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• 一种紫外光固化纳米压印用材料及制造工艺 公开日期：2024-11-22 公开号：CN117806122A 申请号：CN202311850788.0
  发明 一种紫外光固化纳米压印用材料及制造工艺

  • 申请号：CN202311850788.0
  • 公开号：CN117806122A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：青岛天仁微纳科技有限责任公司

  本发明公开了一种紫外光固化纳米压印用材料及制造工艺，该工艺包括将4‑甲氨基吡啶和磺酸化合物溶解在甲苯中得到粉状物，制备预处理引发剂和接枝引发剂，以及将脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、脂类化合物、预处理三乙氧基硅烷和接枝引发剂混合形成溶液。最终得到的材料可用于纳米压印技术。与现有技术相比，该工艺具有简单、可控性好的特点，还具有较好的热稳定性和抗拉强度，为紫外光固化纳米压印材料的制备提供了一种有效的方法。

  发布时间：2024-04-04 07:22:28

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• 一种硬掩模组合物及形成图案的方法 公开日期：2024-11-22 公开号：CN117631438A 申请号：CN202311603977.8
  发明 一种硬掩模组合物及形成图案的方法

  • 申请号：CN202311603977.8
  • 公开号：CN117631438A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：福建泓光半导体材料有限公司

  本发明涉及了硬掩模材料的技术领域，具体提供了一种硬掩模组合物及形成图案的方法，硬掩模组合物是化合物I和化合物I I交联制备得到的，制备的硬掩模组合物形成的薄膜具有较高耐蚀刻性，其中，N2/O2混合气体环境下的主体蚀刻速率能控制在23埃/秒以内，CHF3/CF4混合气体环境下的主体蚀刻速率能控制在20埃/秒以内，同时具有较高的溶剂性，间隙填充特性较好，便于推广应用。

  发布时间：2024-03-05 07:15:55

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• 极紫外光室、用于与极紫外光室使用的组件及其使用方法 公开日期：2024-11-22 公开号：CN113759673A 申请号：CN202111049711.4
  发明 极紫外光室、用于与极紫外光室使用的组件及其使用方法

  • 申请号：CN202111049711.4
  • 公开号：CN113759673A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

  极紫外光室、用于与极紫外光室使用的组件及其使用方法在此叙述。组件包括环体结构。环体结构包括外环体及于外环体径向之内的内环体。组件还包括真空接口，其用以连接且接触内环体，其中内环体具有开口，开口的大小可调整使一个装置可穿过并进入真空接口。

  发布时间：2023-07-03 11:08:22

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• 掩模基底、转印用掩模以及半导体器件的制造方法 公开日期：2024-11-22 公开号：CN112673314A 申请号：CN201980059055.0
  PCT发明 掩模基底、转印用掩模以及半导体器件的制造方法

  • 申请号：CN201980059055.0
  • 公开号：CN112673314A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：HOYA株式会社

  提供一种掩模基底，即使在掩模基底的基板主表面上存在缺陷，该缺陷也不会对利用转印用掩模的转印像产生影响，能够作为合格品。一种掩模基底，其在透光性基板的主表面上具备转印图案形成用的薄膜，在所述透光性基板的主表面上存在缺陷，该缺陷在将从所述主表面侧观察时的宽度设为w、在所述主表面的垂直方向上从所述主表面到缺陷的前端为止的长度设为L时，满足L≤97.9×w‑0.4的关系。

  发布时间：2023-06-04 11:27:07

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• 定影装置及图像形成装置 公开日期：2024-11-22 公开号：CN112526853A 申请号：CN202010852385.X
  发明 定影装置及图像形成装置

  • 申请号：CN202010852385.X
  • 公开号：CN112526853A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：东芝泰格有限公司

  本申请涉及定影装置及图像形成装置。根据一实施方式的定影装置使形成在记录介质上的色调剂图像定影于所述记录介质，其具备加压旋转体、加压部件、加热辊、环形带、带限制部件和止动件。加压旋转体隔着记录介质被按压于被加压部件。加热辊与加压部件分离地配置，并以旋转轴为中心旋转。环形带缠绕于加热辊和加压部件。带限制部件形成有开口，并具有与环形带抵接的抵接面，加热辊与开口松配合。止动件隔着带限制部件与和加热辊接触的环形带的外缘部相对地配置。

  发布时间：2023-06-02 13:11:17

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• 图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物 公开日期：2024-11-22 公开号：CN112313580A 申请号：CN201980041217.8
  PCT发明 图案轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物

