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• 一种高速激光熔覆TiO2/石墨烯表面双相增强ZL101的方法 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116288337A 申请号：CN202310308679.X
  发明 一种高速激光熔覆TiO2/石墨烯表面双相增强ZL101的方法

  • 申请号：CN202310308679.X
  • 公开号：CN116288337A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：中北大学

  本发明涉及一种高速激光熔覆TiO2/石墨烯表面双相增强ZL101的方法，属于铝基复合材料制备技术领域。该方法包括以下步骤：步骤一，TiO2/石墨烯复合材料制备；步骤二，将ZL101粉末和TiO2/石墨烯复合材料分别在丙酮和无水乙醇的混合溶液中超声清洗，过滤后真空干燥；然后将处理后的ZL101粉末和TiO2/石墨烯复合材料在真空球磨机中充分球磨混合；步骤三，高速激光熔覆成形。该方法采用高速激光熔覆技术，不仅可快速精确成形，而且通过激光高热能的作用反应生成两种增强相，增强ZL101基体表面。该方法可实现双相增强ZL101基体，提高该铝基材料表面的摩擦磨损性能，提高零件的使用寿命。

  发布时间：2023-06-27 09:47:33

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• 一种真空镀膜机的蒸发装置 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116288174A 申请号：CN202310124435.6
  发明 一种真空镀膜机的蒸发装置

  • 申请号：CN202310124435.6
  • 公开号：CN116288174A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：铜陵市超越电子股份有限公司

  本发明涉及真空镀膜技术领域，具体的说是一种真空镀膜机的蒸发装置，包括基板，料盘组件，设置于基板上方，所述料盘组件包括壳体、蒸发盘和坩埚，蒸发盘转动连接于蒸发盘内部，多组坩埚均匀设置在蒸发盘内；电子枪结构，设置于基板侧壁，通电时形成电子击打通道，发出电子束轰击坩埚内的原料。本发明设置有驱动组件、龙门组件和闸门，在连续镀膜蒸发盘转动时，闸门能够有效隔绝电子击打通道，保证蒸发盘不受损伤，而随着坩埚逐渐接近电子枪结构，驱动组件驱动龙门组件将闸门提升起，闸门被抬起，电子击打通道畅通，电子束被释放对坩埚内的材料进行击打，避免了电子束对蒸发盘造成损伤，同时无需反复的对电子束进行通电和断电操作。

  发布时间：2023-06-27 09:32:38

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• 一种身管内膛双冶金结合的Cr/Ta双层涂层制备方法 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116288158A 申请号：CN202310113328.3
  发明 一种身管内膛双冶金结合的Cr/Ta双层涂层制备方法

  • 申请号：CN202310113328.3
  • 公开号：CN116288158A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：中国科学院金属研究所

  本发明公开了一种身管内膛双冶金结合的Cr/Ta双层涂层制备方法，属于涂层制备科学领域。该方法先采用离子镀沉积两次Cr打底层，第一次沉积弧电流80～150A，基体负偏压‑600～‑1000V，沉积10～30min。第二次沉积基体负偏压调为‑80～‑200V，沉积30～120min。然后采用高功率脉冲磁控溅射沉积两次Ta表面层，第一次沉积靶材放电电压400～800V，脉冲宽度30～100μs，峰值电流200～800A，基体负偏压‑800～‑1000V，沉积10～120min；第二次沉积基体负偏压调为‑20～‑200V，沉积60～480min。该方法得到双界面冶金结合涂层，无需后续热处理。

  发布时间：2023-06-27 09:32:06

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• 一种切削刀具的表面改性方法 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116288149A 申请号：CN202211102927.7
  发明 一种切削刀具的表面改性方法

  • 申请号：CN202211102927.7
  • 公开号：CN116288149A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：西华大学

  本发明公开了一种切削刀具的表面改性方法，依次包括以下步骤：S1、在清洗后的刀具基体表面通过多弧离子镀膜设备沉积TiN涂层；S2、在TiN涂层上沉积TiSiErN涂层；S3、将TiSiErN涂层进行干式微喷砂处理后，在磁控溅射设备中通入氩气和氮气混合气体至真空度为0.6‑0.8Pa，开启ZrAlCu合金靶，沉积ZrAlCuN涂层，冷却至室温后取出，进行湿式微喷砂处理，完成切削刀具的表面改性。本发明属于表面处理技术领域，在切削刀具表面形成了TiN涂层、TiSiErN涂层和ZrAlCuN涂层的多涂层，有效解决了现有技术中多涂层间结合不紧密、表面粗糙度大和综合性能较差等问题。

  发布时间：2023-06-25 07:11:23

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• 一种镀膜转架 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116180032A 申请号：CN202211741053.X
  发明 一种镀膜转架

  • 申请号：CN202211741053.X
  • 公开号：CN116180032A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：铜陵市超越电子股份有限公司

  本发明涉及镀膜技术领域，具体的说是一种镀膜转架，包括固定底座，所述固定底座顶端中部承载放置有电机，且电机顶端的输出端安装在承载圆盘底端中部，所述承载圆盘底端设置有滚动机构抵接在固定底座内壁底端，所述承载圆盘顶端中部固定安装有转动支杆，所述转动支杆顶端安装在连接侧板底端中部。本发明设置有滚动机构，配合着电机的输出端使得承载圆盘能够在固定底座顶端带动转动支杆和防污罩进行稳定的旋转，同时再在第一滚珠和第二滚珠的滚动作用下使得承载圆盘在固定底座顶端转动的顺滑效率得到有效提高，有效的减小的卡顿卡涩造成镀膜效果不佳的情况产生。

