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感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法

2023-06-03 12:10:37 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201980057549.5
  • 公开(公告)日:2024-09-10
  • 公开(公告)号:CN112639620A
  • 申请人:富士胶片株式会社
摘要:本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物,该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112639620 A (43)申请公布日 2021.04.09 (21)申请号 201980057549.5 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2019.08.13 代理人 朱丹 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2018-168170 2018.09.07 JP G03F 7/039 (2006.01) 2019-030587 2019.02.22 JP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.03.03 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2019/031790 2019.08.13 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/049963 JA 2020.03.12 (71)申请人 富士胶片株式会社 地址 日本国东京都 (72)发明人 八木一成 金子明弘 川岛敬史  后藤研由 

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