最新专利

• 芯片上晶片对准传感器 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114096920A 申请号：CN202080048550.4
  PCT发明 芯片上晶片对准传感器

  • 申请号：CN202080048550.4
  • 公开号：CN114096920A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：ASML控股股份有限公司

  本发明提供一种传感器设备，所述传感器设备包括照射系统、检测器系统和处理器。所述照射系统被配置成沿照射路径传输照射束，并且包括可调式光学器件。所述可调式光学器件被配置成朝向被设置为与所述照射系统相邻的衬底上的衍射目标传输所述照射束。所述传输在所述衍射目标上产生条纹图案。信号束包括由所述衍射目标衍射的衍射阶子束。所述检测器系统被配置成收集所述信号束。所述处理器被配置成基于所述信号束测量所述衍射目标的特性。所述可调式光学器件被配置成调整所述照射束在所述衍射目标上的入射角度，以将所述条纹图案的周期性调整成匹配于所述衍射目标的周期性。

  发布时间：2023-04-26 09:54:23

  0

• 像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置 公开日期：2024-10-29 公开号：CN112782940A 申请号：CN202011231381.6
  发明 像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置

  • 申请号：CN202011231381.6
  • 公开号：CN112782940A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  本公开涉及像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置。像差测定方法包括：通过在投影光学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系统的像侧的像侧标记的光的光量，从而获取表示所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光量分布的工序；求出表示所述光量分布中的以所述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称性的特征量的工序；以及根据所述特征量来决定所述投影光学系统的像差量的工序。

  发布时间：2023-06-07 12:20:09

  1

• 一种双面阻焊自动曝光机 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114675498A 申请号：CN202210145046.7
  发明 一种双面阻焊自动曝光机

  • 申请号：CN202210145046.7
  • 公开号：CN114675498A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：深圳市欣光辉科技有限公司

  本发明公开了一种双面阻焊自动曝光机，属于PCB制造技术领域，包括主机架以及导向槽，检测相机组件装配于主机架上，载体基板两端滑动装配于导向槽中，下基座定位滑动装配于载体基板一侧，下基座中装配有下菲林片，盖板件转动装配于载体基板一端，盖板件中装配有上菲林片，固定框板弹性滑动装配于载体基板和下基座之间，固定框板中布设有承托板，真空阀头阵列布设于承托板一侧，本发明通过滑动布设于导向槽中的载体基板以及活动装配于载体基板一侧的调位机架，能够对双面阻焊的基板进行快速对位以及菲林片吸附，避免了常规曝光设备对PCB基板的挤压定位，防止因板材翘曲造成的曝光漏印，提升了曝光上料的效率，提高了PCB板的产能。

  发布时间：2023-05-14 12:07:45

  0

• PCB阻焊曝光设备及其光源单元 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114527626A 申请号：CN202210202432.5
  发明 PCB阻焊曝光设备及其光源单元

  • 申请号：CN202210202432.5
  • 公开号：CN114527626A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：杭州新诺微电子有限公司

  本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元，包括光输出装置、聚焦装置与照明装置，光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后，通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上；光输出装置用于输出初始光信号；聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理，输出汇聚后的光信号；照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理，输出匀光整形后的光信号；其中，匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量，得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上，促使其阻焊层完成聚合固化，使得所需的曝光时长与功耗大大降低，减少了光照与能耗上的资源浪费。

  发布时间：2023-05-12 10:59:23

  1

• 一种光罩工艺误差修正方法 公开日期：2024-10-29 公开号：CN112180678A 申请号：CN202011276292.3
  发明 一种光罩工艺误差修正方法

  • 申请号：CN202011276292.3
  • 公开号：CN112180678A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：泉意光罩光电科技（济南）有限公司

  本发明公开了一种光罩工艺误差修正方法，涉及元器件制造技术领域。该方法包括：根据预设曝光强度对器件进行曝光处理；获取曝光处理后的器件表面光罩图案的各区域的多个线宽，区域根据待形成图案的疏密程度划分有疏区和至少一个密区；根据密区的线宽与疏区的线宽的差值，以及每个密区所在的位置，计算密区的预设曝光强度的调整量。上述方法根据曝光处理后光罩图案的变化数据，对曝光光线的反射量进行预估，并对预设曝光强度进行调整，动态地修正光罩工艺中的参数，使得到的光罩图案的线宽在误差允许的范围内稳定波动，降低了光罩生产的成本，也使光罩的品质维持在较高的水平内。

  发布时间：2023-05-24 13:31:26

  1

• 有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物 公开日期：2024-10-29 公开号：CN112180686A 申请号：CN202010637312.9
  发明 有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物

  • 申请号：CN202010637312.9
  • 公开号：CN112180686A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：信越化学工业株式会社

