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• 半导体引线框架蚀刻产品制造的蚀刻装置 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114721235A 申请号：CN202210324330.0
  发明 半导体引线框架蚀刻产品制造的蚀刻装置

  • 申请号：CN202210324330.0
  • 公开号：CN114721235A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：昆山一鼎工业科技有限公司

  本发明属于半导体集成电路引线框架蚀刻制造的技术领域，具体涉及半导体引线框架蚀刻产品制造的蚀刻装置，这种半导体引线框架蚀刻产品制造的蚀刻装置包括：相对设置的上显影槽和下显影槽；上显影槽的下部设置有若干上喷嘴，下显影槽的上部设置有若干下喷嘴，上喷嘴和下喷嘴错位相对，若干上喷嘴为阵列分布，一列上的上喷嘴呈W分布，若干下喷嘴为阵列分布，一列上的下喷嘴呈W分布；上显影槽和下显影槽设置有上下移动机构。这种半导体引线框架蚀刻产品制造的蚀刻装置具有多角度清除产品表面微小颗粒残留，便于后续加工，提升产品质量的效果。

  发布时间：2023-05-15 11:25:03

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• 定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114690606A 申请号：CN202111590667.8
  发明 定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备

  • 申请号：CN202111590667.8
  • 公开号：CN114690606A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  本发明涉及定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备。一种定影用转动构件，其依次包括基层、弹性层和表面层，表面层包含PFA和PFPE，并且具有在第一表面具有开口的孔；至少一部分孔包含PFPE，其中在除去孔中的PFPE之后，当在第一表面上设置第一观察区域，将第一观察区域中的开口的面积的总和相对于第一观察区域的面积的比率定义为P1；并且在表面层的截面中设置第二观察区域，将第二观察区域中的孔的面积的总和相对于第二观察区域的面积的比率定义为P2时，P2/P1为1.3以上。

  发布时间：2023-05-14 12:26:24

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• 一种双面阻焊自动曝光机 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114675498A 申请号：CN202210145046.7
  发明 一种双面阻焊自动曝光机

  • 申请号：CN202210145046.7
  • 公开号：CN114675498A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：深圳市欣光辉科技有限公司

  本发明公开了一种双面阻焊自动曝光机，属于PCB制造技术领域，包括主机架以及导向槽，检测相机组件装配于主机架上，载体基板两端滑动装配于导向槽中，下基座定位滑动装配于载体基板一侧，下基座中装配有下菲林片，盖板件转动装配于载体基板一端，盖板件中装配有上菲林片，固定框板弹性滑动装配于载体基板和下基座之间，固定框板中布设有承托板，真空阀头阵列布设于承托板一侧，本发明通过滑动布设于导向槽中的载体基板以及活动装配于载体基板一侧的调位机架，能够对双面阻焊的基板进行快速对位以及菲林片吸附，避免了常规曝光设备对PCB基板的挤压定位，防止因板材翘曲造成的曝光漏印，提升了曝光上料的效率，提高了PCB板的产能。

  发布时间：2023-05-14 12:07:45

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• 成像装置 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114624973A 申请号：CN202111494442.2
  发明 成像装置

  • 申请号：CN202111494442.2
  • 公开号：CN114624973A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  提供一种成像装置，在具有旋转方向上的游隙的联轴器插置在马达和从动构件之间的驱动系中的构造中，成像装置能够抑制将马达从正向旋转切换成反向旋转的控制的精度降低。成像装置包括：一个马达(92a)，其旋转地驱动感光鼓(26)和显影套筒(71)；联轴器，其插置在马达(92a)和显影套筒(71)之间的驱动系以及马达(92a)和感光鼓(26)之间的驱动系中的至少一个中，并且具有旋转方向上的游隙；以及控制马达(92a)的CPU(53)。CPU(53)在成像时使马达(92a)以速度V1正向旋转，在成像结束之后使马达(92a)停止，使马达(92a)以低于速度V1的速度V2正向旋转，然后使马达(92a)反向旋转。

  发布时间：2023-05-14 11:27:00

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• 双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114594662A 申请号：CN202210286281.6
  发明 双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用

  • 申请号：CN202210286281.6
  • 公开号：CN114594662A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：牧东光电科技有限公司

