发明

一种超表面光学元件的制作方法

2023-05-19 11:10:54 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202210530855.X
  • 公开(公告)日:2025-07-04
  • 公开(公告)号:CN114873556A
  • 申请人:苏州山河光电科技有限公司
摘要:本申请实施例公开了一种超表面光学元件的制作方法,包括:在衬底的端面之上镀纳米材料,使得纳米材料覆盖衬底的完整端面;刻蚀部分纳米材料至衬底的端面,保留另一部分纳米材料,得到分立纳米柱结构;在分立纳米柱结构的间隙填充保护材料;刻蚀分立纳米柱结构间隙的保护材料,使得每个间隙的保护材料的高度均匀并小于分立纳米柱结构的高度,得到超表面光学元件。本申请通过在分立纳米柱结构的间隙镀保护材料,增强纳米柱结构的机械稳定性;控制保护材料的高度小于纳米柱的高度,保证上半部分裸露纳米柱结构和周围环境相对折射率差;在纳米柱顶部键合玻璃晶圆来保护纳米柱不受到外界的损坏;用支撑材料支撑玻璃晶圆防止其与纳米柱接触进行磨损。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114873556 A (43)申请公布日 2022.08.09 (21)申请号 202210530855.X B82Y 40/00 (2011.01) (22)申请日 2022.05.16 (71)申请人 天津山河光电科技有限公司 地址 300450 天津市滨海新区经济技术开 发区滨海-中关村科技园华塘睿城一 区3号楼二层B区015号 (72)发明人 孙磊 秦飞 李向平  (74)专利代理机构 北京墨丘知识产权代理事务 所(普通合伙) 11878 专利代理师 唐忠仙 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81C 3/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) B82Y 20/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图4页 (54)发明名称 一种超表面光学元件的制作方法 (57)摘要 本申请实施例公开了一种超表面光学元件 的制作方法,包括:在衬底的端面之上镀纳米材 料,使得纳米材料覆盖衬底的完整端面;刻蚀部 分纳米材料至衬底的端面,保留另一部分纳米材 料,得到分立纳米柱结构;在分立纳米柱结构的 间隙填充保护材料;刻蚀分立纳米柱结构间隙的 保护材料,使得每个间隙的保护材料的高度均匀 并小于分立纳米柱结构的高度,得到超表面光学 元件。本申请通过在分立纳米柱结构的间隙

最新专利