  本发明涉及有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜形成方法、图案形成方法、及聚合物。本发明的课题为提供可形成不仅在钝性气体中的成膜条件仍会固化，耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，而且升华物少且对基板的成膜性良好的有机膜的聚合物、以及含有该聚合物的有机膜形成用组合物。该课题的解决方法为一种有机膜形成用组合物，含有：具有下述通式(1)表示的部分结构作为重复单元的聚合物及有机溶剂。[化1]该通式(1)中，AR1、AR2为也可具有取代基的苯环或萘环，W1为具有三键的特定部分结构，且也可组合使用2种以上的W1，W2为至少具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。

  发布时间：2023-05-24 13:22:25

  1

• 一种金属掩膜版框架固定支架 公开日期：2024-10-29 公开号：CN112731760A 申请号：CN202011541232.X
  发明 一种金属掩膜版框架固定支架

  • 申请号：CN202011541232.X
  • 公开号：CN112731760A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：江苏高光半导体材料有限公司

  本发明属于金属掩膜版技术领域，尤其是涉及一种金属掩膜版框架固定支架，包括底座，底座的边缘设有向外延伸的裙边，底座的中心处设有方形的卡槽，卡槽的两侧内壁中均设有与之同形状的回型腔，回型腔内设有卡紧机构，卡紧机构贯穿卡槽的两侧内壁并延伸至其中，卡槽的底部设有悬浮机构，底座内还设有鼓风机构，鼓风机构设置于卡槽的中心处，鼓风机构与卡紧机构及悬浮机构均连通设置。优点在于：本发明可较为方便快捷的对金属掩膜版框架进行固定作用，增加其在后续的加工时的稳定性，同时防止外物的干扰，对加工的杂物可进行一定程度上的控制，具有更高的加工效率和质量。

  发布时间：2023-06-05 18:15:31

  1

• 一种AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版 公开日期：2024-10-29 公开号：CN112965334A 申请号：CN202110157006.X
  发明 一种AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版

  • 申请号：CN202110157006.X
  • 公开号：CN112965334A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：江苏高光半导体材料有限公司

  本发明属于掩膜版技术领域，尤其是涉及一种AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版，包括掩膜版基板，掩膜版基板的一端板面上设有图形块，掩膜版基板与图形块之间设有透明板，透明板与图形块和掩膜版基板均固定连接，掩膜版基板背离透明板的一侧设有涂层，掩膜版基板中嵌合有多道与图形块相对应的金属条，金属条的上端贯穿涂层设置，多条金属条相互连接，且其两端分别有端头平行伸出掩膜版基板的断层外，通过端头可与外部电源的正负极相连接。优点在于：可通过对多余散射光线进行吸收防反射的方式来使得光源的光线更好的配合图形来进行照射作用，从而提高了掩膜版作业的质量。

  发布时间：2023-06-11 13:06:17

  1

• 成像装置 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114624973A 申请号：CN202111494442.2
  发明 成像装置

  • 申请号：CN202111494442.2
  • 公开号：CN114624973A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  提供一种成像装置，在具有旋转方向上的游隙的联轴器插置在马达和从动构件之间的驱动系中的构造中，成像装置能够抑制将马达从正向旋转切换成反向旋转的控制的精度降低。成像装置包括：一个马达(92a)，其旋转地驱动感光鼓(26)和显影套筒(71)；联轴器，其插置在马达(92a)和显影套筒(71)之间的驱动系以及马达(92a)和感光鼓(26)之间的驱动系中的至少一个中，并且具有旋转方向上的游隙；以及控制马达(92a)的CPU(53)。CPU(53)在成像时使马达(92a)以速度V1正向旋转，在成像结束之后使马达(92a)停止，使马达(92a)以低于速度V1的速度V2正向旋转，然后使马达(92a)反向旋转。

  发布时间：2023-05-14 11:27:00

  0

• 定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备 公开日期：2024-10-29 公开号：CN114690606A 申请号：CN202111590667.8
  发明 定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备

  • 申请号：CN202111590667.8
  • 公开号：CN114690606A
  • 公开日期：2024-10-29
  • 申请人：佳能株式会社

  本发明涉及定影用转动构件及其生产方法、定影设备、图像形成设备。一种定影用转动构件，其依次包括基层、弹性层和表面层，表面层包含PFA和PFPE，并且具有在第一表面具有开口的孔；至少一部分孔包含PFPE，其中在除去孔中的PFPE之后，当在第一表面上设置第一观察区域，将第一观察区域中的开口的面积的总和相对于第一观察区域的面积的比率定义为P1；并且在表面层的截面中设置第二观察区域，将第二观察区域中的孔的面积的总和相对于第二观察区域的面积的比率定义为P2时，P2/P1为1.3以上。

  发布时间：2023-05-14 12:26:24

  0