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• 镁合金封闭增强剂及封闭增强处理工艺 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114525501A 申请号：CN202111642372.0
  发明 镁合金封闭增强剂及封闭增强处理工艺

  • 申请号：CN202111642372.0
  • 公开号：CN114525501A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：广东瀚泽新材技术有限公司

  本发明属于金属表面处理技术领域，公开了一种镁合金封闭增强剂及封闭增强处理工艺，其中所述镁合金封闭增强剂包括以下组分：脂肪酸1～50g/L、醇类2～100g/L、有机胺为5～100g/L、络合剂0.1～5g/L、无机碱0.5～10g/L、钒盐0.2～10g/L。在各组分协同作用下，镁合金工件在经过封闭增强剂处理后能够显著增强镁合金工件的耐腐蚀性能，镁合金工件表面的电阻稳定性及涂料或辅料在镁合金表面的附着稳定性。

  发布时间：2023-05-10 11:51:11

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• 一种基于化学气相沉淀法的纳米材料生长控制系统及方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN117845197A 申请号：CN202410262445.0
  发明 一种基于化学气相沉淀法的纳米材料生长控制系统及方法

  • 申请号：CN202410262445.0
  • 公开号：CN117845197A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：河套学院

  本发明涉及纳米材料技术领域，公开了一种基于化学气相沉淀法的纳米材料生长控制系统及方法，包括：气相反应控制模块，确保反应物和载气的流量比例和检测并实时调整反应气体的浓度；温度控制模块，控制反应室的温度，并根据反应情况实时调整反应室温度；反馈控制模块，使用传感器监测反应室中的参数，包括温度、气体流量，并将参数反馈发送至主控制器；沉淀物收集模块，实时监测沉淀物的质量，实时调整反应条件；主控制器：根据反馈控制模块发送到参数进行实时数据分析，来调整反应参数来对纳米材料生产进行控制，反应参数包括加热功率和气体流量；安全模块，用于检测气体泄漏并处理。通过各个模块的配合来更好的控制个体的一致性和可重复性。

  发布时间：2024-04-11 07:37:04

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• 一种CIGS共蒸设备的高稳定传动系统 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114686838A 申请号：CN202210310447.3
  发明 一种CIGS共蒸设备的高稳定传动系统

  • 申请号：CN202210310447.3
  • 公开号：CN114686838A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：尚越光电科技股份有限公司

  本发明涉及一种CIGS共蒸设备的高稳定传动系统，解决CIGS共蒸设备基底卷材的传送不稳定会极大影响CIGS吸收层膜层成型的均匀性的问题。本系统包括真空腔，真空腔内设置放卷轴、收卷轴以及若干输送辊，放卷轴和收卷轴之间依次沿各输送辊输送基底卷材，基底卷材的下方设置蒸发源，靠放卷轴一端的其中一个输送辊为设有转速传感器的转速辊，靠近收卷轴一端的其中一个输送辊为张紧辊，所述放卷轴连接设置可独立控制的放卷伺服电机，所述收卷轴连接设置可独立调节的收卷伺服电机。本发明通过放卷端的速度、张力双控制，减少基底卷材波动；输送辊采用腰型设计自动纠偏；不同阶段的不同速度和张力控制，减少基底卷材的浪费，并确保稳定状态时波动控制在设计范围内。

  发布时间：2023-05-14 12:29:35

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• 多弯曲和增强部件的冷喷涂增材制造的设备、方法和产品 公开日期：2024-06-11 公开号：CN113430512A 申请号：CN202110286902.6
  发明 多弯曲和增强部件的冷喷涂增材制造的设备、方法和产品

  • 申请号：CN202110286902.6
  • 公开号：CN113430512A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：波音公司

  本申请涉及用于多弯曲和增强部件的冷喷涂增材制造的设备、方法和产品。实施方式提供了通过冷喷涂到模具上来制造复杂多曲率零件(“CMCP”)的基于冷喷涂增材制造(“CSAM”)的方法。实施方式实现了具有可变表面厚度的CMCP的期望形状和尺寸，并且利用了在CSAM期间集成的增强件。一旦完成制造，增强件就与每个CMCP成一体，保持刚度，避免颤动，并且提供其他类似的优点。实施方式提供了具有多个曲率的刚性CMCP，其具有完全可控的可变厚度。在制造期间添加的整体增强件通过避免将非增强CMCP联接到增强件或其他制造后调节来避免公差问题。具有直接集成的增强件的基于CSAM的CMCP表现出优异的公差，其在制造之后不需要改进或以其他方式校正。

  发布时间：2023-06-23 08:18:50

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• 一种耐腐蚀复合钢板及其制备工艺 公开日期：2024-06-11 公开号：CN116875938A 申请号：CN202310873081.5
  发明 一种耐腐蚀复合钢板及其制备工艺

  • 申请号：CN202310873081.5
  • 公开号：CN116875938A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：淮安市淮宁钢结构有限公司

  本发明涉及钢板技术领域，具体是一种耐腐蚀复合钢板及其制备工艺。本发明通过对钢水进行加工处理，制备得到钢板；再以硅粉、硅铁粉、煤矸石粉为主渗剂对钢板进行加热渗硅，制备得到改性钢板；对改性钢板进行预处理，预处理后在钢板表面涂覆涂料，制备得到成品。本发明通过对钢板表面进行粉末包埋法加热渗硅，能够显著提升钢板的耐腐蚀性和强度；再对钢板表面涂覆涂料，经该涂料涂覆后的钢板具有良好的耐水性、阻燃性和耐腐蚀性。

