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一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908340A 申请号:CN202410059394.1一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用
- 申请号:CN202410059394.1
- 公开号:CN117908340A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司
本发明涉及光刻胶剥离液技术领域,尤其涉及一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用。本发明提供了一种光刻胶有机剥离液,按照质量份数计,包括有机胺10~30份,醚/醇类有机溶剂70~90份和添加剂1~5份;所述添加剂包括1‑(2‑羟乙基)哌嗪、N‑(2‑羟乙基)乙二胺、甲基苯丙三氮唑、亚氨基二丙胺、2,4‑二羟基嘧啶、丁二酸、N‑乙基吡咯烷酮、1‑甲基‑5‑硝基咪唑、硫脲、4‑羟基丁酸内酯、柠檬酸、葡萄糖、葡萄糖酸和苹果酸中的一种或几种。所述光刻胶有机剥离液具有较高的剥离效率和剥离效果,节能环保,同时避开了强腐蚀性物质。- 发布时间:2024-04-21 07:47:54
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充气式柔光罩制备方法 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908315A 申请号:CN202410051209.4充气式柔光罩制备方法
- 申请号:CN202410051209.4
- 公开号:CN117908315A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:绍兴市森文摄影器材有限公司
本发明公开了一种充气式柔光罩制备方法,涉及柔光罩生产领域,其技术方案要点是:包括透光部分加工和反光部分加工,所述透光部分加工包括:S11、根据比例将PVC原粒、溶剂、增稠剂、固体原胶、色母配备好;S12、设定温度和加热时间,将配比好的材料加热、液化、混合得到混合液,将混合液通过高压喷头均匀涂布到基材上形成胶膜;S13、将涂布好的基材送入烘箱中,使胶膜固化;S14、将烘干后的胶膜进行冷却;S15、将胶膜的中间部分与基材分离。本发明通过涂布淋膜的方式使胶膜与基材复合在一起,保证了胶膜与基材复合处的密封性,两种混合液形成一体的胶膜,保证了胶膜的密封性。- 发布时间:2024-04-21 07:47:46
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一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908330A 申请号:CN202410050137.1一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用
- 申请号:CN202410050137.1
- 公开号:CN117908330A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:万华化学集团股份有限公司
本发明公开了一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用,所述光敏聚酰亚胺光刻胶包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、表面活性剂、低收缩添加剂和溶剂。本发明的光敏聚酰亚胺光刻胶使用的低收缩添加剂一方面可以降低固化时光敏聚酰亚胺光刻胶膜的收缩,进而降低表面粗糙度,提高平整性;另一方面可以增加与聚酰亚胺的粘附性,降低弯折时的脱落,并且使光敏聚酰亚胺光刻胶膜有更小的弯折半径,从而增加在制作柔性屏的可靠性。- 发布时间:2024-04-21 07:47:45
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补光灯及电子设备 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908314A 申请号:CN202410041588.9补光灯及电子设备
- 申请号:CN202410041588.9
- 公开号:CN117908314A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:维沃移动通信有限公司
本申请公开了一种补光灯及电子设备,属于光学器件技术领域,补光灯包括导光件和发光光源;所述导光件开设有器件避位孔,所述导光件具有入光面、环形出光面、第一反射面和第二反射面,所述环形出光面环绕所述器件避位孔设置;所述发光光源的发光面朝向所述入光面;所述发光光源发出的光线经过所述第一反射面和所述第二反射面反射后从所述环形出光面射出;其中,沿所述器件避位孔的轴线方向,所述第一反射面、所述第二反射面和所述发光光源的正投影均位于所述器件避位孔之外。- 发布时间:2024-04-21 07:47:39
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一种KrF正性光刻胶及其制备方法 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908329A 申请号:CN202311838645.8一种KrF正性光刻胶及其制备方法
- 申请号:CN202311838645.8
- 公开号:CN117908329A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司
本申请涉及光刻胶领域,具体公开了一种KrF正性光刻胶及其制备方法。KrF正性光刻胶包括以下质量份的各原料:丙烯酸酯共聚树脂40‑60份、酚醛树脂5‑10份、光致酸产生剂0.2‑1份、改性二氧化硅3‑10份、有机碱0.01‑5份、表面活性剂0.01‑2份、溶剂200‑300份;其制备方法为:包括以下步骤:按配比,将丙烯酸酯共聚树脂、酚醛树脂、光致酸产生剂、纳米微粒、有机碱、表面活性剂、溶剂混合均匀,得到KrF正性光刻胶。本申请的KrF正性光刻胶具有粘附性好,光刻图形质量较佳的优点。- 发布时间:2024-04-21 07:46:27
