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• 气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112748639A 申请号：CN201911052499.X
  发明 气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺

  • 申请号：CN201911052499.X
  • 公开号：CN112748639A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司

  本发明公开了一种气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺，属于光刻胶的涂胶工艺技术领域。分区调控的FFU整流板的可调控区域具有双层可旋转网孔结构，通过调节网孔重合度实现分区控制FFU风速，从而调控匀胶时晶圆所处气流环境，实现胶形的精确调控。本发明的匀胶工艺，可实现配方不做改动下通过分区调控FFU风速方式快速精确调整胶形至预期效果。

  发布时间：2023-06-05 18:31:02

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• 一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法 公开日期：2024-09-17 公开号：CN114518695A 申请号：CN202011312520.8
  发明 一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法

  • 申请号：CN202011312520.8
  • 公开号：CN114518695A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：源卓微纳科技（苏州）股份有限公司

  本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数据位置坐标信息。将各个部件的坐标系统一至同一坐标系，校正上下曝光出现的位置偏差，提升曝光精度。

  发布时间：2023-05-10 11:47:06

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• 光掩模钝化层制造方法 公开日期：2024-09-17 公开号：CN116047859A 申请号：CN202310195889.2
  发明 光掩模钝化层制造方法

  • 申请号：CN202310195889.2
  • 公开号：CN116047859A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：广州新锐光掩模科技有限公司

  本申请提供一种光掩模钝化层制造方法，涉及光掩模的技术领域，其包括以下步骤：S1，获取晶圆结构；S2，将晶圆结构置于真空腔体中，向真空腔体中通入氧气和氯气，通过加载射频电源，产生氯离子基团对阻挡层、钝化层及金属层进行蚀刻，蚀刻出光刻图形的蚀刻窗口；S3，通过加载射频电源，产生氧离子基团与金属层被蚀刻出的侧边进行氧化反应，使得金属层被蚀刻出的侧边表面生成钝化层；S4，去除钝化层表面的阻挡层。通过氧离子基团和氯离子基团直接在干法蚀刻机台上，一次性完成晶圆结构的蚀刻及金属层表面钝化层的生成，进而省去了转移至Asher机台进行钝化层制作的工艺流程，摆脱了工艺流程的局限性，优化了制程，降低了工艺成本。

  发布时间：2023-05-10 10:18:53

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• 散热风扇监测方法、装置、设备及存储介质 公开日期：2024-09-17 公开号：CN116066392A 申请号：CN202310140188.9
  发明 散热风扇监测方法、装置、设备及存储介质

  • 申请号：CN202310140188.9
  • 公开号：CN116066392A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：峰米（重庆）创新科技有限公司

  本发明属于散热风扇技术领域，公开了一种散热风扇监测方法、装置、设备及存储介质。本申请通过获取投影仪中散热风扇的当前驱动电压，以及投影仪运行时的当前环境温度；根据所述当前环境温度在预设标准信息表中查找对应的标准风扇驱动电压；若所述当前驱动电压大于所述标准风扇驱动电压，则判定所述散热风扇的散热效率降低。由于散热风扇在因积灰等现象出现散热效率降低时，为维持投影仪的正常工作，需要加大散热风扇的驱动电压以提高散热风扇的转速，将当前驱动电压与预先标定的标准风扇驱动电压进行比较，则可以快速确定散热风扇的散热效率是否降低。

  发布时间：2023-05-10 11:00:21

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• 一种红黑双色激光打印机专用硒鼓 公开日期：2024-09-17 公开号：CN114167705A 申请号：CN202111475426.9
  发明 一种红黑双色激光打印机专用硒鼓

  • 申请号：CN202111475426.9
  • 公开号：CN114167705A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：长城信息股份有限公司

  本申请涉及激光打印机技术领域，提供一种红黑双色激光打印机专用硒鼓，包括：壳体和设于所述壳体内的感光鼓、充电辊以及磁辊，所述壳体内具有碳粉仓，所述碳粉仓上方的上板上设有添料口，所述上板上滑动式设有关闭或打开所述添料口的活动板，所述上板上设有限制所述活动板活动的锁紧机构，所述壳体内设有用于对所述碳粉仓的内侧壁进行刮粉的刮粉机构，所述刮粉机构与所述活动板传动连接。该红黑双色激光打印机专用硒鼓具有添粉操作简单。碳粉利用率高，省时省力的优点。

  发布时间：2023-04-28 09:39:28

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• 用于基于缺陷来确定图案化过程的特性以减少热点的方法 公开日期：2024-09-13 公开号：CN113728276A 申请号：CN202080031354.6
  PCT发明 用于基于缺陷来确定图案化过程的特性以减少热点的方法

  • 申请号：CN202080031354.6
  • 公开号：CN113728276A
  • 公开日期：2024-09-13
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  本文描述了用于基于缺陷来优化图案化过程的方面的方法。例如，一种图案化过程的源和掩模优化的方法包括：在衬底上获得具有具备缺陷的阈值概率的部位；限定所述部位周围的缺陷范围以包括所述衬底上的图案的一部分以及与所述图案的所述部分相关联的一个或更多个评估点；基于与所述缺陷相关联的缺陷指标来确定第一成本函数的值；确定针对所述第一成本函数的第一引导函数，其中所述第一引导函数与所述图案化过程的在所述缺陷范围内的所述一个或更多个评估部位处的性能指标相关联；以及基于所述第一成本函数和所述第一引导函数来调整源和/或掩模特性。

