发明

TSSG法生长大尺寸晶体的设备和方法2025

2025-03-19 13:17:35 发布于四川 5
  • 申请专利号:CN202411814679.8
  • 公开(公告)日:2025-03-18
  • 公开(公告)号:CN119640383A
  • 申请人:安徽芯享半导光电科技有限公司
摘要:本发明公开了一种TSSG法生长大尺寸晶体的设备和方法,本发明中的设备中包括一套层坩埚组件,其包括一外坩埚和设于所述外坩埚内的内坩埚,所述外坩埚固定于坩埚平台的表面,所述外坩埚的底部设有一凸柱,所述凸柱贯穿所述内坩埚的底部并伸入内坩埚内;一加热件,所述加热件环绕在所述套层坩埚组件的外部,所述加热件的底部与所述保温层固定连接,所述加热件的顶部与所述内坩埚固定连接。本发明通过加热件在坩埚上产生热源,同时外坩埚可相对于内坩埚转动,从而能够实现控制晶体生长过程中促进熔体对流,保证溶质传输的效果,实现高厚度、大口径晶体的生长。

专利内容

本发明公开了一种TSSG法生长大尺寸晶体的设备和方法,本发明中的设备中包括一套层坩埚组件,其包括一外坩埚和设于所述外坩埚内的内坩埚,所述外坩埚固定于坩埚平台的表面,所述外坩埚的底部设有一凸柱,所述凸柱贯穿所述内坩埚的底部并伸入内坩埚内;一加热件,所述加热件环绕在所述套层坩埚组件的外部,所述加热件的底部与所述保温层固定连接,所述加热件的顶部与所述内坩埚固定连接。本发明通过加热件在坩埚上产生热源,同时外坩埚可相对于内坩埚转动,从而能够实现控制晶体生长过程中促进熔体对流,保证溶质传输的效果,实现高厚度、大口径晶体的生长。C30B15/00(2006.01);C30B9/12(2006.01);C30B29/22(2006.01);C30B29/36(2006.01)

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