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• 一种金相侵蚀剂及金相组织显示方法 公开日期：2024-10-18 公开号：CN116083908A 申请号：CN202211586876.X
  发明 一种金相侵蚀剂及金相组织显示方法

  • 申请号：CN202211586876.X
  • 公开号：CN116083908A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：万华化学集团股份有限公司

  本发明公开一种金相侵蚀剂及金相组织显示方法。所述金相侵蚀剂包括以下组分：盐酸、过氧化叔丁基丙烷、乙醇、水。本发明采用过氧化叔丁基丙烷替代硝酸、硫酸等侵蚀剂配方，能够腐蚀晶界，晶界显示清晰，不易侵蚀过度，对晶粒内部的侵蚀较小，显示镍钼合金金相组织的效果。

  发布时间：2023-05-12 11:07:37

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• 一种超声半固态辊锻复合激光熔覆成形方法和装置 公开日期：2024-10-18 公开号：CN114318331A 申请号：CN202111635006.2
  发明 一种超声半固态辊锻复合激光熔覆成形方法和装置

  • 申请号：CN202111635006.2
  • 公开号：CN114318331A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：浙江工业大学

  本发明公开了一种超声半固态辊锻复合激光熔覆成形方法和装置，该装置包括激光工作机构，超声振动机构和轧辊机构，在工件的下方为超声振动板，超声振动板通过电缆连接超声发生器，轧辊机构与激光工作机构相连，在激光熔覆之后，轧辊的同步运动对熔覆层半固态进行高频微锻造；本发明利用超声本身的空化效应、声流效应，以及轧辊对熔覆层的直接接触从根本上改变熔覆层的微观组织结构，达到细化晶粒、去除气孔、降低残余应力的效果；本发明首次将超声振动与半固态辊压高频微锻造应用于激光金属半固态成形过程，利用超声振动与高频微锻造多方面的辅助作用改善了熔覆层表面成形效果，提高了工艺质量，从而获得组织细化，表面形貌良好的成形表面。

  发布时间：2023-05-06 10:04:20

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• 一种薄膜蒸镀装置 公开日期：2024-10-18 公开号：CN113981408A 申请号：CN202111340957.7
  发明 一种薄膜蒸镀装置

  • 申请号：CN202111340957.7
  • 公开号：CN113981408A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：重庆金美新材料科技有限公司

  本发明公开了一种薄膜蒸镀装置，包括真空腔体，所述真空腔体包括顶端开口的本体和设置到所述本体的开口端的盖板，所述本体具有相对的第一侧壁和第三侧壁、相对的第二侧壁和第四侧壁，还包括设置到所述本体内的第一辊筒组件，所述第一辊筒组件设有至少一个第一辊组件；所述第一辊组件包括分别与所述第一侧壁相对的第一放卷辊、第一过辊、第二过辊、第三过辊和第一收卷辊；所述本体的内部设有用于对薄膜的A面和B面分别进行蒸镀的第一下部蒸发源和第一上部蒸发源。本发明可实现薄膜的两面的镀膜工作，生产效率高，生产成本低，生产时间少，生产场地的占用空间小。

  发布时间：2023-04-24 09:37:23

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• 一种小口径金属管内壁表面制备阻氢涂层的方法及装置 公开日期：2024-10-18 公开号：CN115821213A 申请号：CN202211485998.X
  发明 一种小口径金属管内壁表面制备阻氢涂层的方法及装置

  • 申请号：CN202211485998.X
  • 公开号：CN115821213A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：北京工业大学

  本发明公开一种小口径金属管内壁表面制备阻氢涂层的方法及装置，包括以下步骤：将金属管和热源置于真空蒸镀仓内，打开水冷管路并对真空蒸镀仓进行洗气后，将真空蒸镀仓内腔抽真空；调整电源电流使置于真空蒸镀仓内的热源发热，使热源表面辅助附着的镀层蒸发附着在金属管内；将附着有镀层的金属管置于马弗炉内氧化，制备氧化层。本发明采用干法镀铝，真空蒸镀装置可通过施加大电流，在短时间内在小口径金属管内壁沉积一定厚度的涂层。有效解决了常规等离子喷涂等方法无法在小口径金属管内壁无法沉积阻氢涂层的问题。

  发布时间：2023-06-01 07:09:17

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• 一种改善石英晶圆双面膜层致密度一致性的方法 公开日期：2024-10-18 公开号：CN115747735A 申请号：CN202211139409.2
  发明 一种改善石英晶圆双面膜层致密度一致性的方法

  • 申请号：CN202211139409.2
  • 公开号：CN115747735A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：北京晨晶电子有限公司

  本发明涉及石英材料，具体涉及一种改善石英晶圆双面膜层致密度一致性的方法。所述方法包括在温度T1下对石英晶圆进行第一次预热，时长t1；进行除气，设定温度T2，时长t2；在所述石英晶圆的一面进行沉积；将完成第一次沉积的石英晶圆取出，在温度T3下对其进行第二次预热，时长t3；进行除气，设定温度T4，时长t4；在所述石英晶圆的另一面进行沉积。本发明通过在两面成膜前额外进行两次温度不同的预热，精确控制基材温度进而改善双面膜层致密度一致性。

  发布时间：2023-06-07 22:01:11

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• 一种真空蒸镀试验装置及其方法 公开日期：2024-10-18 公开号：CN115679268A 申请号：CN202211430510.3
  发明 一种真空蒸镀试验装置及其方法

