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• 光刻设备、衬底台和不均匀涂层方法 公开日期：2024-09-03 公开号：CN113785244A 申请号：CN202080033297.5
  PCT发明 光刻设备、衬底台和不均匀涂层方法

  • 申请号：CN202080033297.5
  • 公开号：CN113785244A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：ASML控股股份有限公司

  一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。

  发布时间：2023-07-05 07:05:16

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• 用于制造弯曲基材板的方法、基材板和板复合体 公开日期：2024-09-03 公开号：CN114651217A 申请号：CN202080077775.2
  PCT发明 用于制造弯曲基材板的方法、基材板和板复合体

  • 申请号：CN202080077775.2
  • 公开号：CN114651217A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：宝马股份公司

  本发明涉及一种用于制造具有全息图的弯曲基材板的方法，包括下述步骤：‑由塑料通过在第一模具半部和第二模具半部之间变形成型、注塑成型或喷射压缩成型制造弯曲基材板，第一模具半部限定基材表面的预定目标几何结构，第二模具半部可分离地固定在第一模具半部上；‑将第一模具半部从第二模具半部上取下，所制造的基材板保留在第二模具半部中，并且将薄层形式的全息母版施加在第一模具半部或另一模具半部的限定目标几何结构的表面上；‑将具有全息母版的第一或所述另一模具半部这样固定在第二模具半部上，使得在全息母版和基材表面之间保留预定恒定厚度的空隙，并且以全息图记录材料、尤其是液态光敏聚合物填充该间隙；‑用相干光曝光由此在基材表面和全息母版之间形成的全息图记录层，以形成由全息母版限定的全息图。

  发布时间：2023-05-14 11:41:55

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• 掩模检查装置 公开日期：2024-09-03 公开号：CN113227900A 申请号：CN202080007200.3
  PCT发明 掩模检查装置

  • 申请号：CN202080007200.3
  • 公开号：CN113227900A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：株式会社V技术

  能够防止反射器的共振而防止伪缺陷的产生。在对被检查对象的掩模沿大致铅垂方向进行保持的大致框状的框架的侧面设置的保持构件具有：中空的棒状构件，其沿水平方向延伸设置；第一安装部，其将棒状构件安装于框架；以及第二安装部，其设置有反射器。为了使框架沿着平台的上表面水平地移动，而将中空的棒状构件沿水平方向延伸设置。在设置于平台的柱设置有光照射部，该光照射部配置在与反射器大致相同的高度并朝向反射器沿大致水平方向照射光。

  发布时间：2023-06-16 07:29:35

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• 透镜驱动装置及相机模块 公开日期：2024-09-03 公开号：CN114174917A 申请号：CN202080053889.3
  PCT发明 透镜驱动装置及相机模块

  • 申请号：CN202080053889.3
  • 公开号：CN114174917A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：阿尔卑斯阿尔派株式会社

  透镜驱动装置(101)具备间隔部件(1)、罩部件(4)、磁场产生部件(5)和上侧板簧(16)。罩部件(4)由非磁性材料形成，具有包括相互对置的一对侧板部的外周壁部(4A)和顶部(4B)。间隔部件(1)的一部分与罩部件(4)的顶部(4B)抵接而配置，并且上侧板簧(16)被固定。而且，间隔部件(1)具有：框状部(1C)，与顶部(4B)对置；以及突出部(1P)，从框状部(1C)向下方(Z2方向)突出并与外周壁部(4A)对置。磁场产生部件(5)呈在与光轴方向正交的方向上延伸的形状，以被夹在突出部(1P)与外周壁部(4A)之间的状态被固定于外周壁部(4A)。

  发布时间：2023-04-27 13:31:42

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• 调色剂容器的信息获取、区分、粉碎、加工、和制造方法 公开日期：2024-09-03 公开号：CN114442451A 申请号：CN202111281638.3
  发明 调色剂容器的信息获取、区分、粉碎、加工、和制造方法

  • 申请号：CN202111281638.3
  • 公开号：CN114442451A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：柯尼卡美能达株式会社

  本发明的课题在于，提供能够推定已使用调色剂容器的劣化程度的调色剂容器的信息获取方法。本发明的解决手段是，上述调色剂容器的信息获取方法具有：测定形成调色剂容器的树脂中含有的调色剂的量的步骤；和基于上述所测定的调色剂颗粒的量，获取上述调色剂容器的机械强度所涉及的信息的步骤。

  发布时间：2023-05-09 11:23:29

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• 一种便于折叠携带的外拍摄影灯 公开日期：2024-09-03 公开号：CN114415450A 申请号：CN202210061513.8
  发明 一种便于折叠携带的外拍摄影灯

  • 申请号：CN202210061513.8
  • 公开号：CN114415450A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：苏州市博通照明电器有限公司

