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发明

优化针对产品单元制造的工艺序列

2023-07-03 10:50:09 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202111042020.1
  • 公开（公告）日：2025-03-14
  • 公开（公告）号：CN113741155A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：本公开涉及优化针对产品单元制造的工艺序列。一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113741155 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202111042020.1 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2018.03.28 代理人 郭星 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 17168734.6 2017.04.28 EP G03F 7/20 (2006.01) (62)分案原申请数据 G05B 19/418 (2006.01) 201880027429.6 2018.03.28 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 J ·S ·维尔登贝尔格　 M ·乔彻姆森　E ·詹森　 E ·J ·M ·沃勒博斯　 C ·J ·瑞吉尼尔瑟　 B ·拉加瑟克哈兰　R ·沃克曼　 J ·J ·H ·M ·舒努斯　

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