  • 申请号：CN201980041217.8
  • 公开号：CN112313580A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：荣昌化学制品株式会社

  本发明涉及一种通过添加能够提高用于形成半导体图案的透过率的树脂而表现与以往的KrF正性光刻胶相比垂直的(Vertical)轮廓的KrF光源用光刻胶组合物。作为一种图形轮廓改善用化学增幅型正性光刻胶组合物，其特征在于，相比于组合物总重量，包含5至60重量％的聚合物树脂、0.1至10重量％的由化学式1表示的透过率提高树脂添加物、0.05至10重量％的光致酸产生剂、0.01至5重量％的酸扩散抑制剂以及剩余的溶液。本发明，具有提供与以往正性光刻胶相比具备垂直的(Vertical)轮廓及改善的感光度，同时工艺裕度优异的组合物的效果。

  发布时间：2023-05-28 12:40:23

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• 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法 公开日期：2024-11-22 公开号：CN112313582A 申请号：CN201980038437.5
  PCT发明 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法

  • 申请号：CN201980038437.5
  • 公开号：CN112313582A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：荣昌化学制品株式会社

  本发明涉及一种用于减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯(polyhydroxystyrene)的光致抗蚀剂图案的微桥缺陷改善用工艺液体组合物及利用其的图案形成方法，其中，所述工艺液体组合物包括：0.0001至1重量％的碱性物质；0.0001至1重量％的HLB值为9至16的非离子表面活性剂；及98至99.9998重量％的水。本发明减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯的光致抗蚀剂图案的微桥缺陷数，且具有线宽粗糙度(LWR)值低而提升图案的均匀度的效果。

  发布时间：2023-05-28 12:39:53

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• 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法 公开日期：2024-11-22 公开号：CN112272799A 申请号：CN201980038436.0
  PCT发明 极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法

  • 申请号：CN201980038436.0
  • 公开号：CN112272799A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：荣昌化学制品株式会社

  本发明涉及一种用于减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯(polyhydroxystyrene)的光致抗蚀剂图案的坍塌的工艺液体组合物及利用其的图案形成方法，其中，所述工艺液体组合物包括：0.0001至1重量％的HLB值为9至16的非离子表面活性剂；0.0001至1重量％的选自由四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或其混合物所组成的组中的碱性物质；及98至99.9998重量％的水。本发明具有减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯的光致抗蚀剂图案的坍塌的效果。

  发布时间：2023-05-28 12:13:54

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• 定影装置和设有该定影装置的成像装置 公开日期：2024-11-22 公开号：CN114830040A 申请号：CN202080086865.8
  PCT发明 定影装置和设有该定影装置的成像装置

  • 申请号：CN202080086865.8
  • 公开号：CN114830040A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：株式会社理光

  定影装置包括定影部件，热源，加压部件，夹持部形成部件，以及均热部件。均热部件配置为覆盖夹持部形成部件的面对定影部件的面，并沿定影部件的轴向传递热量。定影部件至少包括由金属制成的筒状基材，以及在基材的内周面上由耐热树脂制成的滑动层。由铝或铝合金制成的均热部件在面对所述定影部件的内周面的面上具有氧化铝膜层。在氧化铝膜层中的多个微孔填充有固体润滑剂，该固体润滑剂的摩擦系数低于氧化铝膜层的摩擦系数。氧化铝膜层的厚度小于定影部件的滑动层的厚度。

  发布时间：2023-05-17 11:50:50

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• 相机模块 公开日期：2024-11-22 公开号：CN114779557A 申请号：CN202111440233.X
  发明 相机模块

  • 申请号：CN202111440233.X
  • 公开号：CN114779557A
  • 公开日期：2024-11-22
  • 申请人：三星电机株式会社

  一种相机模块包括：壳体；第一框架，可旋转地安装在壳体中；第二框架，可旋转地安装在第一框架上；反射构件，安装在第二框架上；第一驱动器，包括安装在壳体和第一框架中的任一个上的第一磁体、以及与第一磁体相对的第一线圈；以及第二驱动器，包括安装在壳体和第二框架中的任一个上的第二磁体、以及与第二磁体相对的第二线圈。第一框架配置为绕与入射到反射构件的光的入射方向垂直的第一轴向方向旋转。第二框架配置为绕与入射到反射构件的光的入射方向平行的第二轴向方向旋转。

  发布时间：2023-05-16 10:59:05

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