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一种微结构的制备方法 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908323A 申请号:CN202311769319.6一种微结构的制备方法
- 申请号:CN202311769319.6
- 公开号:CN117908323A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:珠海莫界科技有限公司
本发明公开一种微结构的制备方法,包括:提供一基底;N次在基底上点涂压印胶并匀胶,各次得到含有第N压印胶层的中间结构;使用模板对中间结构进行压印,制得所述微结构;N≥2,第N压印胶层的点涂位置与第N‑1压印胶层的点涂位置不完全相同,和/或第N压印胶层的点涂位置位于第N‑1压印胶层的点涂位置上;第N‑1次匀胶的最终转速大于第N次匀胶的最终转速。本发明采用在基底上多次点涂压印胶并匀胶的技术方案,通过调整匀胶的转速使相邻两次中前一次的匀胶速度大于相邻两次中后一次的匀胶速度,使得多个压印胶层叠加后在不同的位置具有不同的厚度,进而可以在压印后形成不同高度的微结构,减少压印胶的使用量,避免浪费,降低成本。- 发布时间:2024-04-21 07:45:33
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一种深紫外光刻方法、光刻图形以及半导体结构 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908335A 申请号:CN202311697079.3一种深紫外光刻方法、光刻图形以及半导体结构
- 申请号:CN202311697079.3
- 公开号:CN117908335A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:中国科学院微电子研究所
本发明公开了一种深紫外光刻方法、光刻图形以及半导体结构,涉及深紫外光刻技术领域,以提供一种当衬底具有较高的台阶时,采用深紫外光刻工艺仍能正常进行曝光技术方案。包括以下步骤:当所述深紫外光刻的景深小于所述衬底的台阶的高度时,将待光刻图形按照所述台阶的分布情况分为至少两个部分;其中,每个所述部分对应于所述台阶的阶上图形或台阶下图形;将所述待光刻图形的至少两个部分的一一对应到至少两块掩膜版上;依次对所述至少两块掩膜版进行曝光后,将曝光后的至少两块掩膜版同时进行烘烤和显影。- 发布时间:2024-04-21 07:44:44
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优化光刻工艺窗口的方法、系统、计算机设备及存储介质 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908334A 申请号:CN202311610359.6优化光刻工艺窗口的方法、系统、计算机设备及存储介质
- 申请号:CN202311610359.6
- 公开号:CN117908334A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种优化光刻工艺窗口的方法、系统、计算机设备及存储介质,方法包括:获取掩膜版图,基于预设工艺窗口对掩膜版图进行仿真,得到晶圆表面的光刻胶曝光轮廓;根据预设条件,对光刻胶曝光轮廓的关键尺寸进行缺陷检测得到缺陷信息;根据缺陷信息,计算得到掩膜版图每个区域的最佳聚焦值以及能量补偿值;根据最佳聚焦值以及能量补偿值得到掩膜版图优化后的工艺窗口。本发明通过仿真的方式来检测淹没版图上的曝光轮廓缺陷,基于算法提前计算不同工艺窗口条件下曝光所带来的缺陷,根据缺陷找出最佳的曝光条件并优化工艺窗口,可提前规避缺陷,使最终获得的产品良率更高。- 发布时间:2024-04-21 07:44:10
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光源装置及投影仪 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908319A 申请号:CN202311351944.9光源装置及投影仪
- 申请号:CN202311351944.9
- 公开号:CN117908319A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:精工爱普生株式会社
光源装置。能够抑制颜色不均。光源装置具有:射出第1波段的第1光束的第1光源部;射出第2波段的第2光束的第2光源部;射出第3波段的第3光束的第3光源部;扩大第1光束的光束宽度并且合成第1光束和第2光束而生成第1合成光束的第1光合成元件;以及合成第1合成光束和第3光束而生成第2合成光束的第2光合成元件。第1光束的光束宽度与第2光束的光束宽度相同或者比第2光束的光束宽度小,第1光束的光束宽度比第3光束的光束宽度小。第1光合成元件使从第1光合成元件射出的第1光束的光束宽度比入射到第1光合成元件的第1光束的光束宽度大,以使其接近第2光束的光束宽度和第3光束的光束宽度中的至少一方。- 发布时间:2024-04-21 07:43:52
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感光性树脂组合物、干膜、固化物和印刷布线板 公开日期:2024-04-19 公开号:CN117908328A 申请号:CN202311350152.X感光性树脂组合物、干膜、固化物和印刷布线板
- 申请号:CN202311350152.X
- 公开号:CN117908328A
- 公开日期:2024-04-19
- 申请人:太阳控股株式会社
本发明提供抑制弹性模量等涂膜物性的降低而且保存稳定性也优异的感光性树脂组合物。一种至少包含(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合引发剂、(C)二氧化硅以及(D)光聚合性单体而成的感光性树脂组合物,其特征在于,所述(C)二氧化硅是通过不具有反应性官能团的硅烷偶联剂和具有从由乙烯基、(甲基)丙烯酰基以及苯乙烯基组成的组中选出的至少一种反应性官能团的硅烷偶联剂这两种硅烷偶联剂进行了表面处理的二氧化硅。- 发布时间:2024-04-21 07:43:51
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