请号:CN202311729998.4
- 公开号:CN117720063A
- 公开日期:2024-03-19
- 申请人:暨南大学
本发明属于微纳尺度图案化技术领域,具体涉及一种进行微纳米图案化的方法和装置。本发明在双层中空玻璃基板上平铺水凝胶溶液,水凝胶预聚后加入待图案化液滴,该液体在界面张力作用下形成待图案化液柱,然后将激光照射到待图案化液柱中,激光波长与液柱的吸收相匹配,产生稳定的流场、温度场及光力场。本发明通过光热产生的对流和光力共同作用,将待图案化颗粒捕获至修饰双层中空玻璃基板内表面预定位置,避免了光力方向产生角度偏差导致的图案位置误差,光热效应还促进了待图案化颗粒周围的水凝胶聚合,进而将待图案化颗粒固定。本发明可以在各种时间和空间分辨率下进行定制,精确快速实现胶体颗粒图案化。- 发布时间:2024-03-25 07:19:06
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一种CGM柔性传感器电极及其制备方法 公开日期:2024-03-19 公开号:CN117720064A 申请号:CN202311751200.6一种CGM柔性传感器电极及其制备方法
- 申请号:CN202311751200.6
- 公开号:CN117720064A
- 公开日期:2024-03-19
- 申请人:江苏鱼跃凯立特生物科技有限公司|||浙江凯立特医疗器械有限公司|||南京鱼跃软件技术有限公司|||江苏跃凯生物技术有限公司
本申请涉及一种CGM柔性传感器电极及其制备方法,属于传感器技术领域。该制备方法包括以下制备步骤:1)提供柔性基底,在其表面沉积金属层;2)在所述金属层上沉积掩蔽层,经光刻、金属腐蚀形成至少两个单独连续连接的金属导线结构,所述金属导线结构包括电极、迹线和接触垫;3)在所述金属导线结构上沉积光敏柔性阻隔膜,经光刻后暴露所述电极;4)在暴露的所述电极上沉积导电材料,获得所述CGM柔性传感器电极;其中,步骤3)中,沉积光敏柔性阻隔膜后,经至少两段温度烘烤,将所述阻隔膜固化。本申请提供的柔性传感器稳定性和一致性高,具有较好的精度又具有较长的使用寿命。- 发布时间:2024-03-25 07:19:56
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具有悬置隔膜的压电MEMS设备及其制造过程 公开日期:2024-03-19 公开号:CN109721022A 申请号:CN201811280031.1具有悬置隔膜的压电MEMS设备及其制造过程
- 申请号:CN201811280031.1
- 公开号:CN109721022A
- 公开日期:2024-03-19
- 申请人:意法半导体股份有限公司
本申请的各实施例涉及具有悬置隔膜的压电MEMS设备及其制造过程。一种MEMS设备,包括:主体,具有第一表面和第二表面;隔膜腔体,在主体内并且从主体的第二表面延伸;可变形部分,在主体内并且在第一表面和隔膜腔体之间;和压电致动器,在主体在第一表面上延伸并且在可变形部分之上。MEMS设备的特征在于其包括凹槽结构,该凹槽结构在主体内延伸并且为可变形部分界定止动器部分。- 发布时间:2024-03-25 07:24:26
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