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PCT发明

用于基于缺陷来确定图案化过程的特性以减少热点的方法

2023-07-01 07:18:33 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202080031354.6
  • 公开（公告）日：2024-09-13
  • 公开（公告）号：CN113728276A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：本文描述了用于基于缺陷来优化图案化过程的方面的方法。例如，一种图案化过程的源和掩模优化的方法包括：在衬底上获得具有具备缺陷的阈值概率的部位；限定所述部位周围的缺陷范围以包括所述衬底上的图案的一部分以及与所述图案的所述部分相关联的一个或更多个评估点；基于与所述缺陷相关联的缺陷指标来确定第一成本函数的值；确定针对所述第一成本函数的第一引导函数，其中所述第一引导函数与所述图案化过程的在所述缺陷范围内的所述一个或更多个评估部位处的性能指标相关联；以及基于所述第一成本函数和所述第一引导函数来调整源和/或掩模特性。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113728276 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202080031354.6 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2020.03.26 代理人 王益 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/838,423 2019.04.25 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G06F 30/398 (2006.01) 2021.10.25 G03F 1/70 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2020/058479 2020.03.26 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/216572 EN 2020.10.29 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 彭星月　徐端孚　

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