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• 目标版图和掩膜版版图的修正方法及半导体结构 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112824971A 申请号：CN201911148990.2
  发明 目标版图和掩膜版版图的修正方法及半导体结构

  • 申请号：CN201911148990.2
  • 公开号：CN112824971A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司|||中芯国际集成电路制造(北京)有限公司

  一种目标版图和掩膜版版图的修正方法及半导体结构，所述目标版图的修正方法包括：提供基底；检测所述基底的缺陷；在所述基底表面获取缺陷图形，所述缺陷在所述基底表面的投影在所述缺陷图形内，所述缺陷图形包括若干第一图形；提供初始目标版图，所述初始目标版图包括若干初始图形；对所述缺陷图形和所述初始目标版图进行比较处理，在所述初始目标版图中获取待修正图形，所述待修正图形为初始图形中与所述第一图形至少部分重合的部分；对所述待修正图形进行预处理以形成目标版图。所述方法能够提高光刻图形的精度。

  发布时间：2023-06-07 12:47:15

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• 镜头驱动机构 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112799260A 申请号：CN202110153401.0
  发明 镜头驱动机构

  • 申请号：CN202110153401.0
  • 公开号：CN112799260A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：河南皓泽电子股份有限公司

  本发明公开了一种镜头驱动机构，镜头驱动机构包括外壳、上簧片、载体、第一磁石组、第二磁石组、框架、下簧片、悬丝、电路板、底座以及内嵌金属片。载体安装于框架的中空结构内并设置中空部以安装光学元件，第一磁石组安装在框架上，下簧片将框架和载体的下表面可活动连接，上簧片将框架和载体的上表面可活动连接，载体设有第一组线圈和第二磁石组，电路板内设有第二组线圈，第二组线圈与第二磁石组配合以在通电时驱动载体沿相互垂直的X轴方向和Y轴运动，第一组线圈与第一磁石组配合以在通电时驱动载体沿光轴方向运动，本发明的镜头驱动机构将线圈和磁石同时设置于载体上，通过旋转方式对镜头抖动进行补偿，实现更好的防手震效果。

  发布时间：2023-06-07 12:34:22

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• 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112204468A 申请号：CN201980035400.7
  PCT发明 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法

  • 申请号：CN201980035400.7
  • 公开号：CN112204468A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：富士胶片株式会社

  本发明提供一种感光性转印材料以及使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，该感光性转印材料具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，上述感光性树脂层包含聚合物及光产酸剂，该聚合物包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元，上述感光性树脂层中所包含的上述聚合物是酸值为10mgKOH/g以下的丙烯酸树脂，上述中间层包含水溶性或碱溶性丙烯酸树脂，上述中间层与上述感光性树脂层接触。

  发布时间：2023-05-24 13:32:19

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• 空间光调制 公开日期：2024-09-17 公开号：CN113950643A 申请号：CN202080040493.5
  PCT发明 空间光调制

  • 申请号：CN202080040493.5
  • 公开号：CN113950643A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：杜尔利塔斯有限公司

  公开了一种布置成投射光图案的投影仪。投影仪包括空间光调制器和光源。空间光调制器具有布置成显示相位图案的像素阵列。像素阵列可以是基本平面的像素阵列。每个像素包括具有可在第一方向和第二方向之间的旋转平面内旋转的指向矢的液晶。光源布置成用偏振光照射像素阵列，使得光根据相位图案被空间调制以形成光图案。可以说，光图案对应于相位图案。光在像素阵列上的入射角大于零，并且光是s偏振的。第一方向平行于光的偏振方向。第二个方向在入射平面内。

  发布时间：2023-04-23 09:11:47

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• 一种用于光刻胶顶层涂层的组合物及其聚合物制备方法 公开日期：2024-09-17 公开号：CN114637165A 申请号：CN202210290003.8
  发明 一种用于光刻胶顶层涂层的组合物及其聚合物制备方法

  • 申请号：CN202210290003.8
  • 公开号：CN114637165A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：中节能万润股份有限公司

  本发明涉及一种用于光刻胶顶层涂层的组合物及其聚合物制备方法，所述的组合物中至少包含如下两种聚合物：a、b、c、x、y、z分别为聚合物重复单元的质量分数，a选自30‑60％，b选自5‑20％，c选自20‑50％；x选自5‑20％，y选自1‑10％，z选自70～90％；聚合物I和聚合物II的分子量分别选自1000‑30000Da，分子量分散系数分别选自1.0‑4.0。所述的组合物用于光刻胶顶层涂层具有较高的后退角，可减少光致产酸剂在水中的沥出。

