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• 双透镜驱动装置和摄像头模块 公开日期：2024-10-08 公开号：CN114740677A 申请号：CN202210319255.9
  发明 双透镜驱动装置和摄像头模块

  • 申请号：CN202210319255.9
  • 公开号：CN114740677A
  • 公开日期：2024-10-08
  • 申请人：LG伊诺特有限公司

  实施例涉及一种双透镜驱动装置，该双透镜驱动装置包括：壳体；设置在壳体内的第一线筒；设置在壳体内并且远离第一线筒定位的第二线筒；设置在第一线筒上的第一线圈；设置在第二线圈上的第二线圈；设置在壳体中并与第一线圈和第二线圈相对地定位的磁体；设置在壳体下方的基座；设置在壳体和基座之间并与磁体相对且包括具有第三线圈的电路构件的板；相对于板可移动地支撑壳体的支撑构件。第三线圈包括沿第一方向设置的第一轴线圈和沿不同于第一方向的第二方向设置的第二轴线圈。第一轴线圈包括彼此远离地定位的四个第一轴线圈单元。四个第一轴线圈单元彼此连接。第二轴线圈包括彼此远离地定位的四个第二轴线圈单元。四个第二轴线圈单元彼此连接。

  发布时间：2023-05-16 10:30:08

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• 多源照射单元及其操作方法 公开日期：2024-10-01 公开号：CN112840271A 申请号：CN201980067125.7
  PCT发明 多源照射单元及其操作方法

  • 申请号：CN201980067125.7
  • 公开号：CN112840271A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  一种照射单元包括第一电磁波源，该第一电磁波源包括用于在第一方向上输出第一电磁波以照射样品的第一区域的电路系统；第二电磁波源，该第二电磁波源包括用于在与第一方向基本相反的第二方向上输出第二电磁波的电路系统；以及反射器，该反射器被配置为基本上沿第一方向反射第二电磁波以照射样品的第二区域。

  发布时间：2023-06-11 11:33:38

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• 基板单元、装卸单元及图像形成装置 公开日期：2024-10-01 公开号：CN114253114A 申请号：CN202111080023.4
  发明 基板单元、装卸单元及图像形成装置

  • 申请号：CN202111080023.4
  • 公开号：CN114253114A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：株式会社理光

  本发明涉及即使安装在设备主体上，也难以产生基板破损的不良情况的基板单元、装卸单元及图像形成装置。相对于图像形成装置主体(100)(设备主体)在规定的方向上可以装卸地来设置的基板单元(80)，设置有以露出端子(81a)～(81d)的方式来配置的基板(81)，以及与端子可以导通地来接触的中继部件(82A)～(82D)。然后，中继部件在远离与端子接触的第一接触部(82a)～(82d)的位置里，设置有与基板单元相对于设备主体的装卸动作联动地能够与设备主体的主体端子(111)～(114)接触分离的第二接触部(82e)～(82h)。然后，中继部件对端子和与第二接触部(82e)～(82h)接触状态下的主体端子的导通进行中继。

  发布时间：2023-05-05 09:21:27

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• 潜在热点图形区域确定方法及光刻热点图形获取方法 公开日期：2024-10-01 公开号：CN113009789A 申请号：CN202110244338.1
  发明 潜在热点图形区域确定方法及光刻热点图形获取方法

  • 申请号：CN202110244338.1
  • 公开号：CN113009789A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：广东省大湾区集成电路与系统应用研究院

  本发明公开了一种潜在热点图形区域确定方法及光刻热点图形获取方法，所述潜在热点图形区域确定方法包括：获取电路版图上的图形区域，对所述图形区域进行遍历并获取截断点；确定各相邻所述截断点的中心点为图形切割中心点；基于各所述图形切割中心获取潜在热点图形区域，其中，各所述潜在热点图形区域为以各所述图形切割中心点为中心，并以第一预设扩展距离形成的正方形区域，所述第一预设扩展距离为所述第一正方形区域的对角线长度的一半。可选出少量的潜在热点图形区域，并且可以提供足够的图形类别覆盖率，相较于普通模式和点聚类法两种方案，降低光刻友好设计的仿真面积和运算时间，提升LFD仿真加速效率，同时提高了光刻友好设计的精确度。

  发布时间：2023-06-14 12:04:53

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• 图像形成控制方法、耗材芯片及图像形成装置、耗材 公开日期：2024-10-01 公开号：CN113960900A 申请号：CN202111325506.6
  发明 图像形成控制方法、耗材芯片及图像形成装置、耗材

  • 申请号：CN202111325506.6
  • 公开号：CN113960900A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：珠海奔图电子有限公司

  本申请实施例提供一种图像形成控制方法、耗材芯片及图像形成装置、耗材，其中图像形成控制方法通过利用耗材芯片、图像形成装置各自检测得到的环境数据对待写入至耗材芯片中的待写入数据进行基于环境数据的加密解密处理并传输，避免待写入数据在传输过程中被截取篡改，使数据传输更安全。

