包括纳米图案化表面的基底及其制备方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114089597 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202110878609.9 (51)Int.Cl. G03F 7/00 (2006.01) (22)申请日 2014.12.17 G03F 7/09 (2006.01) (30)优先权数据 61/918,582 2013.12.19 US (62)分案原申请数据 201480064276.4 2014.12.17 (71)申请人 ILLUMINA公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 M ·谢恩 ·博文　 巴拉 ·穆拉里 ·文卡泰桑　 史蒂文 ·M ·巴纳德　 (74)专利代理机构 北京英赛嘉华知识产权代理 有限责任公司 11204 代理人 王达佐　洪欣 权利要求书1页 说明书24页 附图18页 (54)发明名称 包括纳米图案化表面的基底及其制备方法 (57)摘要 公开了基底以及通过使用室温UV纳米压纹 方法制备所述基底，其中所述基底包含：可官能 化层、包含多个微米级图案或纳米级图案或其组 合的聚合物层、以及背衬层。所述基底可以通过 卷对卷连续方法制备。所述基底可以用作用于生 物分子分析的流动池、纳流