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柔性印刷原版及柔性印刷版的制造方法 公开日期：2024-12-27 公开号：CN113168090A 申请号：CN201980077756.7柔性印刷原版及柔性印刷版的制造方法
- 申请号：CN201980077756.7
- 公开号：CN113168090A
- 公开日期：2024-12-27
- 申请人：旭化成株式会社
一种柔性印刷原版，其为至少支承体、感光性树脂组合物层、中间层和红外线烧蚀层依次层叠而成的柔性印刷原版，前述中间层含有亲水性树脂(A)和无机层状化合物(B)，前述中间层的膜厚为2μm以上且30μm以下。- 发布时间：2023-06-15 07:13:47
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全息光栅中的折射率调制修改 公开日期：2024-12-24 公开号：CN114207532A 申请号：CN202080056315.1全息光栅中的折射率调制修改
- 申请号：CN202080056315.1
- 公开号：CN114207532A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：元平台技术有限公司
本文公开的技术涉及修改全息光学元件(诸如全息光栅)中的折射率调制。根据某些实施例，全息光学元件或变迹光栅包括聚合物层，该聚合物层包括以第一折射率为特征的第一区域和以第二折射率为特征的第二区域。全息光学元件或变迹光栅包括分散在聚合物层中的多个纳米粒子。纳米粒子在第一区域或第二区域中具有较高的浓度。在一些实施例中，纳米粒子可以被配置为提高折射率调制。在一些实施例中，纳米粒子可以被配置为通过降低光栅侧面附近的折射率调制来使光栅变迹。可以在全息图制造之前或之后，通过将单体储存缓冲层施加到聚合物层来调制折射率。- 发布时间：2023-04-28 09:58:25
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图像形成设备和处理盒 公开日期：2024-12-24 公开号：CN112882360A 申请号：CN202011357592.4图像形成设备和处理盒
- 申请号：CN202011357592.4
- 公开号：CN112882360A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：佳能株式会社
本发明涉及图像形成设备和处理盒。一种图像形成设备，其包括电子照相感光构件和用于将调色剂供给至电子照相感光构件上的显影装置，显影装置具有调色剂，其中电子照相感光构件具有包含粘结剂树脂(A)的表面层，调色剂具有调色剂颗粒，调色剂颗粒具有包含粘结剂树脂(B)和蜡的核和形成在核的表面上的壳层，粘结剂树脂(A)具有预定的结构，蜡包含预定的单酯化合物；和一种处理盒。- 发布时间：2023-06-11 12:16:39
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光刻装置和冷却装置 公开日期：2024-12-24 公开号：CN112384863A 申请号：CN201980045146.9光刻装置和冷却装置
- 申请号：CN201980045146.9
- 公开号：CN112384863A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：ASML荷兰有限公司
光刻装置包括：投影系统，被配置为经由投影路径将图案化的辐射束投影到保持在衬底台上的衬底处的曝光区上，该衬底台在投影系统下方的区域中是可移动的；以及冷却装置，被配置为经由从衬底到冷却元件的热传递来冷却衬底，冷却元件位于衬底上方并且与投影路径相邻；其中冷却装置包括位于投影路径中的隔膜系统，以将投影系统与该区域物理地分离。- 发布时间：2023-05-28 13:41:45
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EUV光掩模及其制造方法 公开日期：2024-12-24 公开号：CN113406854A 申请号：CN202110041748.6EUV光掩模及其制造方法
- 申请号：CN202110041748.6
- 公开号：CN113406854A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
本公开涉及EUV光掩模及其制造方法。在一种制造反射掩模的方法中，在掩模坯之上形成光致抗蚀剂层。掩模坯包括衬底、在衬底上的反射多层、在反射多层上的帽盖层、在帽盖层上的吸收体层、和硬掩模层，并且吸收体层由Cr、CrO或CrON制成。光致抗蚀剂层被图案化，硬掩模层通过使用经图案化的光致抗蚀剂层而被图案化，吸收体层通过使用经图案化的硬掩模层而被图案化，并且附加的元素被引入到经图案化的吸收体层来形成经转化的吸收体层。- 发布时间：2023-06-23 08:07:03
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感光性聚酰亚胺树脂组合物 公开日期：2024-12-24 公开号：CN113994257A 申请号：CN202080041583.6感光性聚酰亚胺树脂组合物
- 申请号：CN202080041583.6
- 公开号：CN113994257A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：合肥汉之和新材料科技有限公司
