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• 一种高纯光敏剂及其制备方法与应用 公开日期：2024-08-09 公开号：CN114326303A 申请号：CN202111602035.9
  发明 一种高纯光敏剂及其制备方法与应用

  • 申请号：CN202111602035.9
  • 公开号：CN114326303A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：宁波南大光电材料有限公司

  本发明适用于材料技术领域，提供了一种高敏光刻胶及其制备方法与应用。所述高纯光敏剂的制备方法包括如下步骤：(1)将光敏剂原料置于预处理后的升华设备的腔体内，于真空度0.01‑10Pa进行第一次升华，得到光敏剂粗品；(2)取出光敏剂粗品，通入氩气使腔体内恢复至常压，然后再次将升华设备进行预处理，将所述光敏剂粗品置于预处理后的腔体内，于真空度1.0×10‑4‑1.0×10‑6Pa进行第二次升华，得到高纯光敏剂。本发明还提供由所述制备方法得到的高敏光刻胶及其应用。本发明采用多次升华工艺、并控制升华的真空度制备高纯光敏剂，制得的高纯光敏剂可用于配制光刻胶，制得的光刻胶显影完全，可有效提高芯片制程的良率。

  发布时间：2023-05-06 10:02:19

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• 一种修正PAD位置的方法及探针卡用陶瓷转接板 公开日期：2024-08-09 公开号：CN114879446A 申请号：CN202210543946.7
  发明 一种修正PAD位置的方法及探针卡用陶瓷转接板

  • 申请号：CN202210543946.7
  • 公开号：CN114879446A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：强一半导体（苏州）股份有限公司

  一种修正探针卡用陶瓷转接板PAD位置的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：预先，设计出第一修正图纸和第二修正图纸；根据第一修正图纸制作出第一玻璃掩模板，根据第二修正图纸制作出第二玻璃掩模板；第一步，制作金属种子层；第二步，涂敷光刻胶；第三步，将第一玻璃掩模板的图形制作到光刻胶膜上面；第四步，电镀填充金属Cu；第五步，清洗光刻胶；第六步，涂敷光刻胶；第七步，将第二玻璃掩模板的图形制作到光刻胶膜上面；第八步，电镀填充金属Cu，以形成修正后的PAD；第九步，清洗光刻胶；第十步，离子束刻蚀；第十一步，涂敷PI胶，再固化，以形成聚酰亚胺PI胶层；第十二步，对陶瓷转接板C4面抛光，以将修正后的PAD暴露出来。

  发布时间：2023-05-19 11:11:23

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• 包括静电夹具的载物台 公开日期：2024-08-09 公开号：CN113711126A 申请号：CN201980092597.8
  PCT发明 包括静电夹具的载物台

  • 申请号：CN201980092597.8
  • 公开号：CN113711126A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  公开了一种用于保持物体的载物台，该载物台包括：被布置为将物体夹持在载物台上的静电夹具；被布置为中和静电夹具的残余电荷的中和器；被布置为控制中和器的控制单元，其中残余电荷是在没有电压被施加到静电夹具时存在于静电夹具上的静电荷。

  发布时间：2023-07-01 07:09:41

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• 量测方法、图案形成装置、设备和计算机程序 公开日期：2024-08-09 公开号：CN113196172A 申请号：CN201980077503.X
  PCT发明 量测方法、图案形成装置、设备和计算机程序

  • 申请号：CN201980077503.X
  • 公开号：CN113196172A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  测量套刻的方法使用来自在衬底(W)上形成的一对子目标(1032，1034)上的位置(LOI)的多个非对称性测量。对于每个子目标，基于设计到子目标中的已知偏移变化，多个非对称性测量被拟合为非对称性与套刻之间的至少一个预期关系(1502，1504)。在一个示例中，通过变化顶部光栅和底部光栅的节距(P1/P2)，来提供连续的偏移变化。该对子目标之间的偏移变化相等并且相反(P2/P1)。套刻(OV)基于针对两个子目标的拟合关系之间的相对移动(xs)来被计算。将非对称性测量拟合为至少一个预期关系的步骤包括：完全或部分忽略偏离预期关系和/或落在拟合关系的特定段之外的测量(1506，1508，1510)。

  发布时间：2023-06-16 07:15:44

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• 一种环保的打印机硒鼓 公开日期：2024-08-09 公开号：CN114002929A 申请号：CN202111167462.9
  发明 一种环保的打印机硒鼓

  • 申请号：CN202111167462.9
  • 公开号：CN114002929A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：珠海天安华泰科技有限公司

  本发明公开了一种环保的打印机硒鼓，包括粉仓盒体，粉仓盒体的顶部设置有废粉仓盒体，粉仓盒体的正面设置有防护盖，粉仓盒体的两端均设置有安装板，滑动组件，滑动组件设置在废粉仓盒体的两端。本发明的有益效果是：设置有滑动组件，能够实现套杆带动感光鼓移动的操作，在不使用的过程中感光鼓与充电辊和磁辊不接触，能够减少感光鼓的磨损，从而增加了感光鼓的使用寿命，设置有转动组件，通过转动调节块能够实现两个转板的转动，转板通过夹定块能够实现粉仓盒体和废粉仓盒体的相互卡合，同时能够实现对磁辊的快速限位，设置有夹定组件，通过夹定组件能够实现对信息板的夹定操作，整个夹定操作的过程非常简单。

