基板处理装置和基板处理方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112239859 A (43)申请公布日 2021.01.19 (21)申请号 202010661852.0 (22)申请日 2020.07.10 (30)优先权数据 2019-132099 2019.07.17 JP (71)申请人 东京毅力科创株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 三浦嘉隆　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇　张会华 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01) H01L 21/02 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图8页 (54)发明名称 基板处理装置和基板处理方法 (57)摘要 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。 该基板处理装置抑制在设于处理容器内部的喷 射器旋转时产生颗粒，具有：处理容器；喷射器， 设于处理容器内部，呈沿长度方向延伸的形状， 供给处理气体；保持架，固定于喷射器；风车，固 定于保持架；第1驱动用气体供给部，供给使风车 向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供 给部，供给使风车向与一方向相反的另一方向旋 转的驱动用气体；驱动用气体控制部，控制第1驱 动用气体供给部和第2驱动用气体供给部的驱动 用气体的供给，利用驱动用气体控制部的控制，