发明

一种可控厚度的卯榫结构纳米孔的制备方法

2023-05-10 10:30:28 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210193792.3
  • 公开(公告)日:2023-05-02
  • 公开(公告)号:CN114572931A
  • 申请人:中国科学院重庆绿色智能技术研究院
摘要:本发明提供了一种可控厚度的卯榫结构纳米孔的制备方法,其制备的可控厚度的卯榫结构纳米孔为基于近零厚度纳米孔的卯榫结构纳米孔,其包括上下两个垂直的纳米通道和中间一个纳米孔,所述可控厚度的卯榫结构纳米孔通过二氟化氙XeF2刻蚀上下两层硅纳米线形成两个垂直的纳米通道。本发明可控厚度的卯榫结构纳米孔通过调节中间纳米孔的厚度可以调节该纳米孔的空间分辨率;通过增加上下两层纳米通道的厚度,提高了纳米孔的信噪比和稳定性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114572931 A (43)申请公布日 2022.06.03 (21)申请号 202210193792.3 (22)申请日 2022.02.28 (71)申请人 中国科学院重庆绿色智能技术研究 院 地址 400714 重庆市北碚区方正大道266号 (72)发明人 张小玲 王德强 刘业香 何石轩  谢婉谊 方绍熙 殷博华  (74)专利代理机构 北京汉迪信和知识产权代理 事务所(普通合伙) 16085 专利代理师 赵景焕 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) C12Q 1/6869 (2018.01) B82Y 40/00 (2011.01) B82Y 15/00 (2011.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种可控厚度的卯榫结构纳米孔的制备方 法 (57)摘要 本发明提供了一种可控厚度的卯榫结构纳 米孔的制备方法,其制备的可控厚度的卯榫结构 纳米孔为基于近零厚度纳米孔的卯榫结构纳米 孔,其包括上下两个垂直的纳米通道和中间一个 纳米孔,所述可控厚度的卯榫结构纳米孔通过二 氟化氙XeF 刻蚀上下两层硅纳米线形成两个垂 2 直的纳米通道。本发明可控厚度的卯榫结构纳米 孔通过调节中间纳米孔的厚度可以调节该纳米 孔的空间分辨率;通过增加上下两层纳米通道的 厚度,提高了纳米孔的信

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