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• 一种通过共价键或配位键合成的一维有机纳米管及方法 公开日期：2023-04-18 公开号：CN114249295A 申请号：CN202011022155.7
  发明 一种通过共价键或配位键合成的一维有机纳米管及方法

  • 申请号：CN202011022155.7
  • 公开号：CN114249295A
  • 公开日期：2023-04-18
  • 申请人：中国科学院理化技术研究所

  本发明公开了一种通过共价键或配位键合成的一维有机纳米管及方法。所述一维有机纳米管通过以下结构的芴‑氮杂[16]环番大环分子构筑基元通过共价键或配位键组装：其中，R1为C1‑C30的烷基、苯基、取代苯基；Y代表连接基团；Z代表组装成键基团，相邻构筑基元所带有的Z基团不同，且相互之间形成共价键或配位键连接，相邻构筑基元所带有的Z基团成对的为胺基‑醛基、肼‑羧基、胺基‑羧基、邻二酚‑硼酸或硼酸酯、吡啶或多联吡啶‑Pt(II)或Pd(II)基团；所述共价键包括亚胺键、酰胺键、酰肼、酯、硼酸酯；配位键包括吡啶‑铂(II)/钯(II)、多联吡啶‑铂(II)/钯(II)。

  发布时间：2023-05-24 09:39:38

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• 一种防串扰自限制的超细密排晶硅纳米线制备方法 公开日期：2023-06-06 公开号：CN113968571A 申请号：CN202111227324.5
  发明 一种防串扰自限制的超细密排晶硅纳米线制备方法

  • 申请号：CN202111227324.5
  • 公开号：CN113968571A
  • 公开日期：2023-06-06
  • 申请人：南京大学

  本发明公开了一种防串扰自限制的超细密排晶硅纳米线制备方法，包括如下步骤：1）采用旋涂的方法在衬底上旋涂一层电刻胶；2）利用电子束直写对预设形状的无掩膜图案进行曝光，电刻胶变性成为二氧化硅，曝光后形成由宽激活生长区域沟道和窄密排沟道构成的闭合沟道；3）以步骤2）所形成的闭合沟道为衬底，再次利用光刻电子束直写或者掩膜板技术在所述宽激活生长区域定义横向于沟道的图案并进行显影，以定义催化剂区域；4）在定义的催化剂区域淀积一层带状的催化金属层。本发明通过激活生长逐渐转变为限制引导，能够实现100%长线率，同时更为严格地控制纳米线的直径及生长路径并具有更高地晶格质量。

  发布时间：2023-04-24 09:20:03

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• 一种可抗超大应变的高灵敏全石墨烯人造电子皮肤 公开日期：2023-06-23 公开号：CN113998666A 申请号：CN202111226499.4
  发明 一种可抗超大应变的高灵敏全石墨烯人造电子皮肤

  • 申请号：CN202111226499.4
  • 公开号：CN113998666A
  • 公开日期：2023-06-23
  • 申请人：北京理工大学

  本发明公开了一种可抗超大应变的高灵敏全石墨烯人造电子皮肤，包括柔性衬底、由低密度形核石墨烯制得的电极图形阵列、由高密度形核石墨烯制得的具有灵敏力学响应的沟道；所述电极图形阵列和所述沟道均设置于所述柔性衬底的表面，相对应的两个电极通过沟道相连通；本发明的有益效果为：本发明所述人造电子皮肤可大面积制备为其在人造电子皮肤的加工上提供了可能，可批量生产机械性能稳定的器件阵列，且保证了全石墨烯人造电子皮肤可承受超大应变情况下也不发生断裂，大大提高了基于石墨烯的人造电子皮肤对外界应变响应的灵敏因子；其制备流程与现有的半导体加工工艺也是兼容的，即本发明所述人造电子皮肤具有很好的应用潜力和广泛的应用价值。

  发布时间：2023-04-24 09:44:31

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• 一种石墨烯量子点阵列的微纳复合制备方法 公开日期：2023-07-21 公开号：CN114014262A 申请号：CN202111191935.9
  发明 一种石墨烯量子点阵列的微纳复合制备方法

  • 申请号：CN202111191935.9
  • 公开号：CN114014262A
  • 公开日期：2023-07-21
  • 申请人：电子科技大学

  本发明提供了一种石墨烯量子点阵列的微纳复合制备方法，属于光电技术领域。采用化学气相沉积法制备石墨烯薄膜，然后采用EBL光刻工艺完成石墨烯表面牺牲层及纳米阵列结构的初加工，保证量子点阵列的均匀性；然后进行FIB雕刻修饰，去除腐蚀过程中出现的棱边缺陷结构，降低棱边粗糙度，保证石墨烯量子点阵列的光洁性；最后腐蚀去除表面牺牲层，得到最后的石墨烯量子点阵列结构。本发明提出的表面牺牲层EBL辅助FIB加工技术是一种高精度微纳阵列加工技术，具有加工精度高、均匀性好、粗糙度低等特点，可广泛应用于微纳结构光电传感集成器件微加工制造；形成的石墨烯量子点阵列，对近红外波段具有吸收峰，可作为一种石墨烯量子点阵列的消光器件。

  发布时间：2023-04-24 09:53:37

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• 一种光学物理不可克隆函数器件及制备方法 公开日期：2022-02-08 公开号：CN114014263A 申请号：CN202111295091.2
  发明 一种光学物理不可克隆函数器件及制备方法

  • 申请号：CN202111295091.2
  • 公开号：CN114014263A
  • 公开日期：2022-02-08
  • 申请人：中国工程物理研究院电子工程研究所