  本发明涉及摄影技术领域，尤其涉及一种便于折叠携带的外拍摄影灯。所述便于折叠携带的外拍摄影灯包括灯筒，所述灯筒的前端部安装有摄影灯，还包括：防护罩，所述灯筒嵌合于防护罩的内部，且所述灯筒的后端部与防护罩的内底壁相连接；护筒，所述护筒安装于灯筒和防护罩之间；嵌槽，所述护筒远离灯筒的一端固定连接有旋钮，所述旋钮朝向于灯筒的一侧内壁上开设有嵌槽，且所述嵌槽与摄影灯相适配。本发明提供的便于折叠携带的外拍摄影灯，能够对摄影灯进行防护，避免其掉落于地面上、或者与其他坚硬物接触摩擦，在地面等坚硬物的反作用力下而出现摄影灯故障的情况，从而以提高摄影灯的整体使用寿命，以及工作的效率，同时以便于对后续的外拍使用。

  发布时间：2023-05-09 10:57:33

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• 将光刻设备的第一元件朝向第二元件调整的方法 公开日期：2024-09-03 公开号：CN113168105A 申请号：CN201980071288.2
  PCT发明 将光刻设备的第一元件朝向第二元件调整的方法

  • 申请号：CN201980071288.2
  • 公开号：CN113168105A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

  一种方法，用于调整光刻设备(100A、100B)的第一元件(202)朝向该光刻设备(100A、100B)的第二元件(204)，该方法通过布置在第一元件(202)以及第二元件(204)之间的可调节间隔件(300)进行调整，该方法包括以下步骤：a)确定(S1)第一元件(202)的实际定位(IL)，b)确定(S2)第一元件(202)的标称定位(SL)，c)卸载(S3)可调节间隔件(300)，d)调整(S4)可调节间隔件(300)的高度(h)，以带动第一元件(202)从实际定位(IL)进入标称定位(SL)，以及e)加载(S5)可调节间隔件(300)。

  发布时间：2023-06-14 13:09:56

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• 一种用于图像三维信息采集的数字光源系统 公开日期：2024-09-03 公开号：CN112631041A 申请号：CN202110040026.9
  发明 一种用于图像三维信息采集的数字光源系统

  • 申请号：CN202110040026.9
  • 公开号：CN112631041A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：上海赛图图像设备有限公司

  本发明公开了一种用于图像三维信息采集的数字光源系统，其技术方案要点是：包括遮光装置，用于确保照明光线按照特定的角度聚集并照射到图像上，防止光线发散；多个LED数控光源阵列，所述LED数控光源阵列分别设置在遮光装置的左右两侧，用于提供多个角度的光照；结构化光栅装置，遮光装置的底部设置有结构化光栅装置，所述结构化光栅装置采用插入式结构与遮光装置连接，用于限定入射光到照明物之间的光线角度，同时避免漫射光线对物体的二次照射，保持采集信号的清晰；本发明解决了图像三维扫描时物品表面纹理与质感的呈现问题，获取的图像三维信息质量较高。

  发布时间：2023-06-03 12:22:04

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• 一种相变存储器光刻工艺优化方法 公开日期：2024-09-03 公开号：CN114721230A 申请号：CN202210276000.9
  发明 一种相变存储器光刻工艺优化方法

  • 申请号：CN202210276000.9
  • 公开号：CN114721230A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所

  本发明涉及一种相变存储器光刻工艺优化方法，包括：步骤(1)：当每片所述晶圆表面不平整度α相同时，在光刻和刻蚀中确定相变存储器的第一光刻工艺窗口；步骤(2)：当特定图形的周期和线宽不一致时，在光刻和刻蚀中确定相变存储器的第二光刻工艺窗口，其中，所述特定图形为晶圆上的电路图形；步骤(3)：取所述第一光刻工艺窗口和第二光刻工艺窗口的重叠部分作为最终共同工艺窗口，并将所述最终共同工艺窗口的中心作为最佳曝光条件。本发明能够得到相变存储器的最优光刻工艺窗口。

  发布时间：2023-05-15 11:23:55

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• 一种新型光刻膜板的制备方法 公开日期：2024-09-03 公开号：CN116626986A 申请号：CN202310633466.4
  发明 一种新型光刻膜板的制备方法

  • 申请号：CN202310633466.4
  • 公开号：CN116626986A
  • 公开日期：2024-09-03
  • 申请人：西华大学

  本发明公开了光刻模板技术领域的新型光刻膜板的制备方法，包括如下步骤：步骤1，利用AutoCAD绘制图案；步骤2，以石英玻璃片为基底，清洗干净石英玻璃片待用；步骤3，将纳米颗粒通过3D打印或喷墨打印在石英玻璃片上绘制步骤1的图案；步骤4，通过加热的方法对纳米颗粒进行固化得到光掩膜；步骤5，光掩膜放置在凝胶预聚液或聚合物单体上方，紫外聚合得到双面微结构凝胶或双面微结构聚合物。本发明制备光掩膜的颗粒来源广泛，同时加工方法灵活多样，将降低光掩膜的制作成本，并用于一步快速制备多样的图案化结构。

  发布时间：2023-08-25 07:31:13

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