光学装置、曝光装置以及物品制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113238459 A (43)申请公布日 2021.08.10 (21)申请号 202110140250.5 (22)申请日 2021.02.02 (30)优先权数据 2020-018861 2020.02.06 JP (71)申请人 佳能株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 木村良一　 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 代理人 李鹏宇 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G02B 7/00 (2021.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图7页 (54)发明名称 光学装置、曝光装置以及物品制造方法 (57)摘要 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制 造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并 且抑制成像性能降低的光学装置，本发明所涉及 的光学装置的特征在于具备：光学元件(5)；收纳 光学元件(5)的镜筒(11)；设定从气体供给机构 向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行 进方向设定机构(16)；以及控制行进方向设定机 构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部 (18)。 A 9 5 4 8 3 2 3 1 1 N C CN 113238459 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种光学装置，