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• 用于在基板上形成膜的蒸发器腔室 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114144540A 申请号：CN202080052387.9
  PCT发明 用于在基板上形成膜的蒸发器腔室

  • 申请号：CN202080052387.9
  • 公开号：CN114144540A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：应用材料公司

  本文所述的一个或多个实施方式一般涉及在半导体处理中用于在基板上形成膜的方法和系统。在本文所述的多个实施方式中，提供一种处理腔室，包括盖板，具有形成于盖板中的多个冷却通道；基座，具有形成于基座中的多个冷却通道；和喷淋头，其中喷淋头包含多个区段，并且各个区段至少部分被屏蔽物环绕。

  发布时间：2023-04-27 12:58:15

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• 基于磁约束提升热丝CVD沉积金刚石涂层效率的方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN113737153A 申请号：CN202111010792.7
  发明 基于磁约束提升热丝CVD沉积金刚石涂层效率的方法

  • 申请号：CN202111010792.7
  • 公开号：CN113737153A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：嘉兴沃尔德金刚石工具有限公司

  本发明属于金刚石涂层制备技术领域，具体公开了基于磁约束提升热丝CVD沉积金刚石涂层效率的方法，改进型的热丝CVD设备包括依次连接的气源、涂层腔室和真空泵，涂层腔室内设有基台和热丝电极组件，在涂层腔室内设置有磁增强组件，磁增强组件包括磁增强电极以及磁控电源，磁增强电极之间连接有螺旋形热丝；在离解阶段：控制磁控电源向磁增强电极通入0.3～0.5A的交变电流；在沉积阶段：控制磁控电源向磁增强电极通入3～5A的交变电流；在降温阶段：控制磁控电源向磁增强电极通入1～3A的交变电流。采用本发明的方案，带电粒子团在磁场作用下做螺旋运动，延长了粒子的滞留时间，提高了和待涂层刀具的有效碰撞几率，进而提升沉积速率。

  发布时间：2023-07-03 10:48:42

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• 一种用于调试磁控溅射法制备的薄膜均匀性的方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN116162911A 申请号：CN202310163723.2
  发明 一种用于调试磁控溅射法制备的薄膜均匀性的方法

  • 申请号：CN202310163723.2
  • 公开号：CN116162911A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：安徽光智科技有限公司

  本发明提供调试磁控溅射法制备的薄膜均匀性的方法，包括：S1、准备基底；S2、在基底表面溅射镀薄膜；S3、测试薄膜电阻均匀性；S4、根据电阻分布图改变靶基距；S5、更换新基底，重复S2，测试薄膜电阻均匀性；S6、根据S3和S5得的电阻均匀性、目标电阻均匀性及S4靶基距的调节值计算出下一次靶基距调节值并调节；S7、重复S5，若测试电阻均匀性达到目标范围，则终止调节靶基距；若测试电阻均匀性无法达到目标范围，继续重复S6和S5，直至确认制备的薄膜电阻均匀达到目标范围，确定适合的靶基距。该方法简单易行，可在大规模生产薄膜材料前进行调试，在大规模生产时可大幅提高产品均匀性、良率和生产效率，降低难度和成本。

  发布时间：2023-05-28 13:08:50

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• 一种具有渐变膜厚的AR镜片及渐变镀膜方法和AR眼镜 公开日期：2024-06-11 公开号：CN115747748A 申请号：CN202211292975.7
  发明 一种具有渐变膜厚的AR镜片及渐变镀膜方法和AR眼镜

  • 申请号：CN202211292975.7
  • 公开号：CN115747748A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：浙江至格科技有限公司

  本发明提供一种具有渐变膜厚的AR镜片及渐变镀膜方法和AR眼镜，该方法包括：(1)将多个AR镜片固定于镀膜机真空室内的伞架上，并将修正板的一端固定于真空室的内侧壁且随着伞架的转动，修正板的另一端能遮挡任一AR镜片；(2)于修正板下方设置第一光源，利用光投影法确定AR镜片的耦出区域对应在修正板上的位置；(3)于AR镜片上方放置平行光源，利用光投影法观察耦出区域在修正板上的投影，以确定步骤(2)中的位置与投影是否发生偏移；(4)若步骤(2)中的位置与投影未发生偏移，对AR镜片进行真空蒸镀；(5)于步骤(2)中的位置内调整修正板的宽度后再对AR镜片进行真空蒸镀，以实现调整AR镜片的耦出区域的成膜厚度。

  发布时间：2023-06-07 22:02:55

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• 金属表面处理剂及金属表面处理系统 公开日期：2024-06-11 公开号：CN117802485A 申请号：CN202410035122.8
  发明 金属表面处理剂及金属表面处理系统

  • 申请号：CN202410035122.8
  • 公开号：CN117802485A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：安徽应友光电科技有限公司

  本发明公开了金属表面处理剂及金属表面处理系统，涉及金属表面处理技术领域，金属表面处理剂包括硫酸根化合物所组成的混合物A、亚硒酸、钼酸钠、乳化剂、络合剂各组分所占质量百分比如下以及以下组分所形成的处理剂，混合物A 20‑30％、亚硒酸6‑12％、钼酸钠5‑10％、乳化剂12‑20％、络合剂20‑30％。所述混合物A是硫酸铜、硫酸镍、硫代硫酸钠一种或者多种。金属表面处理剂的pH 1.5～2.5。在上述技术方案中，在强酸作用下，钼酸钠的钼酸根缩合,在还原剂混合物A的作用下能迅速参与成膜反应，反应结束后ph值上升，就会开始进行Cu‑S系成膜反应，通过反应产物将钼酸钠系黑色成膜物质稳定地结合在一起,提高了表面硬度和耐磨性以及附着力。

