一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114859668 A (43)申请公布日 2022.08.05 (21)申请号 202210369502.6 (22)申请日 2022.04.08 (71)申请人 复旦大学 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号 (72)发明人 刘韬　陈宜方　陆冰睿　仇旻　 童徐杰　解钰莹　 (74)专利代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 专利代理师 陆飞　陆尤 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图6页 (54)发明名称 一种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法 (57)摘要 本发明属于电子束光刻技术领域，具体为一 种电子束冰刻工艺的光刻形貌计算方法。本发明 以GenISys公司提供的TRACER、BEAMER和LAB仿真 软件为平台进行电子束冰刻工艺光刻胶形貌的 计算，基于实验光刻版图、初始电子束能量和电 子数量、电子束斑尺寸、衬底材料和厚度、光刻胶 材料、厚度和对比度实验数据的情况下，计算冰 刻工艺中电子束光刻胶的光刻形貌，包括极低温 度下的水冰、苯甲醚、醇类、烷烃类、其他无需溶 液显影工艺的冰光刻胶和在仿真中无需显影工 艺的电子束光刻胶。本发明可为电子束冰刻工艺 的光刻形貌预测提供参考，在实验制备层面为冰 A 刻工艺提供关键的、必不可少的理论指导，具有 8 针对性强、有效缩短实验周期、降低实验成本的 6 6 9 优点。 5 8 4 1 1