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• 一种导电自润滑复合涂层及其制备方法 公开日期：2024-05-31 公开号：CN113832447A 申请号：CN202111049640.8
  发明 一种导电自润滑复合涂层及其制备方法

  • 申请号：CN202111049640.8
  • 公开号：CN113832447A
  • 公开日期：2024-05-31
  • 申请人：宁波杭州湾新材料研究院|||中国科学院宁波材料技术与工程研究所

  本发明公开了一种导电自润滑复合涂层，包括基体，基体表面由内而外依次为金刚石层、类金刚石层和石墨烯层。本发明通过热丝化学气相沉积法制备金刚石层，并对金刚石层进行激光处理原位生成类金刚石层，进一步在类金刚石层上通过化学键合‑热处理制备石墨烯层，制备方法简单、重复性好。多层协同作用有效缓解了复合涂层的应力，减少了摩擦服役过程中的脆性断裂，实现了复合涂层摩擦性能和功能性的双向优化，最外层的石墨烯层改善了复合涂层的导电性能、自润滑性能和防腐性能，极大的拓宽该导电自润滑复合涂层的服役范围，该导电自润滑复合涂层在流体润滑、边界润滑、干摩擦、高载、高速等服役环境下均具有较低的摩擦系数与磨损率。

  发布时间：2023-07-06 11:06:03

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• 一种铝刻蚀的工艺流程优化方法和系统 公开日期：2024-05-31 公开号：CN117187808A 申请号：CN202311196987.4
  发明 一种铝刻蚀的工艺流程优化方法和系统

  • 申请号：CN202311196987.4
  • 公开号：CN117187808A
  • 公开日期：2024-05-31
  • 申请人：福建天甫电子材料有限公司

  本发明提供一种铝刻蚀的工艺流程优化方法和系统，涉及铝刻蚀技术领域，该方法包括：S1、准备待刻蚀的铝基材料和蚀刻溶液；S2、在待刻蚀的铝基材料上涂覆保护层；S3、获取涂覆保护层的铝基材料的拍摄图像；S4、基于涂覆保护层的铝基材料的拍摄图像和蚀刻溶液的信息使用卷积神经网络模型确定蚀刻溶液的初始浓度；S5、将涂覆保护层的铝基材料浸泡在蚀刻溶液中，使其与蚀刻溶液反应；S6、获取涂覆保护层的铝基材料浸泡在蚀刻溶液的反应视频；S7、基于涂覆保护层的铝基材料浸泡在蚀刻溶液的反应视频使用长短期神经网络模型确定蚀刻时间；S8、到达蚀刻时间后，则确认完成刻蚀，并去除保护层，该方法能够精确控制和优化铝刻蚀过程。

  发布时间：2023-12-17 07:17:20

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• 一种光纤镀膜夹具及使用方法 公开日期：2024-05-31 公开号：CN116445877A 申请号：CN202310339636.8
  发明 一种光纤镀膜夹具及使用方法

  • 申请号：CN202310339636.8
  • 公开号：CN116445877A
  • 公开日期：2024-05-31
  • 申请人：青岛镭视光电科技有限公司

  本申请涉及光纤镀膜技术领域，尤其是涉及一种光纤镀膜夹具及使用方法。一种光纤镀膜夹具包括基片固定板、导向底板和限位结构，所述基片固定板设有光纤固定孔，所述导向底板用于绕设光纤使光纤两端朝向相同，所述限位结构能够限定所述基片固定板和所述导向底板之间的距离，所述导向底板与所述基片固定板可拆卸连接。本申请能够使光纤可靠的缠绕固定,当基片固定盘高速旋转时,保护脆弱的光纤完成端面的镀膜；能使被缠绕的光纤在竖直设置的情况下，依然稳定高速旋转，镀膜质量得到保障，不因高速旋转而损坏光纤和破坏镀膜稳定性；使采用离子束溅射镀膜机为光纤镀膜的技术切实可行，有效实现采用离子束溅射技术在光纤端面镀制高精密光学薄膜的应用。

  发布时间：2023-07-21 07:13:13

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• 层积结构体及层积结构体的制造方法 公开日期：2024-05-31 公开号：CN116056884A 申请号：CN202180062989.7
  PCT发明 层积结构体及层积结构体的制造方法

  • 申请号：CN202180062989.7
  • 公开号：CN116056884A
  • 公开日期：2024-05-31
  • 申请人：株式会社爱发科

  本发明提供一种具有强抗弯曲性的层积结构体及层积结构体的制造方法。在依次层积了第1钛层(L1)、铝层(L2)以及第2钛层(L3)的本发明的层积结构体(LS)中，第1钛层和第2钛层具有的结晶结构是在X射线衍射测量的密勒指数的(002)晶面和(100)晶面上具有衍射峰，(002)晶面上的衍射峰的半峰宽为1.0度以下，(100)晶面上的衍射峰的半峰宽为0.6度以下。

  发布时间：2023-05-14 10:03:27

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• 一种复合合金材料及其制备方法与应用 公开日期：2024-05-31 公开号：CN116815107A 申请号：CN202310613881.3
  发明 一种复合合金材料及其制备方法与应用

  • 申请号：CN202310613881.3
  • 公开号：CN116815107A
  • 公开日期：2024-05-31
  • 申请人：北京大学第三医院（北京大学第三临床医学院）

