光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法
- 申请专利号:CN201910838032.1
- 公开(公告)日:2025-01-14
- 公开(公告)号:CN112445059A
- 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司|||中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112445059 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 201910838032.1 (22)申请日 2019.09.05 (71)申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造(北京)有限 公司 (72)发明人 王健 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 唐嘉 (51)Int.Cl. G03F 1/36(2012.01) G03F 7/20(2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化方法 (57)摘要 一种光学邻近修正、光掩膜版制作及图形化 方法,其中,光学邻近修正方法包括:分别对第一 初始图形中的第一子图形和第二子图形设置第 一容忍度和第二容忍度,且第一容忍度小于第二 容忍度;对第一初始图形进行光学邻近修正,修 正过程中,若第一边缘放置误差小于等于第一容 忍度,且第二边缘放置误差小于等于第二容忍 度,则光学邻近修正完成,获得第一修正图形。本 发明提供的光学邻近修正方法可以提高修正精 度和修正效率。 A 9 5 0 5 4 4 2 1 1 N
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