一种正性光刻胶剥离液组合物

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113820927 A (43)申请公布日 2021.12.21 (21)申请号 202111114452.9 (22)申请日 2021.09.23 (71)申请人 易安爱富（武汉）科技有限公司 地址 430000 湖北省武汉市东湖开发区流 芳园横路8号武汉天马微电子有限公 司厂房内 (72)发明人 李泰亨　申阳　高峰　苗发虎　 白晓鹏　 (74)专利代理机构 武汉红观专利代理事务所 (普通合伙) 42247 代理人 王昌亮 (51)Int.Cl. G03F 7/42 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种正性光刻胶剥离液组合物 (57)摘要 本发明提出了一种正性光刻胶剥离液组合 物，包括有机胺、有机溶剂、缓蚀剂、络合剂、表面 活性剂和渗透剂，按照重量百分比100％计算，所 述组合物包括有机胺5‑8％、有机溶剂30‑50％、 缓蚀剂10‑15％、络合剂3‑5％，表面活性剂3‑ 5％，渗透剂1‑5％，余量为水。本发明的光刻胶剥 离液具有剥离温度低，时间短，对有机层蚀刻小， 且剥离后光刻液不会重新吸附到基板上的优点， 在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 A 7 2 9 0 2 8 3 1 1 N C CN 113820927 A 权　利　要　求　书