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• 在脉冲式PVD中通过等离子体改性从晶片移除颗粒的方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN113412341A 申请号：CN202080013665.X
  PCT发明 在脉冲式PVD中通过等离子体改性从晶片移除颗粒的方法

  • 申请号：CN202080013665.X
  • 公开号：CN113412341A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：应用材料公司

  披露了用于减少沉积在基板上的颗粒的物理气相沉积方法。可增加溅射期间的压力以引起在等离子体中形成的颗粒的团聚。在熄灭等离子体之前，可将团聚的颗粒移动到处理腔室的外部部分，使得团聚物无害地落在基板的直径的外侧。

  发布时间：2023-06-23 08:07:01

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• 由不同材料制造结晶材料的方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN114929927A 申请号：CN202080092221.X
  PCT发明 由不同材料制造结晶材料的方法

  • 申请号：CN202080092221.X
  • 公开号：CN114929927A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：戴森技术有限公司

  一种在表面上制造材料的结晶层的方法，该结晶层包含锂、至少一种过渡金属和至少一种抗衡离子，其中该方法包括以下步骤：将来自包含锂的第一靶的材料等离子体溅射到基板的表面或由基板支撑的表面上，至少存在对应于粒子从第一靶到表面上的轨迹的第一羽流，以及将来自包含至少一种过渡金属的第二靶的材料等离子体溅射到表面上，至少存在对应于粒子从第二靶到表面上的轨迹的第二羽流。第一靶定位成与第二靶不平行，第一羽流和第二羽流会聚在靠近基板表面或由基板支撑的表面的区域，并且结晶层形成在所述区域的表面上。

  发布时间：2023-05-20 11:10:22

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• 一种高温抗氧化涂层的修补方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN114657551A 申请号：CN202111626413.7
  发明 一种高温抗氧化涂层的修补方法

  • 申请号：CN202111626413.7
  • 公开号：CN114657551A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：江苏大学

  本发明公开一种高温抗氧化涂层的修补方法，属于材料制备技术领域。本发明以MAX相粉末作为主要原材料；将MAX相粉末球磨、干燥；对涂层脱落部位打磨；采用超高速激光熔覆法制备MAX相高温抗氧化涂层，达到炭/炭复合材料产品表面高温抗氧化涂层脱落修复的目的。本发明将MAX相粉末利用超高速激光熔覆技术对炭/炭复合材料产品表面抗氧化涂层脱落部位进行修补。该工艺不仅增强了涂层与基体的界面结合强度，而且能够随时对基体的表面进行涂层局部修补；另一方面，该工艺方法制备周期短，相比于传统磁控溅射、高温烧结涂层等工艺手段具有高的工作效率。

  发布时间：2023-05-14 11:55:55

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• 复合基材的涂覆方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN114585767A 申请号：CN202080062808.6
  PCT发明 复合基材的涂覆方法

  • 申请号：CN202080062808.6
  • 公开号：CN114585767A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：赛峰集团

  本发明涉及一种复合基材的涂覆方法，其特征在于包括以下步骤：a‑通过在水性介质中混合来制备溶胶‑凝胶组合物：1‑至少一种式(I)的金属醇盐M(OR1)，2‑在至少一种式(II)R3mSi(OR2)4‑m的有机烷氧基硅烷的存在下，3‑并且在任选氧化物或金属颗粒的存在下，4‑通过混合组合物以使有机‑无机杂化网络缩合，b‑将步骤a)中获得的溶胶‑凝胶组合物在复合基材上沉积至少一个底涂层；c‑在步骤b)中获得的涂覆的复合基材上沉积至少一个后续涂层。本发明还涉及可通过该方法获得的涂覆的复合基材，以及该溶胶‑凝胶组合物作为复合基材的底涂层的用途，以便在沉积后续层时保护所述基材和/或改善所述基材上的附着性。

  发布时间：2023-05-12 11:50:22

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• CVD反应器的排气机构 公开日期：2024-11-01 公开号：CN114555858A 申请号：CN202080070943.5
  PCT发明 CVD反应器的排气机构

  • 申请号：CN202080070943.5
  • 公开号：CN114555858A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：艾克斯特朗欧洲公司

  本发明涉及用于在CVD反应器中应用的排气机构，所述CVD反应器具有环形的上部件(11)，所述上部件具有围绕圆形面布置的排气口(7)，其中，具有平行于圆形面延伸的基面(18)的上部件(11)位于形成集气通道(8)的下部件(12)上。首先提出，处理室壁(17)被材料一体式模制在上部件(11)上，所述处理室壁(17)在其上端具有肩部(19)，所述肩部在径向向内方向上相对于平行于圆形面的中心轴线(A)的方向(S)至少局部地超过排气口(7)，并且排气口(7)的轴线(B)的向上指向的部段相对于轴线(A)是倾斜的。还提出，上部件(11)形成在圆形面的轴线(A)的方向上敞开的缝隙(14)的第一缝隙壁(15)，并且下部件(12)形成缝隙(14)的平行于第一缝隙壁(15)延伸的第二缝隙壁(16)，以用于接收板(10)的边缘。

  发布时间：2023-05-12 11:28:03

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• 一种管材溅镀设备及其方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN114032496A 申请号：CN202111358968.8
  发明 一种管材溅镀设备及其方法