本发明的目的在于提供：具有显影时的显影液可溶性和光交联后的显影液不溶性，并且可实现良好的膜物性和高灵敏度的感光性聚酰亚胺树脂组合物。本发明提供感光性聚酰亚胺树脂组合物，其含有(A)溶剂可溶性聚酰亚胺和(B)二叠氮化合物作为必需成分，其中，(A)溶剂可溶性聚酰亚胺是主链中具有(a)具有二苯甲酮结构的芳族四羧酸二酐残基和(b)选自在氨基的邻位具有烷基的芳族二胺、具有茚满结构的芳族二胺和具有聚硅氧烷结构的二胺的至少1种二胺的残基的嵌段共聚物，(B)二叠氮化合物的含量相对于100重量份的(A)溶剂可溶性聚酰亚胺为2.0~150重量份。- 发布时间：2023-04-24 09:23:34
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用于样本方案生成与优化的方法 公开日期：2024-12-24 公开号：CN113242997A 申请号：CN201980084631.7用于样本方案生成与优化的方法
- 申请号：CN201980084631.7
- 公开号：CN113242997A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：ASML荷兰有限公司
一种用于样本方案(624)生成的方法，具有以下步骤：获取(606)与位置的集合相关联的测量数据(608)；分析(610)测量数据以确定位置的统计上不同的组；以及基于统计上不同的组来配置(614)样本方案生成算法(622)。一种方法，包括：获取与跨一个或多个基底的样本方案相关联的约束(618)和/或多个关键性能指标(620)；以及在包括多目标遗传算法(622)的样本方案生成算法中使用约束(618)和/或多个关键性能指标(620)。位置可定义跨越跨一个或多个基底的多个场的一个或多个区域，并且分析(610)测量数据的步骤可以包括使用不同的相应子采样来跨所跨越的多个场进行堆叠。- 发布时间：2023-06-17 07:07:19
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光掩模表面Cr层残留的去除方法 公开日期：2024-12-24 公开号：CN116974140A 申请号：CN202310953574.X光掩模表面Cr层残留的去除方法
- 申请号：CN202310953574.X
- 公开号：CN116974140A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：广州新锐光掩模科技有限公司
本申请提供一种光掩模表面Cr层残留的去除方法，涉及光掩模表面处理技术领域，其采用修补机台，包括以下步骤：S1，将光掩模置于修补机台上；S2，对光掩模表面进行ESB信号检测，得到ESB信号值；S3，根据不同金属层在ESB信号值上的差异性，读取出关于Cr层的信号值；S4，根据关于Cr层的信号值，得到Cr层的对应位置；S5，蚀刻Cr层的对应位置，对光掩模表面进行修补，去除光掩模表面的残留Cr层。通过上述步骤，使得光掩模能够在修补机台上进行残留Cr层的去除，省去光掩模的二次曝光流程，减少曝光机台和Process机台的加载时间。- 发布时间：2023-11-05 07:17:17
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一种氧化石墨烯增强感光覆盖膜组合物 公开日期：2024-12-24 公开号：CN112925168A 申请号：CN202110196734.1一种氧化石墨烯增强感光覆盖膜组合物
- 申请号：CN202110196734.1
- 公开号：CN112925168A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：杭州福斯特电子材料有限公司
本发明属于印刷线路板保护膜技术领域，具体公开了一种氧化石墨烯增强感光覆盖膜组合物，至少由以下原料混合后固化而成：碱溶性树脂100重量份、丙烯酸酯类单体10‑40重量份、光聚合引发剂0.1‑10重量份、热固化剂10‑60重量份、氧化石墨烯0.01‑10重量份、着色剂0.1‑10重量份。本发明的组合物与现有技术相比，柔韧性得到显著提高，力学性能优异，能够以炭黑为着色剂，且分辨率高。- 发布时间：2023-06-11 12:48:31
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处理盒 公开日期：2024-12-24 公开号：CN114488742A 申请号：CN202111342911.9处理盒
- 申请号：CN202111342911.9
- 公开号：CN114488742A
- 公开日期：2024-12-24
- 申请人：纳思达股份有限公司
本申请公开了一种处理盒，该处理盒包括盒体、显影辊、感光鼓、动力接收单元和迫压件，显影辊和感光鼓可转动地设置于盒体，动力接收单元设置于盒体的一端，用于与电子成像装置的驱动单元啮合，以接收电子成像装置输出的驱动力，迫压件固定设置于盒体并与动力接收单元位于盒体的同一端，且迫压件包括悬臂，悬臂用于对驱动单元施加作用力，以摆正驱动单元的位置。本申请能够使得处理盒的感光鼓或显影辊与电子成像装置的驱动单元的接触啮合过程更加顺畅，大大节省了感光鼓或显影辊与驱动单元接触啮合的时间，提高了处理盒的工作效率。- 发布时间：2023-06-18 07:24:16
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