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• 一种基于磁控溅射技术的陶瓷基板制造方法 公开日期：2024-10-11 公开号：CN117778978A 申请号：CN202410019972.9
  发明 一种基于磁控溅射技术的陶瓷基板制造方法

  • 申请号：CN202410019972.9
  • 公开号：CN117778978A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：山东高特威尔电子科技有限公司

  本发明涉及应用于陶瓷基板镀膜技术领域的一种基于磁控溅射技术的陶瓷基板制造方法，通过双层靶材的设置，自带隐藏式的备用靶材，当溅射过程中需要更换时，无需开启镀膜机，通过速换机构可在镀膜机关闭的情况自动对外显靶片和内隐靶片进行快速换位，达到无需中断溅射过程，或者仅需中断很少的时间即可实现对靶材的更换，达到提高效率的效果，相较于现有技术，无需重新营造氩气气氛，既能有效降低对氩气的浪费，同时大幅度降低对陶瓷基板镀金属膜效率的影响；另外配合靶材监控组件的设置，可对双层靶材进行监控，便于及时进行外显靶片和内隐靶片的换位，进而有效维持陶瓷基板镀膜的高效进行。

  发布时间：2024-03-31 07:46:50

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• 一种多元复合稳定氧化锆热障涂层材料及其制备方法 公开日期：2024-10-11 公开号：CN117658629A 申请号：CN202311642427.7
  发明 一种多元复合稳定氧化锆热障涂层材料及其制备方法

  • 申请号：CN202311642427.7
  • 公开号：CN117658629A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：杭钢金属陶瓷（安吉）有限公司|||浙江省冶金研究院有限公司

  本发明公开了一种多元复合稳定氧化锆热障涂层材料及其制备方法，包括热障涂层材料，所述热障涂层材料的化学式为(Zr1‑xBx)O2‑yA2O3,其中x为掺杂四价B元素的含量，y为掺杂三价稀土氧化物的质量百分比数，即三价稀土氧化物的质量百分比为y％；其中0.1≤x≤0.3，10≤y≤25；所述的三价稀土氧化物A2O3为Gd2O3、Yb2O3、Nd2O3、Pr2O3、Sm2O3、Er2O3、Dy2O3的任意四种或五种；所述的四价氧化物BO2为TiO2、HfO2、CeO2、MoO2的任意两种或三种。本发明的复合稀土稳定氧化锆热障涂层材料具有热导率低、结合强度高、隔热性能好、热循环寿命长等优势，且材料的制备工艺可靠，性能稳定，适合大规模批量生产，在燃气轮机、航空发动机等热端构件隔热防护领域具有很好的推广前景。

  发布时间：2024-03-11 07:23:56

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• 一种AlCrVTiSiCN/AlCrN/CrN多层复合涂层及其制备方法和刀具 公开日期：2024-10-11 公开号：CN117568747A 申请号：CN202311647514.1
  发明 一种AlCrVTiSiCN/AlCrN/CrN多层复合涂层及其制备方法和刀具

  • 申请号：CN202311647514.1
  • 公开号：CN117568747A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：苏州六九新材料科技有限公司

  本发明提供了一种AlCrVTiSiCN/AlCrN/CrN多层复合涂层及其制备方法和刀具，所述AlCrVTiSiCN/AlCrN/CrN多层复合涂层包括在基体上依次沉积的CrN过渡层和耐磨层，所述耐磨层由AlCrN层、AlCrVTiSiCN层交替循环沉积而成，所述耐磨层的最顶面为AlCrVTiSiCN层。本发明的AlCrVTiSiCN/AlCrN/CrN多层复合涂层具备较好的硬度及弹性模量、较强的韧性、膜基结合力和热稳定性。

  发布时间：2024-03-02 07:18:15

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• 一种承载光伏PECVD设备用的基片托盘 公开日期：2024-10-11 公开号：CN117230432A 申请号：CN202311097587.8
  发明 一种承载光伏PECVD设备用的基片托盘

  • 申请号：CN202311097587.8
  • 公开号：CN117230432A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：德鸿半导体设备（浙江）有限公司

  本发明公开了一种承载光伏PECVD设备用的基片托盘，包括矩形的边框以及可替换的兜底薄片，边框上阵列设有至少一个矩形状的薄板孔用于安装兜底薄片，兜底薄片上阵列设有若干镂空孔，薄板孔的外缘壁上设有一圈插槽，插槽上方的厚度小于插槽下方的厚度，兜底薄片的两侧边分别插入两侧对应的插槽内，插槽内插入兜底薄片后在水平方向上还留有余量空间，薄板孔的任意一个拐角处均设有从上端向下连通插槽的缓释口，薄板孔一端的两侧具有从上端向下连通插槽的插口，插口位于薄片孔的顶角处可以通过更换不同规格兜底式薄片，调整基片上下方的电场强度、传热效率、气流走势等参数；制作工艺简单，成本低，抽屉式设计可共用铝质边框，进行快速便捷的替换作业。

  发布时间：2023-12-17 07:55:19

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• 一种在真空中翻转基片的基片加工系统 公开日期：2024-10-11 公开号：CN117187789A 申请号：CN202311097506.4
  发明 一种在真空中翻转基片的基片加工系统

  • 申请号：CN202311097506.4
  • 公开号：CN117187789A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：德鸿半导体设备（浙江）有限公司