  发布时间：2023-10-16 07:25:16

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• 用于CVD反应器的基座的加热装置 公开日期：2024-06-11 公开号：CN113840944A 申请号：CN202080036724.5
  PCT发明 用于CVD反应器的基座的加热装置

  • 申请号：CN202080036724.5
  • 公开号：CN113840944A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：艾克斯特朗欧洲公司

  本发明涉及一种用于加热CVD反应器(10)的基座的装置(1)，所述装置具有至少三个基本上相同尺寸的、围绕中心(Z)布置的加热面(2)。所述加热面(2)由在平面中在构成并排地延伸的边腿(4)的情况下蜿蜒地延伸的加热元件(3)构成。重要的是，所述边腿(4)具有边腿区段(5)，所述边腿区段平行于边界线(a、b、c)延伸，所述边界线沿着在径向上在加热面(2)之间延伸的边界延伸。这样构造的加热装置由圆弧形的第二加热装置包围。

  发布时间：2023-07-06 11:03:56

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• 一种金属齿轮表面处理后的清洗装置 公开日期：2024-06-11 公开号：CN117646222A 申请号：CN202410117691.7
  发明 一种金属齿轮表面处理后的清洗装置

  • 申请号：CN202410117691.7
  • 公开号：CN117646222A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：靖江市润新建设有限公司

  本发明公开一种金属齿轮表面处理后的清洗装置，涉及齿轮加工技术领域，包括清洗台，清洗台顶端左右两侧均固定有齿轮放置机构，清洗台顶端通过前后对称分布的支撑板固定有顶板；本发明通过驱动盒底端的L型夹板对金属齿轮进行夹持吊接，同时利用取卷机驱动滑板带动第一气缸和升降板横向位移，从而实现对金属齿轮清洗过程中的自动上料、自动清洗和自动下料，自动化程度较高，且便于调节，能在一定范围内很好的适用于不同规格尺寸的金属齿轮进行装夹吊接和清洗，适用性较高，另外在两组支撑板内侧依次对金属齿轮进行初步滚刷清理、喷淋冲洗、滚动刷洗和二次滚刷清理，通过多种清洁方式的结合，使金属齿轮得到更为全面充分的清洗。

  发布时间：2024-03-11 07:14:33

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• 离子束溅射镀膜方法、靶材安装结构及离子束溅射设备 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114318274A 申请号：CN202111652136.7
  发明 离子束溅射镀膜方法、靶材安装结构及离子束溅射设备

  • 申请号：CN202111652136.7
  • 公开号：CN114318274A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：佛山市博顿光电科技有限公司|||中山市博顿光电科技有限公司

  本申请涉及一种离子束溅射镀膜方法、靶材安装结构及离子束溅射设备，所述方法包括：在靶材背板的安装位置上分别放置多种靶材；其中，所述靶材背板平面以分区形式设置多个靶材安装位置；控制离子源以设定工艺参数输出离子束，轰击所述靶材背板上的靶材进行溅射镀膜；根据镀膜薄膜的参数要求计算所述靶材背板相对于离子源的位移数据；根据所述位移数据控制所述离子源与靶材背板产生平面相对运动，以调整所述离子束轰击各种靶材的比例；该技术方案中，可以实现多种不同靶材材料的蒸发镀膜方案，可以实现材料折射率实现渐变工艺，提高产品光谱特性，具有更好的镀膜效果；而且镀膜过程的可控性高，无需暂停离子源工作，控制逻辑简单，可控性强。

  发布时间：2023-05-06 10:06:04

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• 半导体器件的制造方法、衬底处理方法、记录介质及衬底处理装置 公开日期：2024-06-11 公开号：CN114561630A 申请号：CN202111415512.0
  发明 半导体器件的制造方法、衬底处理方法、记录介质及衬底处理装置

  • 申请号：CN202111415512.0
  • 公开号：CN114561630A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：株式会社国际电气

  本发明涉及半导体器件的制造方法、衬底处理方法、记录介质及衬底处理装置。提供能够使衬底上形成的膜的阶差被覆性、衬底面内膜厚均匀性提高的技术。具有通过将包括下述(a)和(b)的循环进行规定次数从而在上述衬底上形成膜的工序，(a)从原料气体供给管线向收容有衬底(其表面设置有凹部)的处理室内供给原料气体工序，(b)向收容有衬底的处理室内供给反应气体的工序，在(a)中，分多次向衬底供给原料气体，在最初供给原料气体时，将原料气体预先填充于设置在原料气体供给管线上的贮留部内之后再向处理室内供给，在第2次以后的原料气体的供给前，将处理室内排气。

  发布时间：2023-05-12 11:42:57

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• 基板处理装置和基板处理方法 公开日期：2024-06-11 公开号：CN112239859A 申请号：CN202010661852.0
  发明 基板处理装置和基板处理方法

  • 申请号：CN202010661852.0
  • 公开号：CN112239859A
  • 公开日期：2024-06-11
  • 申请人：东京毅力科创株式会社

  本发明提供基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置抑制在设于处理容器内部的喷射器旋转时产生颗粒，具有：处理容器；喷射器，设于处理容器内部，呈沿长度方向延伸的形状，供给处理气体；保持架，固定于喷射器；风车，固定于保持架；第1驱动用气体供给部，供给使风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，供给使风车向与一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；驱动用气体控制部，控制第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，利用驱动用气体控制部的控制，自第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部中的至少一者供给驱动用气体使风车旋转，而使喷射器以长度方向为轴线旋转。

  发布时间：2023-05-28 11:59:31

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