  本发明公开了一种光学物理不可克隆函数器件，包括衬底；位于衬底一侧表面的混沌超表面；混沌超表面对衬底设置的双层薄膜轰击刻蚀产生的混沌超表面；混沌超表面复合有量子点。利用离子束对双层纳米薄膜轰击刻蚀过程中发生的辐射化学反应来产生大面积的混沌超表面，该混沌超表面形成的混沌纳米网的不同位置的节点表现出不同的分支模式，呈现出类似指纹特征的脊端和分叉，该混沌超表面的网格具有随机性。通过混沌超表面对量子点的发光行为进行裁剪，表面等离激元效应使得量子点的荧光散斑与寿命对超表面的位置敏感，使得光学物理不可克隆函数器件可以发出无法被精确复制的光信号。本发明还提供了一种制备方法，同样具有上述有益效果。

  发布时间：2023-04-25 09:29:05

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• 一种超高真空二维材料制备系统及制备方法 公开日期：2022-02-18 公开号：CN114057159A 申请号：CN202111366454.7
  发明 一种超高真空二维材料制备系统及制备方法

  • 申请号：CN202111366454.7
  • 公开号：CN114057159A
  • 公开日期：2022-02-18
  • 申请人：仪晟科学仪器（嘉兴）有限公司

  本发明提供一种超高真空二维材料制备系统及制备方法，旨在解决现有的用机械剥离法制备二维材料的方式一般都在大气环境下进行，大气下的氧气很容易将二维材料氧化，进而改变所制备的二维材料的性质，无法获得准确二维材料观测和检测数据的问题，超高真空二维材料制备系统包括系统支架，所述系统支架上通过固定架安装有超高真空腔体，超高真空腔体的内腔中设有用于二维材料样品在超高真空环境下制备的二维材料操作机构，且超高真空腔体上设有：真空腔门；长焦显微镜；真空泵组，用于对超高真空腔体的内腔抽真空；真空计；观察窗；样品架传样杆；样品抓手传样杆。本发明尤其适用于二维材料的精细制备，具有较高的社会使用价值和应用前景。

  发布时间：2023-04-26 09:40:44

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• 一种基于DNA分子组装纳米图案的方法 公开日期：2023-05-23 公开号：CN114084871A 申请号：CN202111366278.7
  发明 一种基于DNA分子组装纳米图案的方法

  • 申请号：CN202111366278.7
  • 公开号：CN114084871A
  • 公开日期：2023-05-23
  • 申请人：电子科技大学长三角研究院（湖州）

  本发明提供了一种基于DNA分子组装纳米图案的方法，包括以下步骤：步骤一、在载玻片上通过聚乙二醇添加生物素，形成生物素层；步骤二、培育出可折叠和展开的发夹式DNA，所述发夹式DNA的形态在折叠和展开之间变化，将发夹式DNA转移到生物素层上；步骤三、根据预设的纳米图案，确定生物素层上每个目标点的位置，寻找每个目标点内唯一处于折叠态的发夹式DNA，并使其处于永久折叠状态；步骤四、在处于永久折叠状态下的发夹式DNA上添加纳米颗粒，最终得到预期的纳米图案。本发明的方法可以实现百纳米以内的分辨率设计，为纳米图案、纳米尺寸功能器件的制备提供了一种廉价的、简单的方法。

  发布时间：2023-04-26 10:00:45

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• 天线结构、发光装置和设计天线结构的方法 公开日期：2023-05-02 公开号：CN116057004A 申请号：CN202080102795.0
  PCT发明 天线结构、发光装置和设计天线结构的方法

  • 申请号：CN202080102795.0
  • 公开号：CN116057004A
  • 公开日期：2023-05-02
  • 申请人：马克斯·普朗克科学促进学会|||华中科技大学

  本发明涉及天线领域，本发明的一个实例涉及到一种引导光定向辐射的天线结构(10)。天线结构(10)包括具有反射面(12a)的反射器(12)、布置在反射面(12a)上并沿着垂直于反射面的中心轴(100)同心延伸的环形介质光栅(14)和被环形介质光栅(14)所包围的低折射率中心区域(18)形成的全向反射器。天线结构(10)可以使得从低折射率中心区域(18)沿着中心轴(100)出射到介质光栅(14)上方的光相对于高斯光束的投影效率η达到至少65％。本发明的其他实例还涉及到一种发光装置(22)和设计天线结构(10)的方法。

  发布时间：2023-05-14 10:01:18

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• 试样支承体 公开日期：2023-05-02 公开号：CN116057005A 申请号：CN202180055488.6
  PCT发明 试样支承体

  • 申请号：CN202180055488.6
  • 公开号：CN116057005A
  • 公开日期：2023-05-02
  • 申请人：浜松光子学株式会社

  本发明提供一种试样支承体，该试样支承体用于试样成分的电离，该试样支承体具备：基板，其具有第一表面及在第一表面开口的多个孔；以及导电层，其在第一表面上以不堵塞孔的方式设置，其中，导电层由多个纳米颗粒构成，且具有30nm以上的厚度。

  发布时间：2023-05-14 10:02:39

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• 钛酸锶微粒 公开日期：2023-05-02 公开号：CN116057006A 申请号：CN202180056602.7
  PCT发明 钛酸锶微粒

  • 申请号：CN202180056602.7
  • 公开号：CN116057006A
  • 公开日期：2023-05-02
  • 申请人：阪田油墨株式会社

  本发明提供一种平均粒径小、结晶性和分散性优异的钛酸锶微粒。所述钛酸锶微粒是球形并且采用激光衍射·散射型粒度分布测量机测量的平均粒径(D50)为10nm～30nm。

  发布时间：2023-05-14 10:02:45

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