  • 申请号：CN202111358968.8
  • 公开号：CN114032496A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：朱健

  本发明属于管材加工技术领域，具体的说是一种管材溅镀设备及其方法，包括筒体和控制器、靶材、电机、主动转盘、主动副转盘、夹具、从动转盘和从动副转盘；所述从动转盘的顶部固连有气泵；所述从动转盘的顶部中心固连有电动推杆，电动推杆的顶部固连有滑动盘，现有技术中，在运输与装夹的过程中可能对管材造成二次污染，从而影响溅镀效果，影响加工效果，且人工清洁效率较低，劳动强度较大；本发明中，通过设置滑动盘，便于对管材在筒体进行清洁，清洁过程不需要人员直接参与，提高清洁效率，且降低人员劳动强度，清洁完成后直接进行溅镀，避免造成二次污染，改善溅镀效果，提高产品良率。

  发布时间：2023-04-25 09:49:54

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• 一种结合力强的耐磨涂层 公开日期：2024-11-01 公开号：CN113969387A 申请号：CN202011142222.9
  发明 一种结合力强的耐磨涂层

  • 申请号：CN202011142222.9
  • 公开号：CN113969387A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：深圳优易材料科技有限公司

  本发明提供一种结合力强的耐磨涂层，其具有金属材料底涂层和陶瓷材料面涂层，借助底涂层与面涂层之间产生的特殊的界面结构形成咬合，提高了金属材料底涂层和陶瓷材料面涂层之间的结合力。为了实现上述目的，本发明采用如下的技术方案，一种结合力强的耐磨涂层，包括形成于基材之上的底涂层，以及形成于底涂层之上的面涂层；所述底涂层为金属材料，所述面涂层为陶瓷材料；其中，底涂层朝向面涂层的表面具有能够镶嵌面涂层的微观结构，通过所述微观结构与面涂层形成咬合。

  发布时间：2023-04-23 09:33:07

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• 内壁构件的再生方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN115803469A 申请号：CN202180008331.8
  PCT发明 内壁构件的再生方法

  • 申请号：CN202180008331.8
  • 公开号：CN115803469A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：株式会社日立高新技术

  设于进行等离子处理的处理室的内壁的内壁构件(40)具备：基材(41)；具有端部(EP1)的阳极氧化膜(42a)；和具有端部(EP2)的喷镀膜(42b)。基材(41)具有表面(FS1)、位于比表面(FS1)高的位置的表面(FS2)以及侧面(SS1)。内壁构件(40)的再生方法具有如下工序：(a)将从喷镀膜(42b)露出的阳极氧化膜(42a)用掩蔽件(100)覆盖；(b)通过对喷镀膜(42b)进行喷砂处理，来除去表面(FS2)上的喷镀膜(42b)，留下表面(FS1)上以及侧面(SS1)上的喷镀膜(42b)的一部分，以使得未被掩蔽件(100)覆盖的阳极氧化膜(42a)被喷镀膜(42b)覆盖；(c)在留下的喷镀膜(42b)上以及表面(FS2)上通过喷镀法形成新的喷镀膜(42b)；(d)将掩蔽件(100)拆下。

  发布时间：2023-06-07 22:56:25

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• 用于在真空处理系统中移动装置的运输系统、包括其的基板处理系统以及操作运输系统的方法 公开日期：2024-11-01 公开号：CN115003852A 申请号：CN202080094100.9
  PCT发明 用于在真空处理系统中移动装置的运输系统、包括其的基板处理系统以及操作运输系统的方法

  • 申请号：CN202080094100.9
  • 公开号：CN115003852A
  • 公开日期：2024-11-01
  • 申请人：应用材料公司

  描述了一种用于在真空处理系统中移动装置(10)的运输系统(100)。所述运输系统(100)包括驱动单元(110)，所述驱动单元包括外壳(120)，所述外壳包围具有一个或多个电磁体(130)的内部空间(121)。另外，所述运输系统(100)包括真空系统(140)，所述真空系统与所述外壳(120)的所述内部空间(121)连接。另外，描述了一种包括所述运输系统的基板处理系统以及一种操作运输系统的方法。

  发布时间：2022-10-24 10:23:11

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• 一种可形成复合材料的共溅射阴极体镀膜设备 公开日期：2024-10-29 公开号：CN118086845A 申请号：CN202410149413.X
  发明 一种可形成复合材料的共溅射阴极体镀膜设备

  • 申请号：CN202410149413.X
  • 公开号：CN118086845A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：金耀真空设备（中山）有限公司

  本发明公开了一种可形成复合材料的共溅射阴极体镀膜设备，包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有分别沿长度方向设置且用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件和旋转阴极组件，以及设置于平面阴极组件和旋转阴极组件上侧带动基材运动的基材滚动支架，镀膜腔体上设有用于控制平面阴极组件转动调节溅射角度的平面阴极角度调节组件和用于控制旋转阴极组件转动调节溅射角度的旋转阴极角度调节组件，结合旋转阴极和平面阴极可最大限度地发挥两种阴极的优势，实现各类型复合材料的形成，可利用不同材质的不同反应，形成各种需要的复合材料，通过阴极功率、气体流量、阴极磁场角度的调整，实现不同比例各类型复合材料的形成。

  发布时间：2024-06-01 07:57:28

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