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光刻设备检测系统及其检测方法2025

2023-09-07 07:23:15 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310652690.8
  • 公开(公告)日:2025-03-11
  • 公开(公告)号:CN116699947A
  • 申请人:浙江大学
摘要:本发明公开了一种光刻设备检测系统及其检测方法,上密封件从浸没控制单元上方完全遮蔽其中心通孔,下密封件从浸没控制单元下方完全遮蔽其中心通孔,共同合围形成中心流室;下密封件中设下采样流道,下采样流道两端分别与中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度检测,在检测过程中,封闭浸没控制单元中心通孔的上下两端,避免其内部容纳的浸液与环境气体接触,从而准确地检测浸液的洁净度,以评价浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116699947 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310652690.8 (22)申请日 2023.06.02 (71)申请人 浙江大学 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘 路866号 (72)发明人 付新 徐文苹 赵美慧 文科权  徐宁 陈文昱  (74)专利代理机构 杭州斯可睿专利事务所有限 公司 33241 专利代理师 林君勇 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图8页 (54)发明名称 光刻设备检测系统及其检测方法 (57)摘要 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其 检测方法,上密封件从浸没控制单元上方完全遮 蔽其中心通孔,下密封件从浸没控制单元下方完 全遮蔽其中心通孔,共同合围形成中心流室 ;下 密封件中设下采样流道,下采样流道两端分别与 中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没 控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度 检测,在检测过程中 ,封闭浸没控制单元中心通 孔的上下两端,避免其内部容纳的浸液与环境气 体接触,从而准确地检测浸液的洁净度,以评价 浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。 A 7 4 9 9 9 6 6 1 1 N C CN 116699947 A 权 利 要 求 书

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