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一种可调角度的投影灯 公开日期:2024-03-22 公开号:CN220651044U 申请号:CN202321948868.5一种可调角度的投影灯
- 申请号:CN202321948868.5
- 公开号:CN220651044U
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:广东时光生活科技有限公司
本实用新型公开了一种可调角度的投影灯,包括:灯座,包括收容腔与所述收容腔连通设置的投影口;投影组件,收容于所述收容腔且向上显露于所述投影口;底座,位于所述灯座的下方,所述底座包括座体以及固定于所述座体的防滑垫,所述灯座向下抵接所述防滑垫且可以相对于所述防滑垫调整不同的投影角度,所述灯座向下抵接所述防滑垫且可以相对于所述防滑垫调整不同的投影角度,成本低,便于安装,较少产品的重量,便于调整灯座的投影角度。- 发布时间:2024-03-25 08:11:05
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一种成像装置 公开日期:2024-03-22 公开号:CN220651045U 申请号:CN202321948911.8一种成像装置
- 申请号:CN202321948911.8
- 公开号:CN220651045U
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:广东时光生活科技有限公司
本实用新型公开了一种成像装置,包括:成像盘,包括主盘、成像片以及辅盘,所述成像片固定于所述主盘与所述辅盘之间,所述主盘包括主体部以及自所述主体部向下延伸形成的转轴部;承载盘,包括自其顶面向下凹设形成的承载槽、与所述承载槽上下连通设置的透光孔,所述成像片向下显露于所述透光孔,所述转轴部向下凸伸入所述透光孔;电机组件,驱动所述成像盘相对于所述承载盘旋转旋转;光源组件,位于所述透光孔的下方,所述光源组件发出的光依次经过所述透光孔、所述转轴部、所述主盘、所述成像片以及所述辅盘,所述透光孔同时具有限位和透光的作用,工艺简单,成本低,此外所述成像盘在满足转动的同时,便于所述成像盘的更换,使用寿命长。- 发布时间:2024-03-25 08:11:06
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相移光掩模版的制备方法、装置及光刻方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117742067A 申请号:CN202311800619.6相移光掩模版的制备方法、装置及光刻方法
- 申请号:CN202311800619.6
- 公开号:CN117742067A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:广州新锐光掩模科技有限公司
本申请提供一种相移光掩模版的制备方法、装置及光刻方法,其中相移光掩模版的制备方法包括:对第一刻蚀层刻蚀后的结构进行关键尺寸量测;根据所述关键尺寸量测分析,获得量测结果;根据所述量测结果,调整工艺参数,对第二刻蚀层进行刻蚀及进行关键尺寸量测,并获得目标相移光掩模版。通过优化工艺,在第一刻蚀层刻蚀后增加CD量测,不仅可以及时发现CD error,还通过动态调整刻蚀配方来适配调整相移光掩模版图形关键尺寸,这样有效防止前段制程CD error向后传递,最终来提升相移光掩模版尺寸精度。无需如现有技术若相移光掩模版图形关键尺寸的VTT表现差时,重新更新所有制作工艺条件来不断重复尝试进行制备及应用等。- 发布时间:2024-03-25 07:55:04
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驱动马达、摄像模组和电子设备 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117742060A 申请号:CN202311746265.1驱动马达、摄像模组和电子设备
- 申请号:CN202311746265.1
- 公开号:CN117742060A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:维沃移动通信有限公司
本申请公开了一种驱动马达、摄像模组和电子设备,其中,驱动马达包括:载体、线圈、壳体、磁性件和磁流体发射件,载体用于承载镜头,线圈与载体相连接。壳体设有腔体,磁性件以及磁流体发射件与壳体相连接,线圈位于磁性件的磁场范围内,磁流体发射件用于向腔体内发射磁流体。- 发布时间:2024-03-25 07:51:28
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一种多自由度可调的晶圆聚焦系统 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117742083A 申请号:CN202311800804.5一种多自由度可调的晶圆聚焦系统
- 申请号:CN202311800804.5
- 公开号:CN117742083A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:苏州矽行半导体技术有限公司
本发明提供了一种多自由度可调的晶圆聚焦系统,属于晶圆检测中的聚焦领域,晶圆聚焦系统包括X粗动模块、Y粗动模块、Stewart平台、Z向粗动模块和镜头;X粗动模块和Y粗动模块用于实现在X向和Y向的移动粗调;Stewart平台用于X向、Y向和Z向的精调;Z向粗动模块非接触的设置在Stewart平台上方,通过Z向粗动模块带动镜头实现Z向的移动粗调。通过本申请,可满足精调和粗调节的需求,时间响应快,结构紧凑,并且采用Stewart的平台,不仅仅满足XYZ方向的调节,同时对于chuck的姿态也有3个方向的调节自由度,通过单一部件的完成多个功能设计,便于在晶圆检测等高精驱控或聚焦领域推广应用。- 发布时间:2024-03-25 07:55:04
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一种具有减少激光辐射功能的激光打印机 公开日期:2024-03-22 公开号:CN114326349A 申请号:CN202210044072.0一种具有减少激光辐射功能的激光打印机
