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• 一种等压式分区吸附工作台 公开日期：2024-09-10 公开号：CN112859546A 申请号：CN202110219794.0
  发明 一种等压式分区吸附工作台

  • 申请号：CN202110219794.0
  • 公开号：CN112859546A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：无锡影速半导体科技有限公司

  本发明公开了一种等压式分区吸附工作台，属于曝光设备技术领域。通过设置独立的抽真空共压腔，并通过抽真空管路连通每个工作区域对应的抽真空共压腔，使每个独立的工作区域在抽真空状态下，都处于同一腔体内，形成共压腔，从而保证每个独立工作区域在负压状态下的共压，解决现有技术每个独立工作区域在负压状态下压力不一的问题；通过设置抽真空控制气缸控制抽真空覆盖控制组件通断，实现最佳吸盘分区效果。

  发布时间：2023-06-11 12:11:43

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• 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法 公开日期：2024-09-10 公开号：CN112639620A 申请号：CN201980057549.5
  PCT发明 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法

  • 申请号：CN201980057549.5
  • 公开号：CN112639620A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：富士胶片株式会社

  本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。

  发布时间：2023-06-03 12:10:37

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• 光刻工艺中调整ADI尺寸方法 公开日期：2024-09-10 公开号：CN114859669A 申请号：CN202210395922.1
  发明 光刻工艺中调整ADI尺寸方法

  • 申请号：CN202210395922.1
  • 公开号：CN114859669A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：上海华力集成电路制造有限公司

  本发明公开了一种光刻工艺中调整ADI尺寸方法，包括：步骤一、进行ADI目标值确认；步骤二、运行OPC；步骤三、进行掩膜版制作；步骤四、进行光刻和刻蚀工艺的试运行；步骤五、进行TEM确认所述ADI目标值是否符合要求；如果不符合则进行后续步骤六；如果符合则进行后续步骤七；步骤六、进行光源优化；之后回到步骤四。步骤七、进行后续工艺试运行。本发明能通过优化光源来均匀改变ADI尺寸，不需要OPC重新建立模型，也不需要重新出版mask，节省成本同时加快项目开发周期。

  发布时间：2023-05-18 13:01:46

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• 反射型掩模坯料、反射型掩模、以及反射型掩模及半导体装置的制造方法 公开日期：2024-09-10 公开号：CN113767332A 申请号：CN202080031051.4
  PCT发明 反射型掩模坯料、反射型掩模、以及反射型掩模及半导体装置的制造方法

  • 申请号：CN202080031051.4
  • 公开号：CN113767332A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：HOYA株式会社

  本发明提供用于制造能够在包含氢气的气体氛围中进行了EUV曝光的情况下抑制吸收体图案剥离的反射型掩模的反射型掩模坯料。所述反射型掩模坯料具备基板、基板上的多层反射膜、以及多层反射膜上的吸收体膜，上述吸收体膜包含吸收层及反射率调整层，上述吸收层含有钽(Ta)、硼(B)及氮(N)，并且含有选自氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，上述吸收层的上述硼(B)的含量超过5原子％，上述吸收层的上述添加元素的含量为0.1原子％以上且30原子％以下。

  发布时间：2023-07-03 11:00:19

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• 一种循环式超长单面柔性线路板自动曝光菲林装置 公开日期：2024-09-10 公开号：CN118092086A 申请号：CN202410414955.5
  发明 一种循环式超长单面柔性线路板自动曝光菲林装置

  • 申请号：CN202410414955.5
  • 公开号：CN118092086A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：东莞市黄江大顺电子有限公司

  本发明公开一种循环式超长单面柔性线路板自动曝光菲林装置，包括固定基座和曝光机，所述曝光机固定安装在固定基座的上端中部位置，所述固定基座的一侧固定安装有收卷架，所述固定基座的另一侧固定安装有放卷架，所述收卷架和放卷架的内侧均活动安装有两组转杆，两组转杆之间呈上下并排设置，收卷架和放卷架上部的转杆之间安装有菲林膜，所述收卷架和放卷架下部的转杆之间安装有FCCL基材，所述菲林膜表面非线路区域贴有双面胶，菲林膜的每个曝光区域至少贴有四个双面胶，所述曝光机的两侧设有配合FCCL基材和菲林膜使用的导向架；使得线路板不受曝光机台面限制，不存在拼接线路偏移问题，解决超长单面柔性线路板曝光问题。

  发布时间：2024-06-01 08:06:07

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• 一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法 公开日期：2024-09-10 公开号：CN114859668A 申请号：CN202210369502.6
  发明 一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法

  • 申请号：CN202210369502.6
  • 公开号：CN114859668A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：复旦大学

