光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116413990 A (43)申请公布日 2023.07.11 (21)申请号 202111674610.6 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人 中芯国际集成电路制造（上海）有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区中国 （上海） 自由贸易试验区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造（北京）有限 公司 (72)发明人 严中稳　张戈　 (74)专利代理机构 上海知锦知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31327 专利代理师 郭学秀 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) G03F 1/72 (2012.01) 权利要求书2页 说明书13页 附图5页 (54)发明名称 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及 存储介质 (57)摘要 一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设 备及存储介质，修正方法包括：提供修正后图形； 检测修正后图形是否具有缺陷；在修正后图形具 有缺陷的情况下，对修正后图形进行动态的修复 处理，动态的循环迭代的修复处理中的调整量根 据缺陷动态调整，修正后图形具有一种类型的缺 陷时，将缺陷作为主缺陷 ，修正后图形具有多种 类型缺陷时，选择其中一种类型的缺陷作为主缺 陷，修复处理中出现的其余类型的缺陷均作为次 缺陷，修复处理包括 ：根据缺陷的类型调整修正 后图形；检测调整