发明

一种MEMS热膜式流量传感器芯片及其制备方法2025

2024-01-08 07:15:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311312023.1
  • 公开(公告)日:2025-04-22
  • 公开(公告)号:CN117342517A
  • 申请人:莱斯能特(苏州)科技有限公司
摘要:本发明涉及流量传感器技术领域,特别是涉及一种MEMS热膜式流量传感器芯片及其制备方法,包括基底、氮化硅层、氧化硅层、金属层、接触孔和钝化保护层,由此形成上下层金属导通的纵向多层结构,三层金属层中均设置测温电阻,最上层氮化硅层中间部位金属为发热电阻;本发明将测温电阻的结构设置为纵向垂直延伸的多层结构;通过采用多层结构可以有效缩小膜区面积,从而减小传感器的尺寸。此外,多层结构可以提供更好的机械稳定性和结构强度,使得传感器更加耐用和可靠。在一些特殊环境下,如高温、高压或振动环境中,这种多层结构可以更好地抵抗外部影响,提供更长久的工作和使用寿命。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117342517 A (43)申请公布日 2024.01.05 (21)申请号 202311312023.1 (22)申请日 2023.10.11 (71)申请人 莱斯能特(苏州)科技有限公司 地址 215010 江苏省苏州市高新区嘉陵江 路198号6号楼1201 (72)发明人 王兴阳 薛维佳 韩传仁  (74)专利代理机构 北京德崇智捷知识产权代理 有限公司 11467 专利代理师 房婉琼 (51)Int.Cl. B81B 7/02 (2006.01) B81B 7/00 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) G01F 1/684 (2006.01) G01F 1/692 (2006.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 一种MEMS热膜式流量传感器芯片及其制备 方法 (57)摘要 本发明涉及流量传感器技术领域,特别是涉 及一种MEMS热膜式流量传感器芯片及其制备方 法,包括基底、氮化硅层、氧化硅层、金属层、接触 孔和钝化保护层,由此形成上下层金属导通的纵 向多层结构,三层金属层中均设置测温电阻,最 上层氮化硅层中间部位金属为发热电阻;本发明 将测温电阻的结构设置为纵向垂直延伸的多层 结构;通过采用多层结构可以有效缩小膜区面 积,从而减小传感器的尺寸。此外,多层结构可以 提供更好的机械稳定性和结构强度,使

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