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PCT发明

用于开发光刻掩模的布局的骨架表示

2022-10-24 10:26:55 发布于四川 5
  • 申请专利号：CN202180008833.0
  • 公开（公告）日：2025-01-07
  • 公开（公告）号：CN115004107A
  • 申请人：美商新思科技有限公司
摘要：一种方法，包括以下步骤：访问在光刻掩模开发过程中使用的布局，例如，该布局可以是掩模本身的布局，或者它可以是晶圆上的所得印刷图案的布局；布局包括多个不相交的形状；确定用于布局中不相交的形状中的至少一些不相交的形状的骨架表示；个体形状的骨架表示具有由边连接的两个或两个以上节点的元素；它还包括用于元素中的至少一些元素的尺寸参数；形状的骨架表示被用在掩模开发过程中。一种系统，包括用于执行该方法的处理器。一种非暂态计算机可读介质，包括用于执行该方法的存储的指令。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115004107 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202180008833.0 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2021.02.12 专利代理师 丁君军 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/977,020 2020.02.14 US G03F 1/36 (2012.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 1/72 (2012.01) 2022.07.11 G06T 7/13 (2017.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2021/018034 2021.02.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/163623 EN 2021.08.19 (71)申请人 美商新思科技有限公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 T ·C ·塞西尔　D ·W ·托

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