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光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法

2023-06-02 12:07:23 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201910838032.1
  • 公开(公告)日:2025-01-14
  • 公开(公告)号:CN112445059A
  • 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司|||中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
摘要:一种光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法,其中,光学邻近修正方法包括:分别对第一初始图形中的第一子图形和第二子图形设置第一容忍度和第二容忍度,且第一容忍度小于第二容忍度;对第一初始图形进行光学邻近修正,修正过程中,若第一边缘放置误差小于等于第一容忍度,且第二边缘放置误差小于等于第二容忍度,则光学邻近修正完成,获得第一修正图形。本发明提供的光学邻近修正方法可以提高修正精度和修正效率。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112445059 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 201910838032.1 (22)申请日 2019.09.05 (71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限 公司 (72)发明人 王健  (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 唐嘉 (51)Int.Cl. G03F 1/36(2012.01) G03F 7/20(2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法 (57)摘要 一种光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化 方法,其中,光学邻近修正方法包括:分别对第一 初始图形中的第一子图形和第二子图形设置第 一容忍度和第二容忍度,且第一容忍度小于第二 容忍度;对第一初始图形进行光学邻近修正,修 正过程中,若第一边缘放置误差小于等于第一容 忍度,且第二边缘放置误差小于等于第二容忍 度,则光学邻近修正完成,获得第一修正图形。本 发明提供的光学邻近修正方法可以提高修正精 度和修正效率。 A 9 5 0 5 4 4 2 1 1 N

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