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针对重复率相关性能变量的在线校准 公开日期:2024-11-15 公开号:CN112731770A 申请号:CN202011588035.3针对重复率相关性能变量的在线校准
- 申请号:CN202011588035.3
- 公开号:CN112731770A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:西默有限公司|||ASML荷兰有限公司
公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的,并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值,并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。- 发布时间:2023-06-05 18:20:21
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下层膜形成组合物 公开日期:2024-11-15 公开号:CN112513737A 申请号:CN201980050223.X下层膜形成组合物
- 申请号:CN201980050223.X
- 公开号:CN112513737A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:三菱瓦斯化学株式会社
本发明的课题在于,提供有用的下层膜形成组合物。前述课题可以通过以下的下层膜形成组合物来解决。一种下层膜形成组合物,其包含具有下述式(1)所示的结构单元的化合物和溶剂,前述化合物的重均分子量按聚苯乙烯换算分子量计为1000~30000,前述化合物对于丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶解性在23℃下为10质量%以上(式(1)中,A为单键或2价基团,R1各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2中的至少1个为羟基和/或巯基,m1各自独立地为0~5的整数,m2各自独立地为0~8的整数,p2各自独立地为0~2的整数。)- 发布时间:2023-06-02 12:38:55
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镀敷造形物的制造方法及电路基板 公开日期:2024-11-15 公开号:CN112368643A 申请号:CN201980044459.2镀敷造形物的制造方法及电路基板
- 申请号:CN201980044459.2
- 公开号:CN112368643A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:JSR株式会社
本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法、电路基板及表面处理剂以及表面处理剂套组。本发明的镀敷造形物的制造方法包括:步骤(1),将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上,形成表面处理基板,所述表面处理剂含有0.001质量%~2质量%的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量%~99.999质量%的有机溶剂(B);步骤(2),在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜;步骤(3),对所述涂膜进行曝光及显影,形成抗蚀剂图案;以及步骤(4),将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。- 发布时间:2023-05-28 13:32:26
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感光性组合物、膜、滤色器、固体摄像元件及图像显示装置 公开日期:2024-11-15 公开号:CN112204469A 申请号:CN201980036848.0感光性组合物、膜、滤色器、固体摄像元件及图像显示装置
- 申请号:CN201980036848.0
- 公开号:CN112204469A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:富士胶片株式会社
本发明提供一种感光性组合物,其包含颜料、由式(1):A1‑L1‑Z1表示且波长400~700nm的范围的摩尔吸光系数的最大值为3000L·mol‑1·cm‑1以下的化合物、聚合性化合物及肟系光聚合引发剂。式(1)中,A1表示包含芳香族环的基团,L1表示单键或2价的连结基,Z1表示由式(Z1)所示的基团。- 发布时间:2023-05-24 13:33:16
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一种柔性支撑平台系统 公开日期:2024-11-15 公开号:CN114660899A 申请号:CN202011528727.9一种柔性支撑平台系统
- 申请号:CN202011528727.9
- 公开号:CN114660899A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:上海微电子装备(集团)股份有限公司
本发明公开了一种柔性支撑平台系统,其属于光刻技术领域,包括基体、承载台、气浮支撑件和柔性解耦件,承载台用于承载掩模板或者硅片,承载台能够相对于基体沿设定方向移动;气浮支撑件设置于基体与承载台之间;柔性解耦件设置于所述气浮支撑件与所述承载台之间,所述柔性解耦件上开设有间隙,所述间隙将所述柔性解耦件分割为刚性支撑部和柔性解耦部,所述柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦。由于间隙的存在,柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦,当柔性解耦部发生变形时,间隙为形变提供空间,使得外部的力和热不会作用于承载台,即变形不会传递至承载台,进而保证承载台沿设定方向的移动精度。- 发布时间:2023-05-14 11:53:22