  发布时间：2023-04-24 09:43:53

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• 一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 公开日期：2024-08-09 公开号：CN117492326A 申请号：CN202311479806.9
  发明 一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法

  • 申请号：CN202311479806.9
  • 公开号：CN117492326A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：青岛天仁微纳科技有限责任公司

  本发明公开了一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法，主要涉及感光材料技术领域。所述的纳米压印光刻胶包括以下重量份组分：环氧丙烯酸酯30‑40份、丙二醇甲醚醋酸酯55‑65份、活性稀释剂15‑25份、光引发剂1‑3份；所述光引发剂为三芳基硫鎓盐、二苯基碘六氟磷酸盐、三苯基氯化硫鎓盐、三苯基锍四氟硼酸盐中的一种或多种，所述活性稀释剂为2‑苯氧基乙基丙烯酸酯、2‑乙烯基六氟异丙醇和改性2‑乙烯基六氟异丙醇中的一种或多种，本发明发现改性后的2‑乙烯基六氟异丙醇与2‑苯氧基乙基丙烯酸酯复合使用可以改善机械性能，减小收缩应力，提高光学性能，光固化后树脂的热稳定性得到提高。

  发布时间：2024-02-04 07:50:18

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• 检查光掩模的方法及其装置 公开日期：2024-08-09 公开号：CN113960878A 申请号：CN202110712697.5
  发明 检查光掩模的方法及其装置

  • 申请号：CN202110712697.5
  • 公开号：CN113960878A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

  本发明实施例涉及检查光掩模的方法及其装置。一种方法包括：接收光掩模；经由以第一倾斜角穿过所述光掩模将第一辐射束引导到晶片而图案化所述晶片；及检查所述光掩模。所述检查包括：以大于所述第一倾斜角的第二倾斜角将第二辐射束引导到所述光掩模；接收从所述光掩模反射的第三辐射束；根据所述第三辐射束产生所述光掩模的图像。

  发布时间：2023-04-23 09:24:09

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• 一种图像曝光方法、装置、电子设备及存储介质 公开日期：2024-08-09 公开号：CN117008426A 申请号：CN202310998570.3
  发明 一种图像曝光方法、装置、电子设备及存储介质

  • 申请号：CN202310998570.3
  • 公开号：CN117008426A
  • 公开日期：2024-08-09
  • 申请人：翼存（上海）智能科技有限公司

  本发明公开了一种图像曝光方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：获取待曝光图像，并确定待曝光图像的分辨率；其中，待曝光图像的分辨率满足存在至少一个方向上的像素数小于或等于数字微镜器件的目标像素尺寸；根据待曝光图像的分辨率，确定图像载体的运动距离；根据图像载体的运动距离、预先确定的运动方向以及预先设置的运动速度，控制数字微镜器件将待曝光图像曝光至图像载体上。本技术方案解决了非标准分辨率图像的图像曝光问题，可以在实现自定义分辨率的图像曝光的同时，提高胶片利用率，满足用户多样化的图像曝光需求。

  发布时间：2023-11-11 07:23:19

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• 抗蚀剂组合物及其应用 公开日期：2024-08-06 公开号：CN117631446A 申请号：CN202311450113.7
  发明 抗蚀剂组合物及其应用

  • 申请号：CN202311450113.7
  • 公开号：CN117631446A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：湖北鼎龙芯盛科技有限公司|||鼎龙（潜江）新材料有限公司|||湖北鼎龙控股股份有限公司

  本发明公开了一种抗蚀剂组合物，包括在酸的作用下在碱性显影液中溶解度发生变化的成膜树脂(A)、曝光时产生酸的产酸剂成分(B)、以及酸扩散抑制剂(D)。本发明提供在正型抗蚀剂材料和负型抗蚀剂材料中都为高灵敏度的抗蚀剂组合物以及使用其的图案形成方法。本发明的树脂(A)包括具有如下通式(a‑1)所示的结构单元。

  发布时间：2024-03-05 07:13:53

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• 具有凸起的保偏正投屏幕 公开日期：2024-08-06 公开号：CN113874783A 申请号：CN202080039066.5
  PCT发明 具有凸起的保偏正投屏幕

  • 申请号：CN202080039066.5
  • 公开号：CN113874783A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：瑞尔D股份有限公司

  用于使照明光漫射到一视角范围中的投影屏幕是通过将涂层沉积在基板上来形成的。具有平均颗粒高度的颗粒位于所述涂层内。比所述平均颗粒高度高至少两微米的凸起可以基本上均匀地分布在所述屏幕之上。在一些实施例中，每个凸起与另一个凸起相距不小于80微米。

  发布时间：2023-07-09 07:05:19

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