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• 掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法 公开日期：2024-10-25 公开号：CN113406856A 申请号：CN202110268167.6
  发明 掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法

  • 申请号：CN202110268167.6
  • 公开号：CN113406856A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：爱发科成膜株式会社

  本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；蚀刻停止层，设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层，设置在比所述蚀刻停止层更远离所述透明基板的位置上。所述相移层含有铬。所述遮光层含有铬和氧。所述蚀刻停止层含有硅化钼和氮，并且在膜厚方向上靠近所述遮光层的位置上具有氮浓度达到峰值的峰值区域。

  发布时间：2023-06-23 08:07:08

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• 掩膜版以及半导体结构的形成方法 公开日期：2024-10-25 公开号：CN112946995A 申请号：CN201911259659.8
  发明 掩膜版以及半导体结构的形成方法

  • 申请号：CN201911259659.8
  • 公开号：CN112946995A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司|||中芯国际集成电路制造（北京）有限公司

  一种掩膜版以及半导体结构的形成方法，所述掩膜版包括：第一掩膜版，包括主图形以及位于主图形中的反相辅助图形；第二掩膜版，与第一掩膜版相配合，包括补偿图形，补偿图形的透光特性与反相辅助图形的透光特性相反，补偿图形在第一掩膜版上的投影覆盖反相辅助图形且位于主图形中。本发明实施例的掩膜版还包括与第一掩膜版相配合的第二掩膜版，如果第一掩膜版中的反相辅助图形在光刻工艺中显影出图形，能够利用第二掩膜版将反相辅助图形在光刻时形成的图形去除，使目标图形满足设计要求，且不需为防止出现反相辅助图形在光刻时发生显影的问题而缩小反相辅助图形的尺寸，有利于增大形成掩膜版的工艺窗口和光刻的工艺窗口，提高图形转移的精度。

  发布时间：2023-06-11 12:52:17

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• 纸张输送装置和图像形成设备 公开日期：2024-10-25 公开号：CN112782948A 申请号：CN202011213403.6
  发明 纸张输送装置和图像形成设备

  • 申请号：CN202011213403.6
  • 公开号：CN112782948A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：株式会社理光

  纸张输送装置和图像形成设备。纸张输送装置包括一对辊和偏压单元。该对辊被配置为夹持被输送的纸张。偏压单元被配置为将一对辊中的一个辊朝向该对辊中的另一个辊偏压。该对辊被配置为彼此不分离。纸张输送装置进一步包括偏压力切换单元，该偏压力切换单元被配置为在纸张被一对辊夹住之前根据纸张的类型切换偏压单元的偏压力。

  发布时间：2023-06-07 12:19:55

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• 光源装置以及投射型显示装置 公开日期：2024-10-25 公开号：CN114721213A 申请号：CN202210543671.7
  发明 光源装置以及投射型显示装置

  • 申请号：CN202210543671.7
  • 公开号：CN114721213A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：松下知识产权经营株式会社

  提供一种光源装置以及投射型显示装置，光源装置利用从固体光源射出的光的偏振特性并使用了耐久性优异的低成本的相位差板，投射型显示装置使用了该光源装置。在光源装置(40)中，从半导体激光器(21)射出的P偏振的蓝色光透过聚光透镜(23)、透镜(26)、透镜(27)、第1扩散板(28)而入射到分色镜(29)。分色镜(29)使P偏振的蓝色光的一部分透过，并反射剩余的光。透过了分色镜(29)的蓝色光由聚光透镜(36)聚光而成为会聚光，并透过四分之一波片(38)而入射到反射板(39)。由反射板反射而成为发散光的蓝色光透过四分之一波片(38)并入射到聚光透镜(36)而变换为平行光。

  发布时间：2023-05-15 11:30:45

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• 一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机 公开日期：2024-10-25 公开号：CN114690577A 申请号：CN202011628770.2
  发明 一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机

  • 申请号：CN202011628770.2
  • 公开号：CN114690577A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：上海微电子装备(集团)股份有限公司

  本发明涉及光刻机技术领域，公开一种管路柔性适应装置及浸没式光刻机，其中管路柔性适应装置包括：包括连接簧片和隔振结构的柔性连接装置，连接簧片的一端通过隔振结构连接于气液分离装置上，连接簧片的另一端自由释放，连接簧片沿气液分离装置的高度方向布置；浸没流场管路，浸没流场管路包括回收管路和注入管路，回收管路的两端分别连通于浸没头和气液分离装置，注入管路的一端连通于浸没头，注入管路远离浸没头的部分连接于连接簧片上且沿连接簧片的高度方向布置，注入管路和回收管路靠近浸没头的部分布置于同一水平面上。通过上述结构，该管路柔性适应装置能够减小管路对浸没头以及气液分离装置的影响，有利于提高浸没式光刻机的精度。

  发布时间：2023-05-14 12:23:55

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• 去除掩模版上污染颗粒的装置和方法 公开日期：2024-10-25 公开号：CN114660903A 申请号：CN202210154807.5
  发明 去除掩模版上污染颗粒的装置和方法