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套刻误差补偿方法、系统及装置、电子设备和存储介质 公开日期:2024-11-15 公开号:CN114518698A 申请号:CN202210144575.5套刻误差补偿方法、系统及装置、电子设备和存储介质
- 申请号:CN202210144575.5
- 公开号:CN114518698A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:长鑫存储技术有限公司
本公开是关于一种套刻误差补偿方法、系统及装置、电子设备以及计算机可读存储介质,涉及半导体生产制造技术领域。该方法包括:确定组合光刻层组,组合光刻层组包括多个目标光刻层;对多个目标光刻层中的初始图形进行曝光处理,得到多层曝光图形,多个目标光刻层中的初始图形均具有相同的对准标识;对多层曝光图形进行套刻精度量测,确定每层曝光图形的套刻量测误差;根据多个套刻量测误差确定下一批次的组合光刻层组对应的图形的误差补偿值,根据误差补偿值进行套刻误差补偿。本公开可以利用具有相同对准标识的多道光刻层进行套刻误差补偿行为一致的特点,优化套刻误差补偿方式,以达到减少套刻误差补偿量测和缩减生产周期的效果。- 发布时间:2023-05-10 11:48:46
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一种三维全息显示装置 公开日期:2024-11-15 公开号:CN114415486A 申请号:CN202210179392.7一种三维全息显示装置
- 申请号:CN202210179392.7
- 公开号:CN114415486A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:上海天马微电子有限公司
本发明公开了一种三维全息显示装置,包括:全息光学组件,用于输出三维光学图像;带通滤光组件,位于全息光学组件的出光侧,带通滤光组件用于透射第一波段的光线,滤除第二波段的光线;其中,三维光学图像中包含第一波段的光线。由于三维光学图像中包括第一波段的光线,带通滤光组件的存在能够保证三维光学图像的输出,实现物体的多方位立体图像显示。除此之外,带通滤光组件的存在能够滤除掉第二波段的光线,减少外界环境光线在三维全息显示装置内部的反射,消除大部分外界环境反射光,提高三维全息显示装置显示图像的对比度,进而提升用户的观看体验。- 发布时间:2023-05-09 11:07:29
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相机模块 公开日期:2024-11-15 公开号:CN113906339A 申请号:CN202080039749.0相机模块
- 申请号:CN202080039749.0
- 公开号:CN113906339A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:LG伊诺特有限公司
提供了一种相机模块。根据本发明的一方面的相机模块包括:定子;动子,动子布置在定子中;第一驱动器,第一驱动器布置在定子上;第二驱动器,第二驱动器布置在动子上并且面对第一驱动器;加强件,加强件包括联接至定子的外部部分、联接至动子的内部部分以及用于将外部部分连接至内部部分的连接件;基板,基板联接至定子和动子并且布置在加强件上;以及透镜模块,透镜模块联接至基板。- 发布时间:2023-04-22 08:55:36
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一种混合光源装置及投影显示系统 公开日期:2024-11-15 公开号:CN115793369A 申请号:CN202211519171.6一种混合光源装置及投影显示系统
- 申请号:CN202211519171.6
- 公开号:CN115793369A
- 公开日期:2024-11-15
- 申请人:四川长虹电器股份有限公司
本发明公开了一种混合光源装置及投影显示系统,所述混合光源装置包括激光光源,散射与荧光转换装置,三色激光光路,蓝色激光回路,荧光光路和合光组件。所述散射与荧光转换装置包括散射部件和荧光转换部件。所述激光光源持续发出蓝色激光,分时发出绿色及红色激光。所述激光光源只发出蓝色激光时,蓝光经激光光路传输到散射部件并透射。所述激光光源同时发出蓝、绿或同时发出蓝、红激光时,绿、红激光透过散射部件;而蓝色激光束被散射部件反射,并经过蓝光回路照射到荧光转换部件,蓝色激光激发荧光粉发出红、绿荧光。荧光光路接收激发出的荧光并传输到合光组件。合光组件可反射红、绿荧光并透过红、绿、蓝激光,实现激光与荧光的合光。- 发布时间:2023-06-07 23:04:33
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一种KrF光刻胶及其制备方法和图案化方法 公开日期:2024-11-12 公开号:CN116540493A 申请号:CN202310568802.1一种KrF光刻胶及其制备方法和图案化方法
- 申请号:CN202310568802.1
- 公开号:CN116540493A
- 公开日期:2024-11-12
- 申请人:厦门恒坤新材料科技股份有限公司
本发明提供一种KrF光刻胶,其特征在于:按重量百分比,包括超支化光致酸聚合树脂48.5‑60.5%,淬灭剂0.5‑1%,流平剂0.03‑0.5%,溶剂50%‑72%;所述超支化光致酸聚合树脂由多元醇、对羟基苯乙烯单体、烯基叔丁酯、光致酸单体、4‑(1‑苯基‑1‑羟基乙基)苯乙烯超支化聚合制得;所述4‑(1‑苯基‑1‑羟基乙基)苯乙烯超支化接枝聚合在所述对羟基苯乙烯单体、烯基叔丁酯、光致酸单体聚合后的端基区。同时,本发明还提供了KrF光刻胶的制备方法及其图案化的方法。本发明链式结构可减少易光酸的基团产生的质子酸扩散到非曝光区域及减少了分子链缠结,提高分辨率、LER性能,并降低了Tg数值。- 发布时间:2023-08-06 07:25:35
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