原创力.专利
用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法
- 申请专利号：CN201980066886.0
- 公开（公告）日：2025-06-17
- 公开（公告）号：CN112823312A
- 申请人：ASML荷兰有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112823312 A (43)申请公布日 2021.05.18 (21)申请号 201980066886.0 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2019.10.03 代理人 闫红 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/743,058 2018.10.09 US G03F 1/70 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G03F 7/20 (2006.01) 2021.04.09 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/076793 2019.10.03 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/074356 EN 2020.04.16 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 K ·Z ·特鲁斯特 E ·范塞滕 段福 ·史蒂芬 ·苏
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