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• 测量设备和测量目标的方法 公开日期：2024-08-06 公开号：CN112513740A 申请号：CN201980050305.4
  PCT发明 测量设备和测量目标的方法

  • 申请号：CN201980050305.4
  • 公开号：CN112513740A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  本公开涉及对目标进行测量。在一个布置中，提供一种测量设备，所述测量设备具有被配置成利用辐射来照射目标和将反射辐射从目标引导到传感器的光学系统。所述光学系统的光瞳平面中的可编程的空间光调制器被编程为重定向多个光瞳平面区域中的每个光瞳平面区域中的光，从而在所述传感器上的不同部位处形成相应的多个图像，每个图像由穿过不同的对应的一个光瞳平面区域的辐射形成。

  发布时间：2023-06-02 12:38:55

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• 耗材和图像形成设备之间的解耦 公开日期：2024-08-06 公开号：CN113383278A 申请号：CN202080011911.8
  PCT发明 耗材和图像形成设备之间的解耦

  • 申请号：CN202080011911.8
  • 公开号：CN113383278A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：惠普发展公司，有限责任合伙企业

  示例图像形成设备包括：耦接装置，用于执行在图像形成设备与耗材之间的耦接或解耦；传感器，用于感测图像形成设备的盖的打开；以及处理器。当从传感器接收盖的打开感测信号时，处理器确定耦接到图像形成设备的耗材是否与耗材存取条件相对应，并且基于确定的结果，将请求与耗材存取条件相对应的耗材的解耦的信号传输到耦接装置。

  发布时间：2023-06-23 07:39:07

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• 用于在弯曲的基底片材上产生全息图的方法、基底片材和片材复合件 公开日期：2024-08-06 公开号：CN114631064A 申请号：CN202080075443.0
  PCT发明 用于在弯曲的基底片材上产生全息图的方法、基底片材和片材复合件

  • 申请号：CN202080075443.0
  • 公开号：CN114631064A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：宝马股份公司

  本发明涉及一种用于在弯曲的基底片材上产生全息图的方法，包括以下步骤：‑提供弯曲的基底片材，该基底片材具有基底表面，该基底表面的实际几何形状与预定的设定几何形状相比存在公差偏差；‑提供能充气的垫，所述垫具有通过压力作用而能变形的垫表面，所述垫表面预成型为预定的设定几何形状或预成型为与设定几何形状有预定的偏差；‑将呈柔性薄层形式的全息摄影母版施加到能变形的垫表面上；‑将全息图拍摄层、尤其是液态的光聚合物层施加到基底表面上；‑通过变形至实际几何形状的垫表面将全息摄影母版压靠或贴靠到全息图拍摄层上，从而在全息图拍摄层的预定的层厚度基本上恒定的情况下在全息摄影母版和全息图拍摄层之间实现连续的面接触；以及在该全息图拍摄布置结构中对全息图拍摄层进行曝光，以构造全息图。

  发布时间：2023-05-14 11:25:54

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• 基于水凝胶纳米微腔实现动态结构色及全息切换的方法 公开日期：2024-08-06 公开号：CN114326350A 申请号：CN202111478435.3
  发明 基于水凝胶纳米微腔实现动态结构色及全息切换的方法

  • 申请号：CN202111478435.3
  • 公开号：CN114326350A
  • 公开日期：2024-08-06
  • 申请人：武汉大学

  本发明公开了一种基于水凝胶纳米微腔实现动态结构色及全息切换的方法，水凝胶纳米微腔由金属‑水凝胶‑金属三层薄膜堆叠而成；金属层为银层；水凝胶层为聚乙烯醇层；水凝胶层的聚乙烯醇可以吸水膨胀；水凝胶纳米微腔在不同的湿度环境下透射出不同的颜色，通过空间排布阶梯式的水凝胶纳米微腔并结合全息相位的设计，可实现动态彩色的纳米印刷图案以及全息切换的功能。本发明将水凝胶结合水分子时的膨胀特性与纳米微腔生成的结构色相结合，并加入全息相位信息，实现了多功能动态可调的新型光学显示器件，同时具有结构简单，调控方式简单，功能丰富以及易于集成等优点，可广泛用于动态彩色显示，信息复用，以及下一代显示技术。

  发布时间：2023-05-06 09:56:59

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• 一种投影显示装置 公开日期：2024-08-02 公开号：CN114137784A 申请号：CN202110598041.5
  发明 一种投影显示装置

  • 申请号：CN202110598041.5
  • 公开号：CN114137784A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：索诺克（北京）科技有限公司

