光掩模钝化层制造方法

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116047859 A (43)申请公布日 2023.05.02 (21)申请号 202310195889.2 (22)申请日 2023.03.02 (71)申请人 广州新锐光掩模科技有限公司 地址 510555 广东省广州市(中新广州知识 城）亿创街1号406房之518 (72)发明人 孙长杰　包忍　葛海鸣　 (74)专利代理机构 北京清大紫荆知识产权代理 有限公司 11718 专利代理师 郑纯　黄贞君 (51)Int.Cl. G03F 1/80 (2012.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 光掩模钝化层制造方法 (57)摘要 本申请提供一种光掩模钝化层制造方法，涉 及光掩模的技术领域，其包括以下步骤：S1，获取 晶圆结构；S2，将晶圆结构置于真空腔体中，向真 空腔体中通入氧气和氯气，通过加载射频电源， 产生氯离子基团对阻挡层、钝化层及金属层进行 蚀刻，蚀刻出光刻图形的蚀刻窗口 ；S3，通过加载 射频电源，产生氧离子基团与金属层被蚀刻出的 侧边进行氧化反应，使得金属层被蚀刻出的侧边 表面生成钝化层；S4，去除钝化层表面的阻挡层。 通过氧离子基团和氯离子基团直接在干法蚀刻 机台上，一次性完成晶圆结构的蚀刻及金属层表 面钝化层的生成，进而省去了转移至Asher机台 A 进行钝化层制作的工艺流程，摆脱了工艺流程的 9 局限性，优化了制程，降低了工艺成本。 5 8 7 4 0 6 1 1