  发布时间：2023-06-02 12:51:34

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• 自钝化金属的化学活化 公开日期：2025-02-14 公开号：CN114929924A 申请号：CN202080076299.2
  PCT发明 自钝化金属的化学活化

  • 申请号：CN202080076299.2
  • 公开号：CN114929924A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：斯瓦戈洛克公司

  公开了一种用于处理由自钝化金属制成并具有比耳拜层的工件的方法。所述方法包括将所述工件暴露于通过加热具有胍[HNC(NH2)2]部分并与HCl络合的试剂而产生的蒸气来活化工件以进行低温间隙表面硬化。

  发布时间：2023-05-20 11:08:47

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• 进行金属表面改性的装置 公开日期：2025-02-14 公开号：CN114908335A 申请号：CN202110171102.X
  发明 进行金属表面改性的装置

  • 申请号：CN202110171102.X
  • 公开号：CN114908335A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：北京大学口腔医学院

  本申请公开一种进行金属表面改性的装置，其包括：箱体，所述箱体包括气体冷却系统、稀有气体输入系统、废气排出系统和样品放置台；所述箱体内还设置有隔离发生腔，所述隔离发生腔分别与所述气体冷却系统和所述废气排出系统连接；所述样品放置台设置在所述隔离发生腔的下方，其中所述样品放置台上放置有金属片；所述隔离发生腔内还具有等离子体放电发生器，所述稀有气体输入系统与所述等离子体放电发生器连接，所述等离子体放电发生器用于产生射流等离子体并喷射到所述金属片的表面。通过本申请实现了在大气压环境下有效激发等离子体射流，能够诱导液体表面改性剂的激发，在金属表面引入有机活性基团。

  发布时间：2023-05-20 10:59:26

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• 一种形成界面冶金结合涂层的溅射方法 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116103624A 申请号：CN202310113331.5
  发明 一种形成界面冶金结合涂层的溅射方法

  • 申请号：CN202310113331.5
  • 公开号：CN116103624A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：中国科学院金属研究所

  本发明公开了一种形成界面冶金结合涂层的溅射方法，属于涂层制备技术领域。该溅射过程为两步，第一步溅射中：靶材放电电压为400～800V，脉冲宽度为30～100μs，峰值电流为100～300A，峰值电压为600～1000V，基体负偏压为‑800～‑1000V，占空比为50～60％；第二步溅射中：靶材放电电压为400～800V，脉冲宽度为30～100μs，峰值电流为100～300A，峰值电压为600～1000V，靶材成分为Ta或Cr，基体负偏压为‑20～‑200V，占空比为20～80％。本发明能够在涂层与基体之间直接发生元素互扩散，无需后续热处理即形成冶金结合，且组织致密、力学性能优异。

  发布时间：2023-05-15 10:50:59

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• 一种对燃烧室内焰流冷却的高速低温喷涂喷枪及其系统 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116103601A 申请号：CN202310112550.1
  发明 一种对燃烧室内焰流冷却的高速低温喷涂喷枪及其系统

  • 申请号：CN202310112550.1
  • 公开号：CN116103601A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：西安交通大学

  本发明属于材料表面改性和涂层技术领域，公开了一种对燃烧室内焰流冷却的高速低温喷涂喷枪及其系统，包括燃烧室，燃烧室由收缩段、燃烧段和入口段组成，收缩段与喷管连接，入口段处依次设有多孔催化陶瓷板、气体分配单元、喷枪尾座，燃烧室外设有喷枪外壳，喷管外设有喷管外壳，送粉针设于喷枪尾座中部，喷枪尾座设有弯曲的压缩空气通道且与气体分配单元连接，靠近收缩段的燃烧段一侧设有冷却气体分配环，另一侧设有点火口，燃气通道依次穿设于多孔催化陶瓷板、气体分配单元、喷枪尾座中部与燃气接口连接。本发明的喷枪使喷涂温度降低，从而有效抑制粒子在喷涂过程中发生氧化、分解。

  发布时间：2023-05-15 10:50:58

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• 一种反应腔 公开日期：2025-02-14 公开号：CN116083883A 申请号：CN202310066962.6
  发明 一种反应腔

  • 申请号：CN202310066962.6
  • 公开号：CN116083883A
  • 公开日期：2025-02-14
  • 申请人：长鑫存储技术有限公司

  本申请涉及半导体技术领域，公开了一种反应腔，包括腔体和位于腔体内的加热装置，加热装置包括载台、加热模组、升降组件以及吹扫模组。载台具有承载面，承载面的中心部位用于放置待加热的晶圆。升降组件用于驱动晶圆相对载台移动，以使晶圆与承载面之间间隔设置或晶圆与承载面之间接触。加热模组用于对承载面加热，以使承载面温度升高。吹扫模组包括多个吹扫孔，多个吹扫孔沿承载面的周向分布于载台的边缘，多个吹扫孔突出于载台的承载面设置，吹扫孔用于对载台的承载面的中心部位吹扫气体，气体背向承载面流动。本申请公开的反应腔，可使得晶圆受热更加均匀，从而降低晶圆变形的风险。

  发布时间：2023-05-12 11:13:49

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