一种适用于去除正负光刻胶的清洗液

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112578647 A (43)申请公布日 2021.03.30 (21)申请号 201910938660.7 (22)申请日 2019.09.30 (71)申请人 安集微电子科技（上海）股份有限公 司 地址 201201 上海市浦东新区华东路5001 号金桥出口加工区（南区）T6－9幢底 层 (72)发明人 孙广胜　刘兵　周前付　 (74)专利代理机构 北京大成律师事务所 11352 代理人 李佳铭　王芳 (51)Int.Cl. G03F 7/42(2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 (54)发明名称 一种适用于去除正负光刻胶的清洗液 (57)摘要 本发明提供了一种用于去除光刻胶残留物 的清洗液，含有季胺氢氧化物、醇胺、醇类溶剂、 硅烷、肼及其衍生物、水，余量为有机溶剂。该清 洗液在有效去除晶圆上的光刻胶残留物的同时， 对于基材如金属铝、铜等基本无腐蚀，在半导体 晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 A 7 4 6 8 7 5 2 1 1 N C CN 112578647 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种用于去除光刻胶残留物的清洗液，其特征在于，含有季胺氢氧化物，醇胺，醇类 溶剂，硅烷，