光刻设备检测系统及其检测方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116699947 A (43)申请公布日 2023.09.05 (21)申请号 202310652690.8 (22)申请日 2023.06.02 (71)申请人 浙江大学 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘 路866号 (72)发明人 付新　徐文苹　赵美慧　文科权　 徐宁　陈文昱　 (74)专利代理机构 杭州斯可睿专利事务所有限 公司 33241 专利代理师 林君勇 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图8页 (54)发明名称 光刻设备检测系统及其检测方法 (57)摘要 本发明公开了一种光刻设备检测系统及其 检测方法，上密封件从浸没控制单元上方完全遮 蔽其中心通孔，下密封件从浸没控制单元下方完 全遮蔽其中心通孔，共同合围形成中心流室 ；下 密封件中设下采样流道，下采样流道两端分别与 中心通孔和洁净度检测器相连。对组装好的浸没 控制单元及其附属流路进行浸液流路的洁净度 检测，在检测过程中 ，封闭浸没控制单元中心通 孔的上下两端，避免其内部容纳的浸液与环境气 体接触，从而准确地检测浸液的洁净度，以评价 浸没控制单元及其附属流路的洁净度质量。 A 7 4 9 9 9 6 6 1 1 N C CN 116699947 A 权　利　要　求　书