  本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺：清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor，由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻，可避免双面曝光时相互影响ITO曝光，可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良，外观良率由80％提高至95％；取消边缘走线黄光制程，采用印刷银浆工艺，无需蚀刻，解决断线、蚀刻不净等功能问题，电性良率由90％提高至98％；简化了制备工序，提高了生产效率，有效降低了生产成本。

  发布时间：2023-05-12 12:06:46

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• 图像形成装置 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114578667A 申请号：CN202111409370.7
  发明 图像形成装置

  • 申请号：CN202111409370.7
  • 公开号：CN114578667A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  公开了图像形成装置。一种图像形成装置，包括：至少一个或多个旋转构件；马达，被配置为驱动至少一个或多个旋转构件；检测部件，用于检测在马达中流动的电流值；以及显示部件，用于显示关于至少一个或多个旋转构件的状态的信息。在至少一个或多个旋转构件正被马达驱动时，由检测部件检测电流值。当电流值是第一值时，指示至少一个或多个旋转构件处于异常状态的信息不显示在显示部件上。当电流值是大于第一值的第二值时，指示至少一个或多个旋转构件处于异常状态的信息显示在显示部件上。

  发布时间：2023-05-12 11:51:13

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• PCB阻焊曝光设备及其光源单元 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114527626A 申请号：CN202210202432.5
  发明 PCB阻焊曝光设备及其光源单元

  • 申请号：CN202210202432.5
  • 公开号：CN114527626A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：杭州新诺微电子有限公司

  本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元，包括光输出装置、聚焦装置与照明装置，光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后，通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上；光输出装置用于输出初始光信号；聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理，输出汇聚后的光信号；照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理，输出匀光整形后的光信号；其中，匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量，得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上，促使其阻焊层完成聚合固化，使得所需的曝光时长与功耗大大降低，减少了光照与能耗上的资源浪费。

  发布时间：2023-05-12 10:59:23

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• 全息投影 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114384781A 申请号：CN202111157035.2
  发明 全息投影

  • 申请号：CN202111157035.2
  • 公开号：CN114384781A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：恩维世科斯有限公司

  一种用于改进全息投影系统的控制的方法和系统，以便满足或试图满足由全息投影系统产生的全息重建图像的一个或多个目标或目的。目标或目的可涉及全息重建图像的部分或全部的亮度。

  发布时间：2023-05-09 10:11:45

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• 芯片上晶片对准传感器 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114096920A 申请号：CN202080048550.4
  PCT发明 芯片上晶片对准传感器

  • 申请号：CN202080048550.4
  • 公开号：CN114096920A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：ASML控股股份有限公司

  本发明提供一种传感器设备，所述传感器设备包括照射系统、检测器系统和处理器。所述照射系统被配置成沿照射路径传输照射束，并且包括可调式光学器件。所述可调式光学器件被配置成朝向被设置为与所述照射系统相邻的衬底上的衍射目标传输所述照射束。所述传输在所述衍射目标上产生条纹图案。信号束包括由所述衍射目标衍射的衍射阶子束。所述检测器系统被配置成收集所述信号束。所述处理器被配置成基于所述信号束测量所述衍射目标的特性。所述可调式光学器件被配置成调整所述照射束在所述衍射目标上的入射角度，以将所述条纹图案的周期性调整成匹配于所述衍射目标的周期性。

  发布时间：2023-04-26 09:54:23

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• 描画装置、数据处理装置、描画方法、以及描画数据生成方法 公开日期：2024-10-25 公开号：CN113448177A 申请号：CN202110293334.2
  发明 描画装置、数据处理装置、描画方法、以及描画数据生成方法

  • 申请号：CN202110293334.2
  • 公开号：CN113448177A
  • 公开日期：2024-10-25
  • 申请人：株式会社斯库林集团

  数据处理装置生成表示以初始网格宽度对初始描画数据所表示的初始描画区域进行分割而得到的多个第一网格区域的各描画内容的第一分割数据，基于第一基板的对准标记的位置，根据重新配置后的各第一网格区域的位置，对各第一网格区域的描画内容进行合成，生成第一描画数据。数据处理装置生成表示以比初始网格宽度大的网格宽度对第一描画数据所表示的第一描画区域进行分割而得到的多个第二网格区域的各描画内容的第二分割数据，基于第二基板的对准标记的位置，根据重新配置后的各第二网格区域的位置，对各第二网格区域的描画内容进行合成，生成表示包含规定图案的第二描画区域的第二描画数据。

  发布时间：2023-06-23 08:26:27

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