原创力.专利
用于开发光刻掩模的布局的骨架表示
- 申请专利号：CN202180008833.0
- 公开（公告）日：2025-01-07
- 公开（公告）号：CN115004107A
- 申请人：美商新思科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115004107 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202180008833.0 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2021.02.12 专利代理师 丁君军 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/977,020 2020.02.14 US G03F 1/36 (2012.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 1/72 (2012.01) 2022.07.11 G06T 7/13 (2017.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2021/018034 2021.02.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/163623 EN 2021.08.19 (71)申请人 美商新思科技有限公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 T ·C ·塞西尔 D ·W ·托
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