  本发明公开了一种在真空中翻转基片的基片加工系统，包括直线输送腔室以及设于直线输送腔室内的直线输送机构，直线输送腔室在其长度方向上设有A面镀膜区以及B面镀膜区，A面镀膜区与B面镀膜区内设有镀膜装置，A面镀膜区与B面镀膜区之间设有翻转区，翻转区内设有位于直线输送机构上的翻转机构，翻转机构包括框架载盘，框架载盘上具有放置孔，放置孔内转动设有翻转架，翻转架通过驱动机构Ⅰ驱动转动，翻转架上沿着其转动轴线平行设有两条对称设置的翻转杆Ⅱ，两条翻转杆Ⅱ通过驱动机构Ⅱ驱动转动，两条翻转杆Ⅱ的侧壁上沿着其长度方向设有一条直角形的条形豁口，通过本发明基片翻转后能够将基片的表面完全暴露在镀膜装置下进行完整的镀膜。

  发布时间：2023-12-17 07:13:54

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• 一种钢筋混凝土氯离子定向吸收装置及方法 公开日期：2024-10-11 公开号：CN116641059A 申请号：CN202310597528.0
  发明 一种钢筋混凝土氯离子定向吸收装置及方法

  • 申请号：CN202310597528.0
  • 公开号：CN116641059A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院

  本发明公开了一种钢筋混凝土氯离子定向吸收装置及方法，在填充体的其中两个相对设置的侧面各设置有一个铜片，两个铜片之间的填充体上开设有两个测量槽，位于两个测量槽之间的填充体中开设有多个竖向的添加剂注入通道，添加剂注入通道自填充体的上表面向下表面沿伸设置，添加剂注入通道位于镁合金电极的两侧。本发明通过测量探头可以从装置的外部掌握填充体的消耗情况，并根据测量结果，通过在添加剂注入通道中浇注添加剂，对已消耗的填充体进行定向修复，在保证氯离子吸收效果的基础上还能及时消除镁合金电极的锈蚀产物，延长装置的使用寿命。

  发布时间：2023-08-31 07:24:31

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• 一种显色腐蚀液及其制备方法与应用 公开日期：2024-10-11 公开号：CN116288357A 申请号：CN202310283299.5
  发明 一种显色腐蚀液及其制备方法与应用

  • 申请号：CN202310283299.5
  • 公开号：CN116288357A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：湖北亿纬动力有限公司

  本发明提供了一种显色腐蚀液及其制备方法与应用，所述显色腐蚀液包括氢氧化物和添加剂，所述氢氧化物包括氢氧化钠和/或氢氧化钾；所述添加剂包括无机添加剂，所述无机添加剂包括金属氯化物和/或金属硫化物；所述显色腐蚀液所用的腐蚀时间少，能避免对样品其他位置造成腐蚀，且显色明显，清晰度高，从而能够显著降低熔深和熔宽的检测时长，提升了检测效率，且能使熔深熔宽的颜色更加清晰可见，提升了检测精度。

  发布时间：2023-06-27 09:44:36

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• 一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构 公开日期：2024-10-11 公开号：CN113430503A 申请号：CN202110801121.6
  发明 一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构

  • 申请号：CN202110801121.6
  • 公开号：CN113430503A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：连科半导体有限公司

  本发明提供一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构，包括多个依次叠放的舟片；所述舟片设有多个镂空区域，所述镂空区域用于安装硅片，且所述镂空区域周围设有至少一个卡住所述硅片的勾点；所述镂空区域安装硅片后，相临两个舟片之间形成独立的且密闭的镀膜通道，所述镀膜通道的延伸方向平行于所述舟片的长度方向，所述舟片在其长度方向的两端分别加工有与所述镀膜通道连通的进气孔和出气孔；所述镀膜通道内通入镀膜气体或惰性气体。本发明单个设备上可以镀多种膜，节省了倒片时间，同时减少倒片过程的划伤，提升了良率。同时避免镀膜过程暴露在空气中，减少污染。

  发布时间：2023-06-23 08:22:59

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• 具有可调式气体出口的喷头 公开日期：2024-10-11 公开号：CN113366145A 申请号：CN202080012187.0
  PCT发明 具有可调式气体出口的喷头

  • 申请号：CN202080012187.0
  • 公开号：CN113366145A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：朗姆研究公司

  一种沉积工具包括：处理室；沉积基座，其用于支撑该处理室内的衬底，并且用于在该衬底的第一表面上沉积材料层；以及喷头组件，其具有相对于该衬底的第二表面的面板，该喷头的该面板具有多个可调式气体出口，其布置成当该材料层通过沉积基座正沉积于该衬底的第一表面上时分配清扫气体于该衬底的第二表面附近。

  发布时间：2023-06-23 07:31:59

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• 一种节能型离子喷涂设备及其加工方法 公开日期：2024-10-11 公开号：CN116200699A 申请号：CN202310223297.7
  发明 一种节能型离子喷涂设备及其加工方法

  • 申请号：CN202310223297.7
  • 公开号：CN116200699A
  • 公开日期：2024-10-11
  • 申请人：杭州富阳永恒涂装有限公司

  本申请涉及瓶体表面处理设备的领域，尤其是涉及一种节能型离子喷涂设备及其加工方法；包括喷涂架体、承载台、第一喷涂组件以及第二喷涂组件；承载台设于喷涂架体上；第一喷涂组件用于对瓶体的外侧进行喷涂；第二喷涂组件包括运动架体、内侧喷涂管道、内侧喷涂头、内侧涂料供给部以及滑动件；运动架体通过滑动件滑动连接于喷涂架体上，内侧涂料供给部与运动架体连接；内侧喷涂管道一端与内侧涂料供给部连接，另一端能够伸入到瓶体内；喷涂头设于内侧喷涂管道上；通过内侧涂料供给部向内侧喷涂管道供料，同时配合第一喷涂组件对瓶体外侧进行喷涂，实现对瓶体的全面喷涂，减少了对瓶体的喷涂工序，进而提高了对瓶体的喷涂效率。

  发布时间：2023-06-04 11:15:56

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