  本发明涉及一种复合合金材料及其制备方法与应用，该复合合金材料包括镁合金基体和设置于所述镁合金基体的保护层，所述保护层包含稀土氧化物和银元素。本发明一实施方式的复合合金材料，具有较高的抑菌能力、较好的耐腐蚀性和良好的生物相容性，能够满足临床应用要求，可以用作医用植入体材料。

  发布时间：2023-10-01 07:14:50

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• 镀膜方法和镀膜样品 公开日期：2024-05-28 公开号：CN118086837A 申请号：CN202311776895.3
  发明 镀膜方法和镀膜样品

  • 申请号：CN202311776895.3
  • 公开号：CN118086837A
  • 公开日期：2024-05-28
  • 申请人：珠海莫界科技有限公司

  本发明公开了一种镀膜方法和镀膜样品。镀膜方法包括：对待镀膜样品的相对的两个表面进行塑形，使其中一个表面凸起成型为凸面且使另一个表面凹陷成型为凹面，待镀膜样品为树脂样品；将待镀膜样品放置在镀膜支架上，凹面朝下且凸面朝上；从待镀膜样品的下方对凹面进行镀膜，以在凹面形成膜层。通过对待镀膜样品进行塑形，预先产生形变，在进行镀膜时，在高温环境下进行镀膜时待镀膜样品在自身重力作用下产生形变，前后两次形变相互抵消，从而使得样品的表面平整度良好，避免产生翘曲。

  发布时间：2024-06-01 07:54:58

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• 一种应用于太空环境的高性能钛合金涂层及其制备方法 公开日期：2024-05-28 公开号：CN118086901A 申请号：CN202410150854.1
  发明 一种应用于太空环境的高性能钛合金涂层及其制备方法

  • 申请号：CN202410150854.1
  • 公开号：CN118086901A
  • 公开日期：2024-05-28
  • 申请人：科汇纳米技术（深圳）有限公司

  本发明公开一种应用于太空环境的高性能钛合金涂层及其制备方法，包括基材，所述基材为Ti‑6Al‑4V钛合金材料，所述基材上依次设置有铬粘结层、Ti/TiN梯度层、TiAlN‑CrN交替排列的主结构层以及类金刚石碳(DLC)的外部功能层。本发明的涂层能够应用于温度极端变化的太空环境，解决了钛合金材料的传统涂层在极端太空环境下耐磨损、耐腐蚀和附着力不足的问题。

  发布时间：2024-06-01 07:57:30

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• 视窗机构和真空设备 公开日期：2024-05-28 公开号：CN221028659U 申请号：CN202323008500.3
  实用新型 视窗机构和真空设备

  • 申请号：CN202323008500.3
  • 公开号：CN221028659U
  • 公开日期：2024-05-28
  • 申请人：东方日升(常州)新能源有限公司

  本申请公开了一种视窗机构和真空设备，涉及真空设备领域。视窗机构包括壁体、可视窗体以及视窗防护组件，视窗防护组件包括挡板和传动件，挡板活动设置于壁体的内侧，挡板具有遮挡窗口的第一位置和避让窗口的第二位置。传动件穿设于壁体，传动件位于壁体内侧的一端与挡板传动连接，传动件可相对于壁体运动以驱动挡板在第一位置和第二位置之间运动，挡板和/或壁体上设置有磁吸件，磁吸件用于提供将挡板保持于第一位置的磁吸力。本申请实施例中，通过在挡板和/或壁体上设置磁吸件，能够使挡板处于第一位置时被紧紧吸附在壁体上，降低污染物绕过挡板污染可视窗体的风险。

  发布时间：2024-06-01 08:35:10

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• 一种防腐性能高的全自动涂装装置 公开日期：2024-05-28 公开号：CN117702099A 申请号：CN202410134728.7
  发明 一种防腐性能高的全自动涂装装置

  • 申请号：CN202410134728.7
  • 公开号：CN117702099A
  • 公开日期：2024-05-28
  • 申请人：南通远洋船舶配套有限公司

  本发明公开了一种防腐性能高的全自动涂装装置，包括外罩板，所述外罩板的两侧均固定连接有操作把手，所述外罩板的顶部固定连接有充填板，所述外罩板的底部固定连接有侧设套板，所述侧设套板的相对面之间固定连接有侧连接板，所述侧设套板的底部固定连接有下压装置，所述侧设套板的底部固定连接有侧设板件，本发明涉及金属镀覆技术领域。该防腐性能高的全自动涂装装置，通过工作人员通过操作把手移动该涂装装置达到移动涂装的效果，并且内部的侧设套板倾斜设置可以磷化反应液的充分与其反应物体相贴合作用，提高装置涂装效果。

  发布时间：2024-03-18 08:02:42

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• 成膜方法和成膜装置 公开日期：2024-05-28 公开号：CN118086867A 申请号：CN202311547604.3
  发明 成膜方法和成膜装置

  • 申请号：CN202311547604.3
  • 公开号：CN118086867A
  • 公开日期：2024-05-28
  • 申请人：东京毅力科创株式会社

  本公开涉及一种成膜方法和成膜装置，能够形成不易氧化的SiCN膜。基于本公开的一个方式的成膜方法包括以下工序：吸附工序，对基板供给原料气体来使所述原料气体吸附于所述基板，所述原料气体的分子中具有包含硅原子和碳原子的环状结构；热氮化工序，在包含氮化气体的气氛中对所述基板进行热处理，来将吸附于所述基板的所述原料气体热氮化；以及改性工序，将所述基板暴露于氢等离子体中，来将热氮化后的所述原料气体改性。

  发布时间：2024-06-01 07:54:25

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