  发布时间：2023-05-14 11:38:28

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• 经反射光匹配和表面动力模型优化蚀刻轮廓的方法和装置 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112526819A 申请号：CN202011262730.0
  发明 经反射光匹配和表面动力模型优化蚀刻轮廓的方法和装置

  • 申请号：CN202011262730.0
  • 公开号：CN112526819A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：朗姆研究公司

  本发明涉及经反射光匹配和表面动力模型优化蚀刻轮廓的方法和装置。公开了优化计算机模型的方法，其通过使用多个模型参数(B)将半导体衬底上的特征的蚀刻轮廓与成组的独立输入参数(A)相关联。在一些实施方式中，所述方法可以包括：修改B的一个或多个值，以便相对于A的一组或者多组成组的值减少指示在从模型生成的计算反射光谱和对应的实验反射光谱之间的差的尺度。在一些实施方式中，计算所述尺度可以包括：将所述计算反射光谱和对应的实验反射光谱投射到经降维的子空间上，并且计算投射到所述子空间上的所述反射光谱之间的差。还公开了实现这样的优化计算机模型的蚀刻系统。

  发布时间：2023-06-02 13:12:36

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• 加热装置，带加热装置，定影装置和图像形成设备 公开日期：2024-09-17 公开号：CN113196182A 申请号：CN201980062433.0
  PCT发明 加热装置，带加热装置，定影装置和图像形成设备

  • 申请号：CN201980062433.0
  • 公开号：CN113196182A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：株式会社理光

  加热装置(9)包括加热器(22)，保持器(23)，装置框架(40)，主定位部(A)，第二定位部(B)和第三定位部(C)。加热器包括发热器(60)。保持器保持加热器。装置框架配置为支撑保持器。主定位部配置为在加热器的纵向方向上定位加热器和保持器。第二定位部配置为在加热器的纵向方向上定位保持器和装置框架。第三定位部配置为在加热器的纵向方向上定位装置框架和图像形成设备主体。主定位部以及第二定位部和第三定位部中之一设在由加热器的纵向方向上的发热器的中央所定义的同一侧。

  发布时间：2023-06-16 07:15:36

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• 一种可耐高水压潜水摄影浮力臂 公开日期：2024-09-17 公开号：CN114488660A 申请号：CN202110860510.6
  发明 一种可耐高水压潜水摄影浮力臂

  • 申请号：CN202110860510.6
  • 公开号：CN114488660A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：深圳市飞超科技有限公司

  本发明公开了一种可耐高水压潜水摄影浮力臂，包括可耐高水压潜水摄影浮力臂本体，其本体包括连接球头、金属盖、碳纤管、缓冲胶圈、粗密封胶圈、细密封胶圈、连接螺杆，其中连接球头包括圆形通孔、缓冲胶圈安装槽、盲孔螺牙、底座和球头，金属盖包括内安装槽、粗密封胶圈沉槽、细密封胶圈沉槽和金属盖延长内壁，碳纤管分为碳纤管上平面和碳纤管下平面，金属盖内外两面沉槽分别装有粗密封胶圈和细密封胶圈，连接球头与金属盖相接压紧粗密封胶圈，连接螺杆可穿过金属盖与碳纤管锁紧两端的连接球头盲孔螺牙，两个金属盖分别与碳纤管的上下两个平面组装压紧。本发明专利产品可防松防漏耐高水压，增加浮力，金属盖和碳纤强度大，耐腐蚀，使用寿命长。

  发布时间：2023-05-09 11:53:09

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• 气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺 公开日期：2024-09-17 公开号：CN112748639A 申请号：CN201911052499.X
  发明 气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺

  • 申请号：CN201911052499.X
  • 公开号：CN112748639A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司

  本发明公开了一种气流分区调控的FFU整流板和调整胶形的涂胶工艺，属于光刻胶的涂胶工艺技术领域。分区调控的FFU整流板的可调控区域具有双层可旋转网孔结构，通过调节网孔重合度实现分区控制FFU风速，从而调控匀胶时晶圆所处气流环境，实现胶形的精确调控。本发明的匀胶工艺，可实现配方不做改动下通过分区调控FFU风速方式快速精确调整胶形至预期效果。

  发布时间：2023-06-05 18:31:02

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• 一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法 公开日期：2024-09-17 公开号：CN114518695A 申请号：CN202011312520.8
  发明 一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法

  • 申请号：CN202011312520.8
  • 公开号：CN114518695A
  • 公开日期：2024-09-17
  • 申请人：源卓微纳科技（苏州）股份有限公司

  本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数据位置坐标信息。将各个部件的坐标系统一至同一坐标系，校正上下曝光出现的位置偏差，提升曝光精度。

  发布时间：2023-05-10 11:47:06

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