- 申请号:CN202210044072.0
- 公开号:CN114326349A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:黄光义
本发明涉及一种打印机,尤其涉及一种具有减少激光辐射功能的激光打印机。本发明的技术问题:提供一种具有过滤和净化有害气体作用且可以自动卸料的具有减少激光辐射功能的激光打印机。本发明的技术方案是:一种具有减少激光辐射功能的激光打印机,包括有箱体、工作台、电控箱和激光打印机,在箱体内部下侧安装有工作台,在工作台内部一侧开有下料口,在箱体内部一侧安装有电控箱,在电控箱右侧安装有激光打印机。启动电风扇和空气过滤器后,在电风扇的作用下将有害气体通过排气管输送至空气过滤器中,空气过滤器可以将有害气体过滤并净化,净化的气体便可排放空气中,起到了过滤并净化有害气体的作用。- 发布时间:2023-05-06 10:11:41
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辅助图形拆分组合方法、系统、掩模板、设备及存储介质 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117742069A 申请号:CN202410036349.4辅助图形拆分组合方法、系统、掩模板、设备及存储介质
- 申请号:CN202410036349.4
- 公开号:CN117742069A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:深圳晶源信息技术有限公司
本发明涉及计算光刻技术领域,特别涉及一种辅助图形拆分组合方法、系统、掩模板、设备及存储介质。本发明的辅助图形拆分组合方法,利用掩模上的亚分辨率辅助图形对应的晶源光刻胶位置不形成图像的特点,并且可以通过光学邻近效应对主图形的成像起到增益作用;本方法根据放置区间对辅助图形规则进行拆分和重新组合,在保证灵活性、普适性的同时能够避免辅助图形清理的不稳定性。本发明解决了在光学邻近矫正中,对流片的不同辅助图形规则之间冲突的清理结果可能偏离工艺要求的技术问题。本发明的辅助图形拆分组合系统、掩模板、设备及存储介质具有与辅助图形拆分组合方法相同的有益效果。- 发布时间:2024-03-25 07:57:33
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一种用于接近式光刻机找工艺剂量的分区挡板 公开日期:2024-03-22 公开号:CN220651059U 申请号:CN202321882494.1一种用于接近式光刻机找工艺剂量的分区挡板
- 申请号:CN202321882494.1
- 公开号:CN220651059U
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:宁波启朴芯微系统技术有限公司|||西北工业大学宁波研究院
本实用新型提供了一种用于接近式光刻机找工艺剂量的分区挡板,包括分区板和限位板。使用时,所述限位板与掩模版的卡具卡合,分区板与限位板卡合。所述限位板顶面上沿所述第一圆孔部的外沿设有角度标尺,在实际操作过程中,操作者可以根据实际需求更换对应角度的分区板,实现选择以不同角度的透光区域进行分区调试;还可以对照角度标尺旋转分区板实现精准分区,从而达到仅曝光一片晶圆找到多个工艺剂量的效果,无需再每次测试工艺剂量时都一次性曝光整片晶圆,有效节省了时间,提升了寻找工艺剂量的效率,减少了晶圆的浪费,降低了调试工艺剂量的成本。- 发布时间:2024-03-25 08:10:13
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用于分配光传递的系统和方法 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117751329A 申请号:CN202280051219.7用于分配光传递的系统和方法
- 申请号:CN202280051219.7
- 公开号:CN117751329A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:ASML荷兰有限公司
一种用于光刻过程中的光传递的改善的确定序列的方法,包括:确定待传递的光的强度序列,所述强度序列包括在所述强度序列内的、其中基本上没有光被传递至衬底的间隔;和通过光源并且利用数字反射镜装置(DMD)根据所述强度序列将光传递至衬底。- 发布时间:2024-03-25 07:45:04
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一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品 公开日期:2024-03-22 公开号:CN117742075A 申请号:CN202311496126.8一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品
- 申请号:CN202311496126.8
- 公开号:CN117742075A
- 公开日期:2024-03-22
- 申请人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所|||哈尔滨工业大学
本发明涉及一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶及其压印方法与制品,属于纳米压印技术领域。本发明公开了一种可制备纳米尺度图案的紫外光固化压印胶,所述紫外光固化压印胶的配方包括:含Si‑H的甲基环硅氧烷10~90%、含乙烯基的甲基环硅氧烷10~90%、紫外光催化剂0.1~1%、活性稀释剂0.1~10%、含氟表面活性剂0.1~10%、其他微量助剂0.01~5%;所述配方中硅氧烷的含量为50~70%;所述含Si‑H的甲基环硅氧烷中的Si‑H、含乙烯基的甲基环硅氧烷中的乙烯基的比值1:(0.5~2)。本发明还公开了一种压印方法及厚度为10~500nm,单列宽为10~500nm的紫外光固化压印胶。本发明的具有纳米尺度图案的紫外光固化压印胶形状准确,边界清晰,分辨率高;可进一步加工刻蚀,可具有较强的抗刻蚀能力与刻蚀选择性。- 发布时间:2024-03-25 07:46:45
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