多射束描绘方法以及多射束描绘装置

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113341656 A (43)申请公布日 2021.09.03 (21)申请号 202110190014.4 (22)申请日 2021.02.18 (30)优先权数据 2020-025336 2020.02.18 JP (71)申请人 纽富来科技股份有限公司 地址 日本神奈川县 (72)发明人 松本裕史　 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 房永峰 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书3页 说明书21页 附图23页 (54)发明名称 多射束描绘方法以及多射束描绘装置 (57)摘要 本发明涉及多射束描绘方法和多射束描绘 装置。一个方式的多射束描绘方法基于像素尺寸 和射束阵列信息，取得用于使担当射束向试样上 的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而 成的多个射束间间距区域的各射束间间距区域 内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多 射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的 各跟踪控制期间中担当射束在各射束间间距区 域内进行曝光的像素数、以及在经过跟踪控制期 间后进行将跟踪开始位置复位的跟踪复位的情 况下的多射束的偏转移动量，制作使用多个偏转 坐标、在各跟踪控制期间中进行曝光的像素数以 A 及进行跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动 6 量而定义的偏转次序，一边根据偏转次序使多射 5 6 1 束偏转一边对试样描绘图案。 4 3 3 1 1