  发布时间：2024-04-04 07:25:10

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• 在晶片的正面上沉积外延层的方法和实施该方法的装置 公开日期：2024-06-11 公开号：CN113950541A 申请号：CN202080039437.X
  PCT发明 在晶片的正面上沉积外延层的方法和实施该方法的装置

  • 申请号：CN202080039437.X
  • 公开号：CN113950541A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：硅电子股份公司

  用于在具有取向切口的晶片的正面上沉积外延层的装置，包括用于保持并使具有基座支撑轴和基座支撑臂的基座旋转的机构；和由基座支撑臂保持并具有向内指向的突起部的环；以及包括基座环的基座，所述基座环具有用于在晶片的背面的边缘区域中支撑晶片的支撑面和与该支撑面相邻的基座环的台阶状外边界，支撑面具有向内指向的突起部。

  发布时间：2023-04-23 09:11:45

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• 一种宽带高透过Al2O3/MgF2双层减反射膜的制备方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114277343A 申请号：CN202011036770.3
  发明 一种宽带高透过Al2O3/MgF2双层减反射膜的制备方法

  • 申请号：CN202011036770.3
  • 公开号：CN114277343A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：天津工业大学

  本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种以Al2O3和MgF2为靶材用磁控溅射法制备宽带高透过双层Al2O3/MgF2减反射膜的方法，其特征在于先在玻璃衬底上溅射Al2O3膜层，以高纯O2作为反应气体掺入到工作气体Ar中，选择适当的射频溅射功率和溅射工作压力，使Al2O3膜层的O/Al的原子比高于理想的化学计量1.5∶1，折射系数远低于正常Al2O3的折射率，也低于玻璃衬底的折射率，可以实现减反射作用；然后在Al2O3膜层表面溅射折射率更低的MgF2膜层，进一步提高了玻璃衬底在300‑1100nm波长范围内的透光率。

  发布时间：2023-05-05 09:38:57

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• 一种碳化钽涂层的制备方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN117587361A 申请号：CN202311600772.4
  发明 一种碳化钽涂层的制备方法

  • 申请号：CN202311600772.4
  • 公开号：CN117587361A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：苏州清研半导体科技有限公司

  本申请涉及碳化钽涂层的制备方法，包括：S1、将碳基基材放入磁控溅射设备的腔室内的基台上；S2、将腔室抽取真空，并充入气氛；S3、驱动基台旋转，启动钽靶，在碳基基材上沉积第一涂层至第一沉积时间；S4、维持钽靶功率，引入碳源并逐渐增加碳原子含量，在第一涂层上沉积第二涂层至第二沉积时间；S5、维持钽靶功率和碳原子含量，在第二涂层上沉积第三涂层至第三沉积时间，得到具有涂层的碳基基材；S6、将具有涂层的碳基基材取出后放入高温炉进行保温处理使得碳基基材、第一涂层、第二涂层和第三涂层中的碳和钽反应，得到致密且应力小的碳化钽涂层，同时碳化钽涂层与碳基基材的结合强度大，该制备方法成本低，能够在较短时间内完成。

  发布时间：2024-03-02 07:37:25

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• 一种多元合金共渗剂及其制备方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114574801A 申请号：CN202210230659.0
  发明 一种多元合金共渗剂及其制备方法

  • 申请号：CN202210230659.0
  • 公开号：CN114574801A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：福建宏贯路桥防腐科技股份有限公司

  一种新型多元合金共渗剂及其制备方法，多元合金共渗剂包括如下重量份数的组分：复合锌铝合金粉42～52份、复合锌镁合金粉28～36份、铝粉4～5份、铬粉4～5份、稀土元素化合物粉末2～3份、分散剂25～35份、助渗剂3～5份。将复合锌铝合金粉、复合锌镁合金粉、铝粉、铬粉、稀土元素化合物粉末混合均匀，球磨后加入助渗剂混合均匀，再次球磨后加入分散剂混合均匀，最后在惰性气氛保护下80～120℃烘干即得。本发明的多元合金共渗剂，原料广泛、渗剂活性高、渗速快、原料利用率高，渗层厚度与显微硬度更大，与金属构件的结合力更强，所得渗层表面性能优异，能有效减缓铸件的腐蚀。

  发布时间：2023-05-12 11:55:48

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• 一种高温耐磨自润滑涂层材料、其制备方法、涂层及其制备方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114908312A 申请号：CN202210740082.8
  发明 一种高温耐磨自润滑涂层材料、其制备方法、涂层及其制备方法

  • 申请号：CN202210740082.8
  • 公开号：CN114908312A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：清华大学|||中国航发北京航空材料研究院

  本发明提供的涂层材料组分包括：Cr2O330～60wt％；Cu2～10wt％；Mo2～10wt％；余量为MCrAlYX合金，M为Co和/或Ni，X为Ta和/或Si。本发明提供的涂层材料以MCrAlYX合金作为粘接相，以Cr2O3作为硬质相，可在1000℃稳定服役，实现涂层优异的抗高温氧化性、涂层致密性和高温耐磨性；同时，通过添加一定量的Cu和Mo作为润滑剂，可在低温时提供出色的润滑性能，在高温时生成复合氧化物进一步起到润滑效果，并配合硬质相和粘接相生成的釉质氧化物，大大减少涂层的磨损率。实验结果表明，相比于未喷涂的GH4065A合金基体，表面喷涂本发明涂层材料后的磨损率降低了36倍以上。

  发布时间：2023-05-20 11:08:20

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