一种超高真空二维材料制备系统及制备方法
- 申请专利号:CN202111366454.7
- 公开(公告)日:2022-02-18
- 公开(公告)号:CN114057159A
- 申请人:仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114057159 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202111366454.7 (22)申请日 2021.11.18 (71)申请人 仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司 地址 314001 浙江省嘉兴市南湖区亚太路 906号(中科院三期)17号楼2楼203室 (72)发明人 王文杰 (74)专利代理机构 杭州衡峰知识产权代理事务 所(普通合伙) 33426 代理人 陈修伟 (51)Int.Cl. B82B 3/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图6页 (54)发明名称 一种超高真空二维材料制备系统及制备方 法 (57)摘要 本发明提供一种超高真空二维材料制备系 统及制备方法,旨在解决现有的用机械剥离法制 备二维材料的方式一般都在大气环境下进行,大 气下的氧气很容易将二维材料氧化,进而改变所 制备的二维材料的性质,无法获得准确二维材料 观测和检测数据的问题,超高真空二维材料制备 系统包括系统支架,所述系统支架上通过固定架 安装有超高真空腔体,超高真空腔体的内腔中设 有用于二维材料样品在超高真空环境下制备的 二维材料操作机构,且超高真空腔体上设有:真 空腔门;长焦显微镜;真空泵组,用于对超高真空 A 腔体的内腔抽真空;真空计;观察窗;样品架传样 9 杆;样品抓手传样杆。本发明尤其适用于二维材 5 1 7 料的精细制备,具有较高的社会使用价值和应用 5 0 4
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