一种等压式分区吸附工作台
- 申请专利号:CN202110219794.0
- 公开(公告)日:2024-09-10
- 公开(公告)号:CN112859546A
- 申请人:无锡影速半导体科技有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112859546 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202110219794.0 (22)申请日 2021.02.26 (71)申请人 无锡影速半导体科技有限公司 地址 214000 江苏省无锡市新吴区菱湖大 道200号中国传感网国际创新园F3栋 1-3层 (72)发明人 肖燕青 曾振军 何伟 陈海巍 王方江 (74)专利代理机构 哈尔滨市阳光惠远知识产权 代理有限公司 23211 代理人 林娟 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) H05K 3/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种等压式分区吸附工作台 (57)摘要 本发明公开了一种等压式分区吸附工作台, 属于曝光设备技术领域。通过设置独立的抽真空 共压腔,并通过抽真空管路连通每个工作区域对 应的抽真空共压腔,使每个独立的工作区域在抽 真空状态下,都处于同一腔体内,形成共压腔,从 而保证每个独立工作区域在负压状态下的共压, 解决现有技术每个独立工作区域在负压状态下 压力不一的问题;通过设置抽真空控制气缸控制 抽真空覆盖控制组件通断,实现最佳吸盘分区效 果。 A 6 4 5 9 5 8 2 1 1 N C CN 112859546 A 权 利 要 求