发明

光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法

2023-06-02 12:39:32 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202010944925.7
  • 公开(公告)日:2025-08-01
  • 公开(公告)号:CN112506002A
  • 申请人:HOYA株式会社
摘要:本发明的课题在于提供光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制造方法,该光掩模能够在被转印体上形成具有优异的竖立的轮廓的抗蚀剂图案。一种光掩模,其在透明基板上具备包含透光部、遮光部和半透光部的转印用图案,其中,透光部是透明基板露出而成的,半透光部是在透明基板上形成透射控制膜而成的,遮光部具有边缘部和层积部,该边缘部沿着与透光部相邻的边缘以规定宽度D1(μm)(其中0.5≤D1)配置,其是在透明基板上形成相位控制膜而成的,该层积部配置于边缘部以外的区域,其是在透明基板上层积相位控制膜和透射控制膜而成的。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112506002 A (43)申请公布日 2021.03.16 (21)申请号 202010944925.7 H01L 21/027 (2006.01) H01L 21/033 (2006.01) (22)申请日 2020.09.10 (30)优先权数据 2019-167130 2019.09.13 JP (71)申请人 HOYA株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 山口昇  (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人 王博 褚瑶杨 (51)Int.Cl. G03F 1/38 (2012.01) G03F 1/50 (2012.01) G03F 1/58 (2012.01) G03F 1/66 (2012.01) 权利要求书3页 说明书14页 附图10页 (54)发明名称 光掩模、光掩模的制造方法和显示装置的制 造方法 (57)摘要 本发明的课题在于提供光掩模、光掩模的制 造方法和显示装置的制造方法,该光掩模能够在 被转印体上形成具有优异的竖立的轮廓的抗蚀 剂图案。一种光掩模,其在透明基板上具备包含 透光部、遮光部和半透光部的转印用图案,其中, 透光部是透明基板露出而成的,半透光部是在透 明

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