PCT发明

用于高分辨率图案化的含硅烷醇有机-无机杂化涂层

2023-06-11 13:38:07 发布于四川 0

申请专利号：CN201980066944.X
公开（公告）日：2024-09-13
公开（公告）号：CN113015940A
申请人：彼博股份有限公司

摘要：半导体基材上含硅烷醇的有机‑无机杂化涂层，以在其上形成图案。本发明的涂层可通过用含金属和硅烷醇的聚氢基倍半硅氧烷树脂溶液涂覆半导体基材来产生。本文还提供了一种用特定波长的光辐射将经含金属和硅烷醇的聚氢基倍半硅氧烷涂覆基材图案化的方法，所述方法包括以下步骤：沿选定的图案辐照经涂覆基材以形成具有经辐照涂层的区域和有未经辐照涂层的区域的经辐照结构，和选择性地显影所述经辐照结构以去除实质部分的未经辐照涂层而形成经图案化基材。本发明允许获得预先选择的硅烷醇含量的聚氢基倍半硅氧烷树脂，并且硅烷醇含量的调节将使得可以获得对于在EUV中的应用高度敏感的涂层。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113015940 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 201980066944.X (74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司 72001 (22)申请日 2019.08.12 代理人童春媛　林毅斌 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 20185677 2018.08.10 FI G03F 7/004 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/075 (2006.01) 2021.04.09 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/FI2019/050584 2019.08.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/030855 EN 2020.02.13 (71)申请人彼博股份有限公司地址芬兰埃斯波 (72)发明人 T ·盖达　L ·D ·阮　M ·劳卡宁　 K ·卡拉斯特　J ·兰塔拉　 J ·格伦　

用于高分辨率图案化的含硅烷醇有机-无机杂化涂层

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