  发布时间：2023-07-01 07:18:33

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• 光学装置、曝光装置以及物品制造方法 公开日期：2024-09-13 公开号：CN113238459A 申请号：CN202110140250.5
  发明 光学装置、曝光装置以及物品制造方法

  • 申请号：CN202110140250.5
  • 公开号：CN113238459A
  • 公开日期：2024-09-13
  • 申请人：佳能株式会社

  本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置，本发明所涉及的光学装置的特征在于具备：光学元件(5)；收纳光学元件(5)的镜筒(11)；设定从气体供给机构向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行进方向设定机构(16)；以及控制行进方向设定机构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部(18)。

  发布时间：2023-06-17 07:07:35

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• 图案化方法、光刻装置和物品制造方法 公开日期：2024-09-13 公开号：CN113703288A 申请号：CN202111042107.9
  发明 图案化方法、光刻装置和物品制造方法

  • 申请号：CN202111042107.9
  • 公开号：CN113703288A
  • 公开日期：2024-09-13
  • 申请人：佳能株式会社

  本发明公开了图案化方法、光刻装置和物品制造方法。光刻装置检测关于要在光刻装置中通过使用第一原版执行图案化的一部分压射区域布置的多个第一基板侧标记，并且检测关于要在另一光刻装置中通过使用与第一原版不同的第二原版执行图案化的与所述一部分压射区域不同的其它压射区域布置的多个第二基板侧标记。光刻装置输出关于所述多个第二基板侧标记的检测结果的信息以使得可用于其它光刻装置。然后，基于多个第一基板侧标记的检测结果，光刻装置在执行第一原版关于所述一部分压射区域的对准的同时执行图案化。

  发布时间：2023-07-01 07:15:41

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• 用于高分辨率图案化的含硅烷醇有机-无机杂化涂层 公开日期：2024-09-13 公开号：CN113015940A 申请号：CN201980066944.X
  PCT发明 用于高分辨率图案化的含硅烷醇有机-无机杂化涂层

  • 申请号：CN201980066944.X
  • 公开号：CN113015940A
  • 公开日期：2024-09-13
  • 申请人：彼博股份有限公司

  半导体基材上含硅烷醇的有机‑无机杂化涂层，以在其上形成图案。本发明的涂层可通过用含金属和硅烷醇的聚氢基倍半硅氧烷树脂溶液涂覆半导体基材来产生。本文还提供了一种用特定波长的光辐射将经含金属和硅烷醇的聚氢基倍半硅氧烷涂覆基材图案化的方法，所述方法包括以下步骤：沿选定的图案辐照经涂覆基材以形成具有经辐照涂层的区域和有未经辐照涂层的区域的经辐照结构，和选择性地显影所述经辐照结构以去除实质部分的未经辐照涂层而形成经图案化基材。本发明允许获得预先选择的硅烷醇含量的聚氢基倍半硅氧烷树脂，并且硅烷醇含量的调节将使得可以获得对于在EUV中的应用高度敏感的涂层。

  发布时间：2023-06-11 13:38:07

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• 基于酚醛清漆/DNQ的化学增幅型光致抗蚀剂 公开日期：2024-09-13 公开号：CN112166378A 申请号：CN201980034950.7
  PCT发明 基于酚醛清漆/DNQ的化学增幅型光致抗蚀剂

  • 申请号：CN201980034950.7
  • 公开号：CN112166378A
  • 公开日期：2024-09-13
  • 申请人：默克专利股份有限公司

  本发明涉及抗蚀剂组合物，其包含聚合物组分、光致产酸剂组分(PAG)、光活性邻叠氮萘醌组分(PAC)、碱组分、溶剂组分和任选的杂环硫醇组分。所述聚合物组分是酚醛清漆衍生物，其包含具有游离酚羟基部分的酚醛清漆重复单元，和包含用酸可裂解的缩醛部分保护的酚羟基部分的酚醛清漆重复单元。所述缩醛部分选自单官能烷基缩醛部分，其保护包含酚醛清漆酚羟基部分的重复单元；缩醛，其包含用PAC部分官能化的部分，用来保护包含酚醛清漆酚羟基部分的重复单元；包含二官能缩醛的部分，其连接和保护两个含有酚醛清漆酚羟基部分的重复单元，在所述聚合物组分中在两个不同的聚合物链之间形成连接点；以及任何这三种类型的酸可裂解的缩醛部分的混合物。PAC组分选自所述缩醛，其包含用PAC部分官能化的部分，用来保护包含酚醛清漆酚羟基部分的重复单元；游离PAC组分和这两种类型的PAC组分的混合物。本发明还涉及在厚膜或薄膜光致抗蚀剂器件制造方法中使用本发明组合物的方法。

  发布时间：2023-05-24 13:13:34

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