  • 申请号：CN202210154807.5
  • 公开号：CN114660903A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：上海华力集成电路制造有限公司

  本发明公开了一种去除掩模版上污染颗粒的装置，设置有照明灯组；照明灯组包括一个网格型光源的散光灯和一个聚光灯；散光灯开启后，网格型光源照射到掩模版上并将掩模版划分成多个第一网格，通过第一网格实现对掩模版上的污染颗粒的粗定位；聚光灯开启后用于照射粗定位对应的第一网格并实现对污染颗粒进行精定位，通过精定位实现对污染颗粒的快速去除。本发明还公开了一种去除掩模版上污染颗粒的方法。本发明能对掩模版上的污染颗粒进行快速定位，从而能对掩模版上的污染颗粒进行准确和快速的清除，提高清除污染颗粒的效率，还能避免二次污染以及降低掩模版多次开盒处理和返厂送洗的概率。

  发布时间：2023-05-14 11:56:27

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• 掩模版承载机构及掩模版量测机台 公开日期：2024-10-22 公开号：CN117826546A 申请号：CN202410225606.9
  发明 掩模版承载机构及掩模版量测机台

  • 申请号：CN202410225606.9
  • 公开号：CN117826546A
  • 公开日期：2024-10-22
  • 申请人：无锡迪思微电子有限公司

  本申请涉及一种掩模版承载机构及掩模版量测机台。掩模版承载机构包括：载台组件；支架组件，可活动地设于所述载台组件上；多个支撑件，间隔地设于所述支架组件远离所述载台组件的一侧；所述多个支撑件的中心连线围成一闭合图形；以及滑动件，可滑动地设于所述载台组件上，且与所述支架组件连接；其中，所述滑动件被配置为：所述滑动件相对所述载台组件移动，并带动所述支架组件活动，以调节所述闭合图形的形状。如此，该掩模版承载机构可以适用于不同尺寸的掩模版，在使用时不需要手动切换载台，有利于提升掩模版的量测效率。

  发布时间：2024-04-07 07:36:25

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• 显影剂供应设备及方法 公开日期：2024-10-22 公开号：CN117590718A 申请号：CN202311590432.8
  发明 显影剂供应设备及方法

  • 申请号：CN202311590432.8
  • 公开号：CN117590718A
  • 公开日期：2024-10-22
  • 申请人：江西凯利德科技有限公司

  本申请涉及智能控制领域，其具体公开了一种显影剂供应设备及方法，其使用基于深度学习模型的人工智能技术来对待显影图像的检测图像和参考图像进行特征提取和编码，以得到用于表示当前显影剂的是否需要继续供应的分类结果。这样通过智能控制显影剂的供应时机和供应量，提高了控制效率，降低了人力成本。

  发布时间：2024-03-02 07:37:14

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• 一种曝光平台及LDI曝光装置 公开日期：2024-10-22 公开号：CN116699951A 申请号：CN202310718572.2
  发明 一种曝光平台及LDI曝光装置

  • 申请号：CN202310718572.2
  • 公开号：CN116699951A
  • 公开日期：2024-10-22
  • 申请人：江西景旺精密电路有限公司

  本发明公开了一种曝光平台及LDI曝光装置，所述曝光平台包括用于放置线路板且为方形的台面板，所述台面板的至少两条相邻边上均滑动设有顶边对位条，所述台面板的板边上还嵌设有若干位于顶边对位条内侧并朝上设置的第一激光器，所述第一激光器用于对放置在台面板上的线路板进行烧点，所述台面板上还设有至少两个一一对应驱动所述顶边对位条移动的调节机构，以调节所述顶边对位条与第一激光器之间的垂直距离。本发明通过调节机构和顶边对位条的配合，以适应不同大小板边的线路板的烧点对位，确保烧点对位点不落入线路板的单元板范围内。

  发布时间：2023-09-07 07:25:52

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• 一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法 公开日期：2024-10-22 公开号：CN113848683A 申请号：CN202111110717.8
  发明 一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法

  • 申请号：CN202111110717.8
  • 公开号：CN113848683A
  • 公开日期：2024-10-22
  • 申请人：江苏影速集成电路装备股份有限公司

  本发明公开了一种基于垂直双台面结构的多工位数字光刻装置和方法，属于光刻系统技术领域。本发明提供的光刻装置及方法，通过采用触发对位模式，基于曝光工作面、对位工作面、上下板操作面分别处于不同垂直工位的垂直双台面结构，在垂直空间上，为两个台面设置多个垂直工位，多个垂直工位相互独立，并可以根据不同的曝光场合，结合不同的曝光流程方法，适用于有多分区对位需求，或更高解析精度需求，或两者均需要的生产需求，并保证光刻精度、并提高工作效率。本发明提供的光刻装置及方法，适合于使用低剂量成像材料的生产需求，此时曝光速度较快，需要尽量缩短上下板和对位操作，可使工作效率提升10％以上。

  发布时间：2023-07-07 07:08:59

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