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PCT发明

用于光刻拼接的系统、软件应用程序及方法

2022-10-24 10:21:13 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202080092787.2
  • 公开（公告）日：2023-12-29
  • 公开（公告）号：CN114945870A
  • 申请人：应用材料公司
摘要：本公开内容的实施方式关于用于在光源的传播方向上定位掩模的方法。掩模对应于待写入基板的光刻胶层中的图案。通过拼接第一掩模和第二掩模来定位掩模。第一掩模包括一组第一特征，第一特征具有在第一特征界面处从第一特征延伸的第一特征延伸部分。第二掩模包括一组第二特征，第二特征具有在第二特征界面处从第二特征延伸的第二特征延伸部分。每个第一特征延伸部分与每个对应的第二特征延伸部分拼接，以形成第一对掩模的第一拼接部分的每个拼接部分。第一对掩模的拼接部分限定了要写入光刻胶层中的图案的一部分。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114945870 A (43)申请公布日 2022.08.26 (21)申请号 202080092787.2 卢多维克 ·戈代　 (22)申请日 2020.12.11 (74)专利代理机构 北京律诚同业知识产权代理 有限公司 11006 (30)优先权数据 专利代理师 徐金国　赵静 16/748,202 2020.01.21 US (51)Int.Cl. (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/20 (2006.01) 2022.07.11 G03F 1/70 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2020/064569 2020.12.11 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/150316 EN 2021.07.29 (71)申请人 应用材料公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 徐永安　 克里斯多弗 ·丹尼斯 ·本彻　 罗伯特 ·简 ·维瑟　

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