  需要一种投影显示装置，将由两个光调制器件调制后的图像相邻地投影来进行显示，但是不需要很大的负担来对相邻图像相互的位置、大小、倾斜、对焦状态等进行调整。该装置具备：第一光调制器件和第二光调制器件，根据图像信号对照明光进行调制；第一中继透镜，对由第一光调制器件调制后的光进行成像，以形成第一中间像；第二中继透镜，对由第二光调制器件调制后的光进行成像，以形成第二中间像；屋脊状的反射光学器件，由第一反射面与第二反射面形成顶角；以及投影镜头，由第一光调制器件调制后的光被第一反射面反射后形成第一中间像，由第二光调制器件调制后的光被第二反射面反射后形成第二中间像，投影镜头将第一中间像和第二中间像并排放大投影。

  发布时间：2023-04-27 12:58:44

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• 使用图像品质度量的量测数据校正 公开日期：2024-08-02 公开号：CN112689801A 申请号：CN201980053080.8
  PCT发明 使用图像品质度量的量测数据校正

  • 申请号：CN201980053080.8
  • 公开号：CN112689801A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：ASML荷兰有限公司

  本公开描述了一种用于校正图案化过程的量测数据的方法。方法包括：获得(P92)(i)经历图案化过程的衬底的量测数据(901)和(ii)量化衬底的量测数据的品质的品质度量(902，例如聚焦指数)；建立(P94)品质度量与量测数据之间的相关性；以及基于品质度量与量测数据之间的相关性来确定(P96)对量测数据的校正。

  发布时间：2023-06-04 11:34:43

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• 照相机及照相机闪光系统 公开日期：2024-08-02 公开号：CN116841101A 申请号：CN202310903447.9
  发明 照相机及照相机闪光系统

  • 申请号：CN202310903447.9
  • 公开号：CN116841101A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：深圳明美移动科技有限公司

  本发明公开了照相机及照相机闪光系统，涉及水下摄影设备技术领域，包括发光部，能够向被拍摄物体照明灯光；视频灯，具有可调节色温的功能和灯光覆盖全色域的功能；相机本体，能够对被照射了光的物体进行拍摄；防水外壳；引闪器，能够产生光信号；中继器，能够接收引闪器的光信号，然后编码发射新的大功率光信号。本发明通过设置引闪器、中继器等部件的相互配合，使得光信号能够在水下无线远距离传输，从而实现闪光灯和视频灯远离相机使用的效果，具有较高的市场应用前景。

  发布时间：2023-10-11 07:17:51

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• 图像形成装置 公开日期：2024-08-02 公开号：CN114063418A 申请号：CN202110888991.1
  发明 图像形成装置

  • 申请号：CN202110888991.1
  • 公开号：CN114063418A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：佳能株式会社

  在图像形成装置中，定影部件具有表面层，该表面层具有导电性。显影剂是具有调色剂颗粒的调色剂，所述调色剂颗粒包括粘合剂树脂，在调色剂颗粒的表面上存在多元酸与含第4族元素的化合物的反应物，并且满足Tv/Fv＞100，其中Tv表示未定影时的体积电阻率，Fv表示定影后的体积电阻率。偏压施加单元可以选择性地施加正极性的偏压和负极性的偏压，并且当记录材料穿过定影夹持部时和当记录材料不穿过定影夹持部时，分别施加与包含在记录材料中的填料的带电极性相同极性的偏压。

  发布时间：2023-04-26 09:35:55

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• 激光投影设备及其控制方法 公开日期：2024-08-02 公开号：CN114153114A 申请号：CN202010936533.6
  发明 激光投影设备及其控制方法

  • 申请号：CN202010936533.6
  • 公开号：CN114153114A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：青岛海信激光显示股份有限公司

  本申请公开了一种激光投影设备及其控制方法，属于投影显示领域。由于该激光投影设备中的光回收组件可以将照射至光阀表面的光束中的第二光束中的部分或全部再次传输至光阀，使得该第二光束中的部分或者全部能够进入投影镜头并用于图像的显示，因此提高了激光器发射的激光光束的利用率。并且由于控制电路还能够根据待投影的图像的亮度，动态调节电流驱动信号的占空比和/或光回收组件的透过率，由此确保了显示的图像亮度的稳定性，进而确保了图像的显示效果。

  发布时间：2023-04-27 13:18:07

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• 用于半导体制造的光致抗蚀剂 公开日期：2024-08-02 公开号：CN113946096A 申请号：CN202110629605.7
  发明 用于半导体制造的光致抗蚀剂

  • 申请号：CN202110629605.7
  • 公开号：CN113946096A
  • 公开日期：2024-08-02
  • 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

  本申请涉及用于半导体制造的光致抗蚀剂。提供了用于极紫外(EUV)光刻的有机金属前体。所述有机金属前体包括MaXbLc的化学式，其中M是金属，X是包括吡咯样氮和吡啶样氮的多齿芳族配体，L是极紫外(EUV)可裂解的配体，a在1和2之间，b等于或大于1，c等于或大于1。

  发布时间：2023-04-23 09:12:12

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