  本发明属于电子束光刻技术领域，具体为一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法。本发明以GenISys公司提供的TRACER、BEAMER和LAB仿真软件为平台进行电子束冰刻工艺光刻胶形貌的计算，基于实验光刻版图、初始电子束能量和电子数量、电子束斑尺寸、衬底材料和厚度、光刻胶材料、厚度和对比度实验数据的情况下，计算冰刻工艺中电子束光刻胶的光刻形貌，包括极低温度下的水冰、苯甲醚、醇类、烷烃类、其他无需溶液显影工艺的冰光刻胶和在仿真中无需显影工艺的电子束光刻胶。本发明可为电子束冰刻工艺的光刻形貌预测提供参考，在实验制备层面为冰刻工艺提供关键的、必不可少的理论指导，具有针对性强、有效缩短实验周期、降低实验成本的优点。

  发布时间：2023-05-18 13:01:13

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• 一种可实现异形曲面压印的压印设备及使用方法 公开日期：2024-09-10 公开号：CN112817209A 申请号：CN202011606994.3
  发明 一种可实现异形曲面压印的压印设备及使用方法

  • 申请号：CN202011606994.3
  • 公开号：CN112817209A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：山东大学

  本发明公开了一种可实现异形曲面压印的压印设备及使用方法，解决了现有技术中压印设备只能实现平面压印的问题，具有适用范围广，可实现复杂曲面压印的有益效果，具体方案如下：一种可实现异形曲面压印的压印设备，包括多个微元压板，多个微元压板呈若干排若干列布置，相邻两微元压板间隔设定距离设置或相邻两微元压板可接触设置；且每一微元压板均与驱动机构连接，或者所有的微元压板通过弹性件与驱动机构连接。

  发布时间：2023-06-07 12:38:40

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• 照明装置和显示装置 公开日期：2024-09-10 公开号：CN114341730A 申请号：CN202080059419.8
  PCT发明 照明装置和显示装置

  • 申请号：CN202080059419.8
  • 公开号：CN114341730A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：索尼集团公司

  照明装置包括：多个光源组件；以及板状光学单元，来自多个光源组件的光源光束从互不相同的方向入射到板状光学单元上，并且板状光学单元根据每一个光源光束的入射光强度分布而被划分成反射表面和透射表面。然后，光源光束中已经通过板状光学单元的透射光和光源光束中已经被板状光学单元反射的反射光以对齐的方向被发射，板状光学单元中的透射表面与反射表面之间的边界形成在分别来自多个光源组件的光源光束的入射光强度具有彼此基本相等的值的位置处。

  发布时间：2023-05-06 09:51:25

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• 多射束描绘方法以及多射束描绘装置 公开日期：2024-09-10 公开号：CN113341656A 申请号：CN202110190014.4
  发明 多射束描绘方法以及多射束描绘装置

  • 申请号：CN202110190014.4
  • 公开号：CN113341656A
  • 公开日期：2024-09-10
  • 申请人：纽富来科技股份有限公司

  本发明涉及多射束描绘方法和多射束描绘装置。一个方式的多射束描绘方法基于像素尺寸和射束阵列信息，取得用于使担当射束向试样上的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而成的多个射束间间距区域的各射束间间距区域内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的各跟踪控制期间中担当射束在各射束间间距区域内进行曝光的像素数、以及在经过跟踪控制期间后进行将跟踪开始位置复位的跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量，制作使用多个偏转坐标、在各跟踪控制期间中进行曝光的像素数以及进行跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量而定义的偏转次序，一边根据偏转次序使多射束偏转一边对试样描绘图案。

  发布时间：2023-06-23 07:24:29

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• 调焦方法、装置、电子设备及存储介质 公开日期：2024-09-06 公开号：CN114460791A 申请号：CN202210217352.7
  发明 调焦方法、装置、电子设备及存储介质

  • 申请号：CN202210217352.7
  • 公开号：CN114460791A
  • 公开日期：2024-09-06
  • 申请人：合肥英睿系统技术有限公司

  本申请提供了一种调焦方法、装置、设备及存储介质，所述调焦方法通过控制电机带动镜头以第一步长移动，并在所述电机带动镜头以第一步长过程中，获取对应所述第一步长的每个移动位置的第一图像清晰度评价值，在所述第一图像清晰度评价值的变化率满足预设变化率条件时，停止所述控制电机带动镜头以第一步长移动，并根据所述第一图像清晰度评价值，选择符合第一预设条件的所述第一图像清晰度评价值确定第一优选调焦位置，最后再根据所述第一优选调焦位置，确定所述镜头的目标调焦位置。因此，本申请提供的调焦方法可以快速的搜索到满足预设条件的第一图像清晰度评价值并确定其对应的优选调焦位置，有效的提高了调焦效率。

  发布时间：2023-05-09 11:48:49

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