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使用机械滤波器的量测装置和方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN113767336A 申请号：CN202080031831.9使用机械滤波器的量测装置和方法
- 申请号：CN202080031831.9
- 公开号：CN113767336A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：ASML荷兰有限公司
一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与当前目标进行交互；检测装置；以及与检测装置通信的控制系统。检测装置包括：光传感器，该光传感器具有与诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从诊断区域处的诊断探针与当前目标之间的交互产生的光；以及诊断区域和光传感器之间的机械滤波器。机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，光学掩模限定被定位于光束缩减器和光传感器之间的孔。控制系统被配置为基于来自光传感器的输出来估计当前目标的属性。- 发布时间：2023-07-03 11:00:28
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防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN117377909A 申请号：CN202280032208.4防护膜、防护膜组件、曝光原版、曝光装置和防护膜的制造方法
- 申请号：CN202280032208.4
- 公开号：CN117377909A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：三井化学株式会社
一种防护膜，其包含多个碳纳米管，上述多个碳纳米管的下述式(1)所表示的直线性参数的平均值为0.10以下。式(1)：直线性参数＝单管的宽度的标准偏差Sa/上述宽度的平均值Aa。上述式(1)中，上述单管表示上述多个碳纳米管所含的1根碳纳米管，上述标准偏差Sa和上述平均值Aa各自基于沿上述单管的长边方向每隔2nm间隔测定上述单管的宽度而得的11处的测定值来算出。- 发布时间：2024-01-26 07:14:51
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光学装置、曝光装置以及物品制造方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN112286002A 申请号：CN202010704311.1光学装置、曝光装置以及物品制造方法
- 申请号：CN202010704311.1
- 公开号：CN112286002A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：佳能株式会社
本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。- 发布时间：2023-05-28 12:22:01
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定影液 公开日期：2024-08-13 公开号：CN114008541A 申请号：CN201980097593.9定影液
- 申请号：CN201980097593.9
- 公开号：CN114008541A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：兄弟工业株式会社
提供能够在抑制臭气的同时提高定影性的定影液。定影液含有脂肪族二元羧酸酯、聚乙二醇烷基醚和水。水分散在脂肪族二元羧酸酯中。聚乙二醇烷基醚具有4个以上且12个以下的氧基亚乙基单元。- 发布时间：2023-04-24 09:41:12
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一种正性光刻胶剥离液组合物 公开日期：2024-08-13 公开号：CN113820927A 申请号：CN202111114452.9一种正性光刻胶剥离液组合物
- 申请号：CN202111114452.9
- 公开号：CN113820927A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：易安爱富（武汉）科技有限公司
本发明提出了一种正性光刻胶剥离液组合物，包括有机胺、有机溶剂、缓蚀剂、络合剂、表面活性剂和渗透剂，按照重量百分比100％计算，所述组合物包括有机胺5‑8％、有机溶剂30‑50％、缓蚀剂10‑15％、络合剂3‑5％，表面活性剂3‑5％，渗透剂1‑5％，余量为水。本发明的光刻胶剥离液具有剥离温度低，时间短，对有机层蚀刻小，且剥离后光刻液不会重新吸附到基板上的优点，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。- 发布时间：2023-07-06 10:58:39
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用于改善图像中的结构的基于过程的轮廓信息的方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN114286964A 申请号：CN202080058841.1用于改善图像中的结构的基于过程的轮廓信息的方法
- 申请号：CN202080058841.1
- 公开号：CN114286964A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：ASML荷兰有限公司
本文描述了产生经修改的模拟轮廓和/或基于经修改的轮廓产生量测量规的方法。一种产生用于测量衬底上的结构的物理特性的量测量规的方法包括：获得(i)与印制于所述衬底上的所述结构的所述物理特性相关联的测量数据，和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少一部分，所述模拟轮廓的所述部分与所述测量数据相关联；基于所述测量数据修改所述结构的所述模拟轮廓的所述部分；和在所述模拟轮廓的经修改的部分上或附近产生所述量测量规，所述量测量规被放置以测量所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性。- 发布时间：2023-05-05 09:39:32
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测量与使用光刻过程形成的结构有关的聚焦参数的方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN113168112A 申请号：CN201980077610.2测量与使用光刻过程形成的结构有关的聚焦参数的方法
- 申请号：CN201980077610.2
- 公开号：CN113168112A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：ASML荷兰有限公司
披露了一种测量与使用光刻过程来形成结构有关的聚焦参数的方法，以及相关联的量测装置。所述方法包括：获得与所述结构的交叉偏振测量有关的测量数据；和基于所述测量数据确定所述聚焦参数的值。- 发布时间：2023-06-15 07:13:43
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一种数字曝光设备和曝光方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN114442436A 申请号：CN202011195247.5一种数字曝光设备和曝光方法
- 申请号：CN202011195247.5
- 公开号：CN114442436A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：京东方科技集团股份有限公司
本发明提供一种数字曝光设备和曝光方法。数字曝光设备包括透镜阵列，透镜阵列至少包括第一透镜单元和第二透镜单元，光线转置组件设置于第二透镜单元的出射光路上，光线转置组件用于控制第二透镜单元出射的光线关于数字曝光设备的曝光方向转置，当利用该数字曝光设备进行曝光时，需要利用通过第一透镜单元和透过第二透镜单元的光线对于同一位置进行多次曝光，由于通过第一透镜单元的光线和透过第二透镜单元关于数字曝光设备的曝光方向转置，所以即使光源发出的光线是不均匀的，由于第一透镜单元，光线经过转置之后，在对于同一位置进行曝光时的不均匀程度会被抵消，从而提高了数字曝光设备的曝光结果均匀性，有助于提高曝光效果。- 发布时间：2023-05-09 11:19:26
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一种基于光学扫描全息的全息打印系统及方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN116841172A 申请号：CN202310816370.1一种基于光学扫描全息的全息打印系统及方法
- 申请号：CN202310816370.1
- 公开号：CN116841172A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：昆明理工大学
本发明公开一种基于光学扫描全息的全息打印系统及方法，包括OSH系统、AOM打印系统。本发明结合光学扫描全息、直接条纹打印法，在记录三维物体信息时，对环境要求不高，且全息光栅分辨率高；此外，基于AOM的直接条纹打印系统，系统复杂度低，可控制激光的能量，打印生成的全息图像具有适当的亮度和清晰度。- 发布时间：2023-10-11 07:14:41
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图像检测装置、脉冲照明装置、以及脉冲照明方法 公开日期：2024-08-13 公开号：CN112558379A 申请号：CN202010940208.7图像检测装置、脉冲照明装置、以及脉冲照明方法
- 申请号：CN202010940208.7
- 公开号：CN112558379A
- 公开日期：2024-08-13
- 申请人：株式会社三丰
本发明涉及一种图像检测装置、脉冲照明装置以及脉冲照明方法。所述图像检测装置包括：焦点位置周期性地变化的液体谐振式的透镜系统(3)；通过透镜系统(3)检测对象物的图像的图像检测部(4)；与焦点位置同步地对对象物进行脉冲照明的脉冲照明部(5)；以及控制脉冲照明部(5)的照明控制部(62)，脉冲照明部(5)包括：主照明部(51)；以及辅助照明部(52)，照明控制部(62)通过主照明部(51)对对象物进行脉冲照明，并且在主照明部(51)产生的对象物的照度为规定的阈值以下的状态下，通过辅助照明部(52)补偿对象物的照度。- 发布时间：2023-06-02 13:26:37
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