物理
下拉
最新专利
-
掩模版承载机构及掩模版量测机台 公开日期:2024-10-22 公开号:CN117826546A 申请号:CN202410225606.9掩模版承载机构及掩模版量测机台
- 申请号:CN202410225606.9
- 公开号:CN117826546A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:无锡迪思微电子有限公司
本申请涉及一种掩模版承载机构及掩模版量测机台。掩模版承载机构包括:载台组件;支架组件,可活动地设于所述载台组件上;多个支撑件,间隔地设于所述支架组件远离所述载台组件的一侧;所述多个支撑件的中心连线围成一闭合图形;以及滑动件,可滑动地设于所述载台组件上,且与所述支架组件连接;其中,所述滑动件被配置为:所述滑动件相对所述载台组件移动,并带动所述支架组件活动,以调节所述闭合图形的形状。如此,该掩模版承载机构可以适用于不同尺寸的掩模版,在使用时不需要手动切换载台,有利于提升掩模版的量测效率。- 发布时间:2024-04-07 07:36:25
- 0
-
显影剂供应设备及方法 公开日期:2024-10-22 公开号:CN117590718A 申请号:CN202311590432.8显影剂供应设备及方法
- 申请号:CN202311590432.8
- 公开号:CN117590718A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:江西凯利德科技有限公司
本申请涉及智能控制领域,其具体公开了一种显影剂供应设备及方法,其使用基于深度学习模型的人工智能技术来对待显影图像的检测图像和参考图像进行特征提取和编码,以得到用于表示当前显影剂的是否需要继续供应的分类结果。这样通过智能控制显影剂的供应时机和供应量,提高了控制效率,降低了人力成本。- 发布时间:2024-03-02 07:37:14
- 0
-
一种曝光平台及LDI曝光装置 公开日期:2024-10-22 公开号:CN116699951A 申请号:CN202310718572.2一种曝光平台及LDI曝光装置
- 申请号:CN202310718572.2
- 公开号:CN116699951A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:江西景旺精密电路有限公司
本发明公开了一种曝光平台及LDI曝光装置,所述曝光平台包括用于放置线路板且为方形的台面板,所述台面板的至少两条相邻边上均滑动设有顶边对位条,所述台面板的板边上还嵌设有若干位于顶边对位条内侧并朝上设置的第一激光器,所述第一激光器用于对放置在台面板上的线路板进行烧点,所述台面板上还设有至少两个一一对应驱动所述顶边对位条移动的调节机构,以调节所述顶边对位条与第一激光器之间的垂直距离。本发明通过调节机构和顶边对位条的配合,以适应不同大小板边的线路板的烧点对位,确保烧点对位点不落入线路板的单元板范围内。- 发布时间:2023-09-07 07:25:52
- 0
-
一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法 公开日期:2024-10-22 公开号:CN113848683A 申请号:CN202111110717.8一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法
- 申请号:CN202111110717.8
- 公开号:CN113848683A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:江苏影速集成电路装备股份有限公司
本发明公开了一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法,属于光刻系统技术领域。本发明提供的光刻装置及方法,通过采用触发对位模式,基于曝光工作面、对位工作面、上下板操作面分别处于不同垂直工位的垂直双台面结构,在垂直空间上,为两个台面设置多个垂直工位,多个垂直工位相互独立,并可以根据不同的曝光场合,结合不同的曝光流程方法,适用于有多分区对位需求,或更高解析精度需求,或两者均需要的生产需求,并保证光刻精度、并提高工作效率。本发明提供的光刻装置及方法,适合于使用低剂量成像材料的生产需求,此时曝光速度较快,需要尽量缩短上下板和对位操作,可使工作效率提升10%以上。- 发布时间:2023-07-07 07:08:59
- 0
-
一种纳米压印的各向异性石墨烯薄膜的制备方法 公开日期:2024-10-22 公开号:CN113820917A 申请号:CN202111120562.6一种纳米压印的各向异性石墨烯薄膜的制备方法
- 申请号:CN202111120562.6
- 公开号:CN113820917A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:国科温州研究院(温州生物材料与工程研究所)
本发明公开了一种纳米压印的各向异性石墨烯薄膜的制备方法,选取热塑性聚合物配置成预凝胶溶液,制备成表面均匀的薄膜,在该薄膜表面修饰聚多巴胺并黏附氧化石墨烯,后用氢碘酸将氧化石墨烯还原,获得掺杂石墨烯的聚合物薄膜;利用两块PDMS正模板将掺杂石墨烯的聚合物薄膜夹在中间,形成“三明治”模型,采用纳米压印仪一步法获得纳米压印的各向异性石墨烯薄膜。本发明所制备的各向异性石墨烯薄膜能够用于心肌细胞的可视化传感,且有利于心肌细胞的取向生长。本方法制备工艺简单、结构准确可控、重复性好,解决了传统的各向异性结构薄膜制备方法复杂、结构有缺陷等问题,在生物医学领域具有极大的应用价值。- 发布时间:2023-07-06 10:58:49