  发布时间：2023-04-23 09:30:18

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• 一种掩膜版的承载装置 公开日期：2024-10-01 公开号：CN112904663A 申请号：CN202110159598.9
  发明 一种掩膜版的承载装置

  • 申请号：CN202110159598.9
  • 公开号：CN112904663A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：江苏高光半导体材料有限公司

  本发明涉及掩膜版技术领域，且公开了一种掩膜版的承载装置，包括第一L型防护板，所述第一L型防护板的内侧开设有放置槽，所述放置槽的内腔活动连接有超薄掩膜版本体。该掩膜版的承载装置，通过超薄掩膜版本体的外侧分别设有第一L型防护板和第二L型防护板，由于第一L型防护板的形状特点和第二L型防护板的形状特点，便于对超薄掩膜版本体的四侧进行防护，通过第一L型防护板和第二L型防护板之间利用第一伸缩杆、挡板和第一弹簧连接，便于将第二L型防护板的一侧卡在第一L型防护板的后侧上，使得第二L型防护板在不受外力的情况下第二L型防护板能够与第一L型防护板连接，提高了对超薄掩膜版本体四侧防护的稳定性。

  发布时间：2023-06-11 12:35:59

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• 光敏双马来酰亚胺组合物 公开日期：2024-10-01 公开号：CN113126431A 申请号：CN202011403098.7
  发明 光敏双马来酰亚胺组合物

  • 申请号：CN202011403098.7
  • 公开号：CN113126431A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

  本公开涉及一种包含光引发剂和双马来酰亚胺组分的光敏组合物，包含所述光敏组合物的光聚合物及其用途，尤其是在电子装置中的用途。所述双马来酰亚胺组分包括双马来酰亚胺化合物或双马来酰亚胺低聚物。

  发布时间：2023-06-14 12:59:04

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• 一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置 公开日期：2024-10-01 公开号：CN114397799A 申请号：CN202210069647.4
  发明 一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置

  • 申请号：CN202210069647.4
  • 公开号：CN114397799A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：张玥

  本发明公开了一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置，包括传送带；其特征在于：还包括EUV辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元；所述EUV辐射源产生单元包括反光杯和激光器；在传送带的带体上设置有通光孔，在通光孔内设置有激光晶体，在激光晶体上部设置有涂层，在涂层上设置有多个微米孔，在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料；所述清洗单元包括碎片清洗腔和蒸汽喷头；所述燃料注入单元包括燃料注入腔和高压喷嘴；在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源，在燃料注入腔后部设置有第二机械臂。本发明有效实现了装置的连续运行，保证了燃料加注的可靠，提高了装置的产生效率，同时达到提高光刻精度的目的。

  发布时间：2023-05-09 10:38:31

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• 一种低残留的CF显影液及其制备方法 公开日期：2024-10-01 公开号：CN114721237A 申请号：CN202210368174.8
  发明 一种低残留的CF显影液及其制备方法

  • 申请号：CN202210368174.8
  • 公开号：CN114721237A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：福建省佑达环保材料有限公司

  本发明公开了一种低残留的CF显影液及其制备方法，是一种用于新型显示制造领域的高世代线CF制程用显影液，属于湿电子化学品领域，主要应用于8.5代线及以上大尺寸的TFT面板制造中。该显影液通过特定阴离子表面活性剂与有机溶剂和螯合剂协同作用，能有效提高显影精度，降低光刻胶膜渣的堵塞，易清洗不残留，特别适合水洗段设计较短的高世代线。

  发布时间：2023-05-15 11:26:41

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• 一种可水显影的热敏版及其制备方法 公开日期：2024-10-01 公开号：CN114779579A 申请号：CN202210539919.2
  发明 一种可水显影的热敏版及其制备方法

  • 申请号：CN202210539919.2
  • 公开号：CN114779579A
  • 公开日期：2024-10-01
  • 申请人：安徽强邦新材料股份有限公司

  本发明涉及一种可水显影的热敏版及其制备方法，属于平板印刷技术领域，包括基材、热敏层和保护层，其中热敏层包括以下重量份原料：成膜树脂70‑80份、多官能团单体15‑20份、抗静电组分3‑5份、阳离子引发剂5‑15份、热敏染料5‑15份和溶剂800‑900份；制备方法包括以下步骤：将热敏层原料混合后涂布于基材表面，然后于100℃下干燥1min，然后将保护层原料混合后涂布热敏层表面，在110℃下干燥1min，得到该热敏版，热敏层涂布干重为10‑15mg/dm2，保护层涂布干重为5‑10mg/dm2，本发明制备的热敏版不仅具有良好的水显影性、耐印力，还无静电白点产生，具有较高的应用价值。

  发布时间：2023-05-17 11:46:24

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