  • 申请号：CN202211430510.3
  • 公开号：CN115679268A
  • 公开日期：2024-10-18
  • 申请人：上海大学

  本发明公开一种真空蒸镀试验装置及其方法，涉及金属真空蒸镀试验设备技术领域，包括真空腔和透明容器，真空腔通过底部的开口与透明容器连通；真空腔连通有真空泵，真空腔内部设置有待镀金属试样；透明容器上设置有用于对其加热的第一加热机构，透明容器内部盛有蒸发金属试样，且透明容器在与真空腔的连接位置设置有易断部；本发明通过设置石英坩埚，将蒸发金属试样的蒸发腔转移至真空腔的外部，工作人员能够通过透明的石英坩埚对蒸发金属试样的蒸发过程进行观察；并且透明容器具有易断部，蒸发完成后可以通过破坏易断部使得石英坩埚脱落，金属蒸汽不会回流至石英坩埚中，从而降低了蒸发金属试样的残留，利于蒸发金属试样蒸发量的准确获取。

  发布时间：2023-06-12 12:03:08

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• 一种截齿及激光熔覆制备截齿的方法 公开日期：2024-10-15 公开号：CN116855937A 申请号：CN202310992881.9
  发明 一种截齿及激光熔覆制备截齿的方法

  • 申请号：CN202310992881.9
  • 公开号：CN116855937A
  • 公开日期：2024-10-15
  • 申请人：山东镭研激光科技有限公司

  本发明涉及金属激光熔覆技术领域，具体涉及一种截齿及激光熔覆制备截齿的方法。截齿包括截齿基材，截齿基材表面激光熔覆有熔覆层，熔覆层包括铁基过渡涂层及镍基合金和碳化钨复合涂层；铁基过渡涂层激光熔覆于截齿基材表面，镍基合金和碳化钨复合涂层激光熔覆于铁基过渡涂层表面。制备方法包括：S1、在截齿基材表面激光熔覆不锈钢粉末，形成铁基过渡涂层；S2、在铁基过渡涂层表面激光熔覆镍基合金粉末和碳化钨粉末的混合粉末，形成镍基合金和碳化钨复合涂层；S3、激光熔覆后的截齿基材进行梯度降温。本发明采用激光熔覆两层涂层的方式对截齿表面强化，制得的截齿基材与熔覆层之间有优异的结合强度，截齿表面硬度高、耐磨性强。

  发布时间：2023-10-13 07:23:22

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• 银膜蚀刻液组合物、用它的蚀刻方法及金属图案形成方法 公开日期：2024-10-15 公开号：CN113718258A 申请号：CN202110824226.3
  发明 银膜蚀刻液组合物、用它的蚀刻方法及金属图案形成方法

  • 申请号：CN202110824226.3
  • 公开号：CN113718258A
  • 公开日期：2024-10-15
  • 申请人：东友精细化工有限公司

  本发明涉及一种银薄膜蚀刻液组合物、利用它的蚀刻方法及金属图案形成方法，该银薄膜蚀刻液组合物包含有机酸、无机酸、蚀刻引发剂及余量的水且蚀刻终止指数为0.05至0.35。

  发布时间：2023-07-01 07:19:14

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• 连续纤维表面的磁控溅射镀膜装置及镀膜方法 公开日期：2024-10-15 公开号：CN116288212A 申请号：CN202310304927.3
  发明 连续纤维表面的磁控溅射镀膜装置及镀膜方法

  • 申请号：CN202310304927.3
  • 公开号：CN116288212A
  • 公开日期：2024-10-15
  • 申请人：西安工程大学

  本发明公开了连续纤维表面的磁控溅射镀膜装置，包括底座支架和设置于底座支架的上层支座，上层支座上分别设有立体卷绕系统、动力及传动系统及控制系统；立体卷绕系统包括对称设置于上层支座两端的送丝卷筒和收丝卷筒，送丝卷筒和收丝卷筒分别连接动力系统，位于送丝卷筒和收丝卷筒的对称中心设有弧形圆板，弧形圆板内设有若干导丝轮，纤维依次通过送丝卷筒、导丝轮和收丝卷筒；控制系统为信号接收及控制单元，信号接收及控制单元连接动力系统的电机；本发明还公开了连续纤维表面的磁控溅射镀膜方法，本发明的设备成本低廉，结构简单可靠，可方便安装于磁控溅射设备的腔体中，对于纤维的表面改性及性能提升具有积极的实用价值。

  发布时间：2023-06-27 09:47:09

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• 利用磁控溅射制备包覆粉体的装置及方法 公开日期：2024-10-15 公开号：CN116288211A 申请号：CN202310304922.0
  发明 利用磁控溅射制备包覆粉体的装置及方法

  • 申请号：CN202310304922.0
  • 公开号：CN116288211A
  • 公开日期：2024-10-15
  • 申请人：西安工程大学

  本发明公开了利用磁控溅射制备包覆粉体的装置，包括落粉系统、传送系统、超声振动系统、粉体收集系统以及底座；落粉系统有效控制抽真空时气流对粉体的扰动并且可控制每次镀粉的量；传送系统可把落粉系统落下的粉末传送到指定磁控溅射区域并且可将镀完的粉末输送到粉体收集箱；振动超声系统可实现粉末在溅射镀膜时的翻转滑动，有利于粉体均匀镀膜；本发明还公开了利用磁控溅射制备包覆粉体的方法，与化学法如置换法等方法相比，所得到的膜层厚度均匀，膜与粉体界面结合紧密，同时可通过调节磁控溅射工艺参数精确控制膜层的性能，本发明结构简单，使用方便，成本低廉。

  发布时间：2023-06-27 09:47:09

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