- 0
-
感光性树脂组合物、隔壁、光转换层以及光发射装置 公开日期:2024-10-22 公开号:CN113759661A 申请号:CN202010493418.6感光性树脂组合物、隔壁、光转换层以及光发射装置
- 申请号:CN202010493418.6
- 公开号:CN113759661A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:新应材股份有限公司
本发明提供一种图案特征良好及可形成无底切图案的感光性树脂组合物、隔壁、光转换层以及光发射装置。感光性树脂组合物包括碱可溶性树脂(A)、乙烯性不饱和单体(B)、光聚合起始剂(C)、溶剂(D)以及颜料(E)。碱可溶性树脂(A)包括碱可溶性树脂(A‑1),其中碱可溶性树脂(A‑1)包括式(I‑1)表示的结构单元及式(I‑2)表示的结构单元。光聚合起始剂(C)包括式(III‑1)表示的酰基氧化膦化合物- 发布时间:2023-07-03 10:57:13
- 0
-
光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法 公开日期:2024-10-22 公开号:CN113050367A 申请号:CN201911382862.4光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法
- 申请号:CN201911382862.4
- 公开号:CN113050367A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司|||中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
本发明实施例提供了一种光学邻近效应修正方法和系统、掩膜版及其制备方法,所述光学邻近效应修正方法包括:获取待修正主图形和所述待修正主图形的重叠图形及重叠边,所述待修正主图形和其他的主图形按照光刻位置重叠的部分为重叠图形,所述重叠图形在所述待修正主图形的外边缘上的边为重叠边;在待修正的所述重叠边的相邻位置设置散射条辅助图形。本发明实施例所提供的光学邻近效应修正方法中,由于所述散射条辅助图形设置于待修正的重叠边的相邻位置,可以在之后的步骤中很好地改善待修正主图形的质量,尤其是待修正的重叠边所对应位置的图形质量,从而提高所得图形中交错的部分的质量,最终可以提高所得半导体器件的合格率。- 发布时间:2023-06-14 12:21:02
- 1
-
掩模坯及光掩模 公开日期:2024-10-22 公开号:CN112578629A 申请号:CN202011031340.2掩模坯及光掩模
- 申请号:CN202011031340.2
- 公开号:CN112578629A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:爱发科成膜株式会社
本发明涉及一种掩模坯及光掩模,所述掩模坯具有成为光掩模的掩模层。所述掩模坯的反射率低且具有规定的光密度,能够使遮光层的蚀刻速率与防反射层的蚀刻速率接近,并且能够实现降低上檐及下摆的适当的剖面形状。所述掩模层具有:下部防反射层,层压于透明基板;遮光层,设置在比所述下部防反射层更远离所述透明基板的位置上;和上部防反射层,设置在比所述遮光层更远离所述透明基板的位置上。- 发布时间:2023-06-02 13:43:21
- 1
-
一种光掩模薄膜生长调整关键尺寸的方法 公开日期:2024-10-22 公开号:CN114924461A 申请号:CN202210709208.5一种光掩模薄膜生长调整关键尺寸的方法
- 申请号:CN202210709208.5
- 公开号:CN114924461A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:广州新锐光掩模科技有限公司
本发明提供一种光掩模薄膜生长调整关键尺寸的方法,其包括如下步骤:提供第一光掩膜;在所述光掩膜的表面生长薄膜材料,得到第二光掩膜,其中,所述第二光掩膜的表面具有所需厚度的薄膜;对所述第二光掩膜的横向厚度进行全部或部分去除;保留所述第二光掩膜的部分或全部竖向厚度,从而调整所述关键尺寸。本发明还提供一种半导体器件的制备方法。本发明实现了一种更大范围内调整光掩模关键尺寸的方案,能有效减少光掩模产品报废、降低成本和提高产能。- 发布时间:2023-05-20 11:17:07
- 0
-
调色剂盒和调色剂供应机构 公开日期:2024-10-22 公开号:CN114200805A 申请号:CN202210025257.7调色剂盒和调色剂供应机构
- 申请号:CN202210025257.7
- 公开号:CN114200805A
- 公开日期:2024-10-22
- 申请人:佳能株式会社
本发明的目的是开发调色剂盒的传统结构。调色剂盒包括容器和开/闭构件。容器包括用于容纳调色剂的容纳部分、和排出开口。开/闭构件包括用于关闭排出开口的关闭部分、和关闭力接收部分。开/闭构件能够相对于容器在用于使关闭部分关闭排出开口的关闭位置和用于使关闭部分打开排出开口的打开位置之间移动。开/闭构件包括相对于其中开/闭构件移动以关闭排出开口的关闭方向分别位于开/闭构件的下游侧和上游侧的前端部分和后端部分。在沿着容器的纵向方向观察调色剂盒时,开/闭构件从前端部分到后端部分在容器的圆周的超过180°的范围内延伸。在从接收设备拆卸调色剂盒时,关闭力接收部分接收用于使开/闭构件从打开位置移动到关闭位置的力。- 发布时间:2023-04-29 09:22:31
- 1